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sidewall protection effectの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
By performing dry etching in a dry etching step, while controlling the temperature of the lower electrode of an etching device equal with or lower than 10°C, volatilization of a subproduct is suppressed, more stable sidewall protection effect can be obtained, and a uniform etching shape reducing the working shape difference between a coarse portion and a tight portion can be obtained.例文帳に追加
前記ドライエッチング工程にて、エッチング装置の下部電極温度を10℃以下に制御しドライエッチングを行うことにより、副生成物の揮発を抑制し、より安定した側壁保護効果が得られ、疎部、密部における加工形状差の少ない均一なエッチング形状が得られる。 - 特許庁
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