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titanizingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
A method for fabricating a cellular trench MOSFET includes depositing a first photoresist atop a first epitaxial (epi) layer to pattern a trench area, depositing a second photoresist atop a first gate conductor layer to pattern a mesa area, etching away part of the first gate conductor layer in the mesa area to form a second gate conductor layer with a hump, and titanizing crystally the second gate conductor layer to form a Ti-gate conductor layer.例文帳に追加
多孔質のMOSFETの製造方法は、トレンチ領域をパターニングするために第1のエピタキシャル(エピ)層の上に第1のフォトレジストを堆積する段階と、メサ領域をパターニングするために第1のゲート導体層の上に第2のフォトレジストを堆積する段階と、ハンプを有する第2のゲート導体層を形成するために前記メサ領域の前記第1のゲート導体層の部分をエッチング除去する段階と、Tiゲート導体層を形成するために前記第2のゲート導体層を結晶的にチタン化する段階と、を含む。 - 特許庁
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