「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 127 128 129 130 131 132 133 134 135 .... 366 367 次へ＞- To provide an image forming apparatus capable of reducing the occurrence of image quality defect such as uneven density and fogging.
濃度むらやカブリといった画質欠陥の発生を低減させることのできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - Thus, the light from a backlight light source does not leak out to the side of an observer and the display defect can be improved.
これにより、バックライト光源からの光は観測者側に漏れ出すことがなく、表示不良を改善できる。 - 特許庁 - The parameter calculated in the processing process is set as a threshold for blot defect detection in a threshold setting process.
閾値設定工程では、画像処理工程にて算出されたパラメータをシミ欠陥検出用閾値として設定する。 - 特許庁 - To provide a level shift circuit capable of coping with the case of a manufacturing defect caused in a capacitive element in a manufacturing process.
製造プロセスの容量素子に製造欠陥が生じた場合に対応可能なレベルシフト回路を提供する。 - 特許庁 - To easily perform a preheating of a work and a temperature control and to improve service life of a tool while preventing non-filling defect.
ワークの予熱及び温度管理を容易にでき、未充填欠陥を防止しつつ、ツール寿命を向上する。 - 特許庁 - To reduce the defect of a mold-releasing film caused by large rough projections and film chips without lowering the flatness of the film.
フィルムの平面性を低下させず、粗大突起やフィルムの削れ粉による被離型膜の欠陥を低減する。 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN GRAY TONE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK, GRAY TONE MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
グレートーンマスクの欠陥修正方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁 - This device is characterized by operating a signal in each measuring condition by operation devices 12a, 12b, and detecting a defect.
１２ａ、１２ｂの演算装置により、それぞれの測定条件における信号を演算し、欠陥を検出する。 - 特許庁 - To provide a memory system for ensuring the entire reliability and relaxing a defect level permitted for a single chip.
全体の信頼性を確保しつつチップ単体に許容される不良率を緩和したメモリシステムを提供すること。 - 特許庁 - To perform erasure correction by detecting a medium defect in an early stage in a reproducing device performing error correction.
誤り訂正を行う再生装置において、媒体欠陥を早期に検出して、消失訂正を行う。 - 特許庁 - To make it possible to irradiate also a minute defect with a light beam with accuracy while observing a photo mask by using an optical microscope.
フォトマスクを光学顕微鏡を用いて観察しつつ、微小な欠陥にも精度良くビームを照射する。 - 特許庁 - To prevent the occurrence of the problem of a connection defect between a radiating electrode 3 and an auxiliary element 4, which is caused by working accuracy.
加工精度に起因した放射電極３と補助エレメント４の接続不良問題の発生を防止する。 - 特許庁 - The display defect due to a light-shielding material used for the frame section 33 can be surely prevented by a simple configuration.
額縁部33に用いた遮光性材料に起因した表示不良を簡単な構成で確実に防止できる。 - 特許庁 - 4.Disclaimer clause of defect warranty liability or non-performance of the main obligation
（４）ライセンス契約中に瑕疵担保責任又は債務不履行責任に関する免責特約がある場合の扱い - 経済産業省 - METHOD AND SYSTEM FOR DETECTING DEFECT BY 8- NEIGHBORHOOD POINT ADJOINING COMPARISON SYSTEM IN IMAGING INSPECTION DEVICE
撮像検査装置における８近傍点隣接比較方式による欠陥検出方法、欠陥検出システム - 特許庁 - because none is without defect, none without a burden, none sufficient of himself, none wise enough of himself;
欠点のない人、重荷を持たない人、一人でやっていける人、十分に賢い人、そのような人はいないのです。 - Thomas a Kempis『キリストにならいて』 - This defect review device is for having an operator observe a defect on a wafer 1 and comprises: a stage 2 for mounting the wafer 1; an observation mechanism for observing the defect of the wafer 1 on the stage 2; and a laser irradiation mechanism for irradiating the IC chip confirmed as being defective by the operator with a laser and marking a defective mark.
本発明に係る欠陥レビュー装置は、オペレータがウエハ１上の欠陥を観察する欠陥レビュー装置であって、ウエハ１を載置するステージ２と、ステージ２上のウエハ１の欠陥を観察する観察機構と、オペレータが不良と確認したＩＣチップにレーザーを照射して不良マークをつけるレーザー照射機構と、を具備するものである。 - 特許庁 - This optical disk is provided with 1st and 2nd recording layers 11, 12 laminated on a substrate 10 and a defect list recording area 15 arranged at the end of the lead-in areas 13 of the recording areas 11, 12, and the defect list containing information on medium defects of both recording layers 11, 12 is recorded in each defect list recording area 15.
基板１０上に書き換え可能な第１及び第２の記録層１１，１２が積層された光ディスクにおいて、記録層１１，１２のリードイン領域１３の末尾に欠陥リスト記録領域１５が配置され、それぞれの欠陥リスト記録領域１５に記録層１１，１２の両方の媒体欠陥に関する情報を有する欠陥リストが記録される。 - 特許庁 - When the granular foreign substances (x) of transparent or translucent synthetic resins are mixed into the liquid crystal layer 19 in a manufacturing process, a number of pieces of the granular foreign substances (x) aggregate and generates an aggregation defect X, and there is the possibility that this defect is a bright point defect to transmit light at all times, regardless of the orientation state of the liquid crystal.
製造工程にて液晶層１９中に透明または半透明な合成樹脂の粒状異物ｘが混入すると、その粒状異物ｘが多数個凝集して異物凝集欠陥Ｘが生じ、そこが液晶の配向状態とは無関係に光を常時透過する輝点欠陥となる可能性がある。 - 特許庁 - An endoscope device 3 includes a feature detection part for detecting a first feature part of an inspection object from an image based on a first condition, a defect detection part for detecting a first defect part of the inspection object based on the first feature part, and a display part for displaying information indicating the first defect part with an image thereof.
内視鏡装置３は、第１の条件に基づいて、画像から検査対象物の第１の特徴部を検出する特徴検出部と、第１の特徴部に基づいて、検査対象物の第１の欠陥部を検出する欠陥検出部と、第１の欠陥部を示す情報を、画像と共に表示する表示部とを有する。 - 特許庁 - To provide a painting defect inspection method, capable of determining accurately and easily existence of a painting defect, when irradiating with light, a base material having an irregular surface, on which a paint film is formed on the irregular surface, and when detecting reflected light from the paint film, to thereby detect a painting defect based on intensity of the reflected light.
凹凸面を有しこの凹凸面に塗膜が形成された基材に対して光を照射すると共に前記塗膜からの反射光を検出し、この反射光の強度に基づいて塗装不良を検出するにあたり、塗装不良の有無を正確且つ容易に判定することができる塗装不良検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect detection device capable of determining a defect with a proper criterion in accordance with the proportion of included colors, even when the defect includes a pixel of a plurality of colors, in a technique for detecting defects of a display panel, by picking up by a camera an image displayed on the display panel, including pixels of a plurality of colors such as a color LCD panel.
本発明は、カラーＬＣＤパネル等の複数の色の絵素を備える表示パネルに表示された画像をカメラで撮像し、表示パネルの欠陥を検出する技術に関し、欠陥が複数の色の絵素を含む場合においても、含まれる色の割合に応じて適切な基準で判断することができる欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁 - In the printed matter inspecting method, a periphery of a detected defect candidate is searched after performing first positional correction using a standard image and the inspected image, and whether it is a real defect is determined by performing second positional correction relating to the defect candidate determined to have high possibility of error detection caused by the geometric distortion.
基準画像と検査画像を用いて第一の位置補正を行った後に、検出された欠陥候補に対してその周辺部を探索し、幾何学的歪みに起因した誤検知の可能性が高いと判定された欠陥候補に対しては、第二の位置補正を行い真の欠陥であるかを判定することを特徴とする印刷物検査方法。 - 特許庁 - A glass plate G is sucked and fixed to a table 2 after a defect is detected on the surface of the glass plate G by a detecting means 4, and the position of the defect D detected by the detecting means 4 and its surrounding area are polished by a polishing pad 34 having a smaller outer form size than that of the glass plate G, so that the defect D is removed without an entire polishing to be made.
検出手段４によりガラス板Ｇ表面の欠陥を検出した後にガラス板Ｇをテーブル２へ吸着固定し、ガラス板Ｇの外形サイズよりも小さい外形サイズの研磨パッド３４により検出手段４により検出された欠陥Ｄの位置とその周囲を研磨することにより、全面研磨せずとも欠陥Ｄを除去する。 - 特許庁 - This device is configured such that when a defect is detected in an optical disk, a signal input to a pickup drive part is a difference signal between the output signal of a pickup simulation circuit equivalent to a tracking error signal before the defect is detected and the output signal of the pickup simulation circuit during defect detection.
本実施形態に記載のサーボ制御装置は、光ディスクにおいて欠陥が検出された場合に、ピックアップドライブ部に入力される信号が、欠陥が検出される前のトラッキングエラー信号に相当するピックアップ摸擬回路の出力信号と、欠陥検出中におけるピックアップ模擬回路の出力信号の差分信号となるような構成を有することとした。 - 特許庁 - In a memory tester for detecting a defective bit by probing a memory to be measured and performing the operation of replacing the defective bit by a redundant cell in a memory to be measured, a line defect detecting circuit (10) for performing detection of a defective bit is constituted of a forward line defect detecting circuit (11) and a backward line defect detecting circuit (12).
被測定対象メモリをプローブして不良ビットを検出し、当該不良ビットを被測定対象メモリ上の冗長セルへの置き換え演算を実行するメモリテスタにおいて、不良ビットの検出を実行するためのライン不良検出回路(10)を、順方向ライン不良検出回路(11)及び逆方向ライン不良検出回路(12)とで構成する。 - 特許庁 - When the determination unit 220 determines the recovery of the defect portion, the communication control unit 210 requests the data distribution server 10 to retransmit the defect portion by using the communication wave transmission/reception function and receives the defect portion transmitted from the data distribution server 10 based on the retransmission request by using the communication wave transmission/reception function.
通信制御部２１０は、判断部２２０が欠損部分を修復すると判断した場合に、通信波送受信機能を用いて、データ配信サーバ１０に欠損部分を再送するように要求し、且つ当該再送要求に基づいてデータ配信サーバ１０から送信される欠損部分を通信波送受信機能を用いて受信する。 - 特許庁 - To provide a display device for which a more practical method for correcting a defect is easily and certainly applied and the method for correcting the defect by omitting a drawing process of an insulating film, preventing another short-circuitting in a wiring drawing process, making a drawn pattern a simple shape and preventing a wiring performance from lowering when correcting the defect.
絶縁膜の描画工程を省略し、配線の描画工程で新たな短絡の発生を抑止し、描画パターンを単純な形状として欠陥修正による配線性能の低下を防止して、より実用的な欠陥修正を容易且つ確実に行うことを可能とする表示装置及び欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - A unit for controlling color panels (R, G, and B panel modules 31, 32, and 33), connected optically in series and a luminance panel (luminance panel module 50), includes a defect correction data storing part 103 for storing information specifying defective pixels of color panels and a defect correction circuit 102 for controlling the luminance panel according to the defects of defective pixels stored in the defect correction data storage part 103.
光学的に直列につながれた色パネル（R、G、Bパネルモジュール31、32、33）と輝度パネル（輝度パネルモジュール50）を制御する装置であって、色パネルの欠陥画素を特定する情報を記憶する欠陥補正用データ記憶部103と、欠陥補正用データ記憶部103に記憶されている欠陥画素の欠陥に応じて輝度パネルを制御する欠陥補正回路102とを備えている。 - 特許庁 - The inspection supporting system sorts each defect detected with an inspection apparatus conforming to a plurality of inspecting conditions in accordance with combinations of the inspecting conditions for detecting respective defects, and calculates for each sorting visual distribution of the inspection objects of the defect belonging to each sorting on the basis of the location information of the defect belonging to the relevant sorting.
本検査支援システムは、複数の検査条件によって検査装置が検出した各欠陥を、その欠陥が検出された検査条件の組み合わせで分類し、各分類ごとに、その分類に属する欠陥の、検査対象の外観上における分布を、当該分類に属する欠陥の位置情報に基づき算出する。 - 特許庁 - To provide an image correction apparatus and an imaging unit which enable eye-related defect such as red-eye portions or gold-eye portions in an image to be confirmed by a simple operation, as an image correction apparatus and an imaging unit for detecting eye-related defect such as red-eye portions or gold-eye portions in an image and correcting the detected defect.
本発明は、画像中の赤目部分や金目部分などといった目の不具合を検出し、検出された不具合を修正する画像修正装置および撮像装置に関し、画像中の赤目部分や金目部分などといった目の不具合の確認が、容易な操作で実現される画像修正装置および撮像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To eliminate variations in defect detection accuracy among factories and inspection systems, to check the detection limits and functions of an inspection machine, and to adjust its sensitivity, by providing a reference sample bottle having a pseudo defect of definite properties comparable with an actual defect, a bottle inspection system equipped with the same, and a calibrating method for the bottle inspection system.
実際の欠陥に見合った一定な性状の擬似欠陥を持った基準サンプル壜、それを備えた壜検査システム、及び壜検査システムの校正方法を提供することにより、各工場、検査システム間の欠陥検出精度のばらつきを解消し、かつ検査機の検出限界、機能の確認及び感度の調整を可能にする。 - 特許庁 - Also, where the imaging apparatus uses live view image data successively acquired with an imaging element before main photographing to calculate AE/AWB correction value (control information), if a V line defect exists on the live view image, the imaging apparatus does not use pixel data equivalent to the V line defect from among the image data, but uses correction data by the V line defect correction.
また、撮像装置では、本撮影前において撮像素子で順次に取得するライブビュー画像データを利用してＡＥ・ＡＷＢ補正値(制御情報)を算出するが、ライブビュー画像にＶライン傷が存在する場合には、画像データのうちＶライン傷に相当する画素データを用いず上記のＶライン傷補正による補正データを利用する。 - 特許庁 - Thus, since the class of the defect is discriminated by clustering processing based on the feature value calculated from the information of the differential, in comparison with a case where an operator discriminates a defect class by individually and qualitatively inspecting the output image, for example, discrimination accuracy is not affected by operator's superior/inferior capability of estimating the defect class.
この構成によれば、差分の情報から算出した特徴値に基づいてクラスタリング処理により欠陥種別を判定するため、例えば、オペレータが個別的かつ定性的に出力画像を検査して欠陥種別を判別する場合と比べて、判別精度がオペレータの欠陥種別を推測する能力の優劣に影響を受けることがない。 - 特許庁 - To provide a defect evaluation method capable of precisely and rapidly preparing a flaky sample for electron microscope observation by a converged ion beam sample preparing device in relation to a semiconductor crystal including an internal defect used as an observation object and capable of evaluating the crystalline defect in detail by observing the flaky sample with an electron microscope.
観察対象とする内部欠陥を含む半導体結晶に対し、収束イオンビーム試料作製装置による電子顕微鏡観察用薄片試料の作製を高精度かつ短時間で行うことができ、該薄片試料を電子顕微鏡で観察することによって詳細に結晶欠陥の評価を行うことができる欠陥評価方法を提供する。 - 特許庁 - This method detects the defect by etching an inspection object until at least a part of the defect existing inside the inspection object appears on a surface of the inspection object, and is the defect detecting method comprising an etching step of etching the inspection object by an anisotropic etching method being an etching method comprising a maximum etching speed in the prescribed direction.
被検査物の内部に存する欠陥の少なくとも一部が該被検査物の表面に現れるまで該被検査物をエッチングして欠陥を検出する方法であって、所定方向に最大のエッチングの速度を有するエッチング方法である異方性エッチング方法により被検査物をエッチングするエッチングステップを備えてなる、欠陥検出方法である。 - 特許庁 - A method for measuring a dislocation density of a fluoride crystal comprises a step to generate a defect aggregate 03 in a dislocation line 02 in the fluoride crystal 01, a step to measure the dislocation density by optically detecting the defect aggregate 03 and a step to erase the defect aggregate 03.
フッ化物結晶の転位密度を測定する方法であって、フッ化物結晶０１中の転位線０２に欠陥集合体０３を発生させる工程と、前記欠陥集合体０３を光学的に検出して転位線密度を測定する工程と、前記欠陥集合体０３を消去する工程とを有するフッ化物結晶の転位密度測定方法。 - 特許庁 - In the method for applying the defect correction and the calibration to image data (100) in the image system using a plane spatial optical modulator (146), a tone correction LUT (148') is applied to the image data (100) and the calibration correction is applied before the defect correction of using a defect map (122) and an associated gain table (124).
面空間光変調器（１４６）を使う画像システムにおいて画像データ（１００）に欠陥修正及び較正を適用する方法であって、画像データ（１００）にトーン修正ＬＵＴ（１４８’）を適用し、欠陥マップ（１２２）及び関連する利得テーブル（１２４）を使う欠陥修正を適用する前に、較正修正を適用する。 - 特許庁 - To prevent a defect from being transferred onto a wafer substrate, by reducing the thickness of an organic film for correcting an opening-like defect by treatment on a line even when performing a washing treatment at specified timing to suppress the variations in pattern line width after exposure, and by the decreased shielding capability in charged particle beams at the defect portion.
露光後のパターン線幅の変動を抑えるべく所定タイミングで洗浄処理を行う場合であっても、その線上処理によって開口状欠陥を修正する有機膜の膜厚が減少し、その欠陥部分における荷電粒子線の遮蔽能力低下により、ウエハ基板上へ欠陥が転写されてしまうのを回避できるようにする。 - 特許庁 - A defect inspection apparatus performs a defect inspection of the thin film under inspection conditions corresponding to the management number in the recording medium, transmits defect inspection information to the host computer by associating it with the management number, stores the substrate after the inspection in a third distribution cassette, and write the management number in the recording medium.
欠陥検査装置は第２の流通カセットから取り出した基板に対し、その記録媒体内の管理番号に対応する検査条件で薄膜の欠陥検査をし、欠陥検査情報を管理番号と対応付けてホストコンピュータに送信し、検査後の基板を第３の流通カセットに収納してその記録媒体に管理番号を書き込む。 - 特許庁 - This nitride semiconductor device includes: a first nitride semiconductor layer 107 formed on a substrate 101; a defect introduction layer 108 formed on the first nitride semiconductor layer 107; and a second nitride semiconductor layer 109 formed in contact with a surface of the defect introduction layer 108 and having an opening for exposing the defect introduction layer 108.
窒化物半導体装置は、基板１０１の上に形成された第１の窒化物半導体層１０７と、第１の窒化物半導体層１０７の上に形成された欠陥導入層１０８と、欠陥導入層１０８の上に接して形成され、欠陥導入層１０８を露出する開口部を有する第２の窒化物半導体層１０９とを備えている。 - 特許庁 - The method for correcting defects of a color filter that is formed with at least the colored layer and the black matrix on the TFT substrate includes: a step for previously coloring the defect correcting part of the color filter by carbonization; and a step for applying a laser beam to the defect correcting part and removing the defect correcting part by the laser ablation.
ＴＦＴ基板上に少なくとも着色層、ブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタの欠陥修正方法において、予め前記カラーフィルタの欠陥修正部分を炭化着色させる段階と、その後前記欠陥修正部分にレーザー光を照射して前記欠陥修正部分をレーザーアブレーションにより除去する段階と、を具備する。 - 特許庁 - To obtain a silicon single crystal having no crystal defect, to obtain the silicon single crystal in which a grow-in defect is removed by subjecting a block silicon single crystal grown in a fast growing speed as it is to heat treatment in an oxidizing atmosphere and a specified temperature range and to eventually obtain a wafer having no grow-in defect by slicing the silicon crystal.
この発明は、結晶欠陥のないシリコン単結晶を得ようとしたもので、早い育成速度で育成したブロック状シリコン単結晶を、そのまま酸化雰囲気で特定の温度範囲で熱処理を行うことでグローンイン欠陥を除去したシリコン単結晶として、これをスライスして最終的にもグローンイン欠陥のないウェーハを得ようとするものである。 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus and a defect inspection method, which enable potential failures and signs of abnormality to be discovered in order to prevent any defect from occurring in its market, by referring to history information in the inspection process, even in the case of an object to be inspected whose apparent operation is normal or whose characteristic meets a specification.
検査時に履歴情報も参照することにより、見かけ上正常動作しているまたは規格値に入っている検査対象であっても、潜在的な故障や異常の兆候を発見できるようにして市場での不良発生を未然に防止することができる不良検査装置および不良検査方法を提供する。 - 特許庁 - In a surface defect inspecting apparatus for optically inspecting the surface of an object 11, a condensing point of laser beam is formed in the vicinity of the surface of the object and scanned on the surface of the object in a concentric circular state and a change in the quantity of light generated by a surface defect is detected to judge the surface defect by a signal processor 21.
対象物１１表面を光学的に検査する表面欠陥検査装置であって、対象物表面近傍にレーザ光による集光点を形成し、集光点を対象物１１表面で同心円状に走査し、表面の欠陥によって発生する光量変化を検出して信号処理装置２１によって欠陥判定を行なう。 - 特許庁 - To obtain a liquid crystal display device whose yield and display quality are enhanced without the need of excessive costs by repairing a line defect due to disconnection confirmed by display inspection after a CF is stuck and turning a bright spot defect into an inconspicuous black spot defect without introducing an inspection device in a TFT substrate state.
TFT基板状態での検査装置を導入することなく、CF貼り付け以降の表示検査で確認された断線による線欠陥を修復、および輝点欠陥を目立たない黒点欠陥にすることで、歩留まりの向上および表示品質の向上した液晶表示装置を余分なコストをかけることなく得ることを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for correcting a defect part of a black matrix so that a corrected part can not be visually confirmed even if a color filter is lit as a display device after the defect part is corrected when the defect part caused at the black matrix of a color filter is corrected, and to provide the color filter corrected by the method.
カラーフィルタのブラックマトリックスに生じた欠陥部分を修正する場合において、修正後に表示装置として点燈した場合においても修正個所が視認されないようなブラックマトリックスの欠陥部分の修正方法を提供し、さらにこの方法により修正されたカラーフィルタを提供することを主たる課題とする。 - 特許庁 - Image data representing a light emission defect part for reference is acquired by a reference defect acquiring means 60 when irradiating an erased radiation image transformation panel 10 from which remaining radiation energy has already been erased with stimulating light Le.
残存する放射線エネルギが消去された消去済の放射線像変換パネル１０へ励起光Ｌｅを照射したときに、参照欠陥取得手段６０により参照用の発光欠陥部位を表す画像データを取得する。 - 特許庁 - To make it possible not to expand any defect by using a detector for a long term, when there is the defect on an image which is generated resulting from a malfunction in a photoconduction layer constituting the detector in a radiation image detector.
放射線画像検出器において、検出器を構成する光導電層中の不良に起因して生じる画像上の欠陥がある場合に、長期に亘る検出器の使用により、欠陥を拡大させないようにする。 - 特許庁 - A value obtained by subtracting a density of a center pixel from a defect surrounding density, which is a density obtained by applying a filter arithmetic operation to the center pixel affected by the defect, is used as a correction amount (S7e).
傷による影響を受けている画素を中心画素としたフィルタ演算により得られる濃度を傷周辺濃度として、上記傷周辺濃度から上記中心画素の濃度を減算して得られる値を補正量とする（Ｓ７ｅ）。 - 特許庁
- 特許庁
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- 経済産業省
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- 日英対訳文対応付けデータ
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- 原題：”The Imitation of Christ”
邦題：『キリストにならいて』 - This work has been released into the public domain by the copyright holder. This applies worldwide.
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- 原題：”The Imitation of Christ”
