「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 128 129 130 131 132 133 134 135 136 .... 366 367 次へ＞- To provide a method and a program for determining the inspection timing for in-vessel structures which realize safe and economical operation of a reactor by omitting unnecessary defect tests, to determine the time the necessary defect tests are to be carried out.
不必要な欠陥検査を省いて欠陥検査を実施する時期を決定することにより、安全かつ経済的な原子炉の運転を実現した炉内構造物の検査時期決定方法およびその決定プログラムを提供する。 - 特許庁 - To suppress rise of a manufacturing cost by shortening a write-in time of a defective address for performing defect relieving and shortening a test time when a plurality of chip regions are measured simultaneously to relieve defect in a wafer state.
ウエハ状態で不良救済のために複数のチップ領域を同時に測定しようとする際、不良救済を行うための不良アドレスの書き込み時間を短縮してテスト時間を短縮し、製造コストの高騰を抑制する。 - 特許庁 - To obtain a MLC display based on an ECB effect, having only a small degree of defect of conventional technique or no defect at all, preferably an extremely high resistance value and a low threshold voltage at the same time.
従来技術の欠点を小さい程度でのみ有するか、または全く有しておらず、好ましくは非常に大きい抵抗値および低いしきい値電圧を同時に有するＥＣＢ効果に基づくＭＬＣディスプレイを提供する。 - 特許庁 - Since the defect inspection device 3 is disposed by utilizing the beam transmission part 15, the conveyance inspection device capable of performing defect inspection during conveyance in the noncontact state even when the conveyance object is a transparent material is provided.
この光線透過部１５を利用して欠陥検査装置３が配設されていることにより、搬送対象物が透明材料であっても、非接触状態での搬送中に欠陥検査が行える搬送検査装置が提供される。 - 特許庁 - To provide a light shielding material capable of restoring a bright spot defect caused due to a polarizing plate for liquid crystal panels without deteriorating a polarizer, and a method for restoring the bright spot defect of the polarizing plate using the light shielding material.
液晶パネル用偏光板に起因して生じた輝点欠陥を、偏光子を劣化させず修復可能である遮光材料とこの遮光材料を用いた偏光板の輝点欠陥修復方法を提供する - 特許庁 - To provide a positioning method of a color filter substrate for positioning a color filter substrate in a short time with good accuracy when a defect of the color filter substrate inspected by a defect inspection device is corrected by a color filter correction system.
欠陥検査装置で検査されたカラーフィルタ基板の欠陥をカラーフィルタ修正装置にて修正する際、カラーフィルタ基板を精度良く、短時間に位置決めするためのカラーフィルタ基板の位置決め方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - When the hard disk drive system (50) receives a defect data read command sent by a host processor (30), the hard disk drive system (50) returns time correlated growth defect information to the host processor (30).
ハードディスク・ドライブ・システム（５０）がホスト処理装置（３０）から送信された欠陥データ読み取りコマンドを受信した場合、ハードディスク・ドライブ・システム（５０）は時間と関連付けられた成長欠陥の情報をホスト処理装置（３０）に返信する。 - 特許庁 - To provide a method for correcting a defect of a color filter with which no new projection nor color mixing are produced on surrounding pixels even when a correction liquid is stuck to a correction opening produced by laser beam in correcting a pixel defect of the color filter.
カラーフィルタの画素欠陥を修正する際に、レーザー光にて設けた修正口に修正液を被着させても、周囲の画素上に新たな突起や混色を発生させないカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - To enable an increased possibility of increasing white defect parts in a radiation image to be detected before a clear increase tendency occurs in the white defect parts in the radiation image as an adhesion member deteriorates with time.
密着部材の経時劣化に伴って放射線画像中の白欠陥部に明確な増加傾向が現れる前に、放射線画像中の白欠陥部が増加する可能性が高くなったことを検知することが可能とする。 - 特許庁 - To provide a method for masking a CCD defect from an examination target by including a means for automatically specifying a CCD defective pixel in a panel picture quality examination apparatus for examining a point defect corresponding to one pixel of a plasma display or the like.
プラズマディスプレイ等の１画素相当の点欠陥を検査するパネル画質検査装置における ＣＣＤ 欠陥画素を自動特定する手段を有し、ＣＣＤ 欠陥を検査対象からマスクする方法を提供する。 - 特許庁 - As a result, a detection range (a light receiving range) is lengthwise longer, resulting in representing the change in the widthwise contrast of the PS plate 10 larger and realizing in the exact detection of a defect part R even when the defect part has a shape of a longitudinal streak continuous in a conveying direction.
このため、検出範囲（受光範囲）が縦長になり、ＰＳ版１０の幅方向のコントラストの変化が大きく出るため、搬送方向に連続した縦筋のような欠陥部Ｒであっても、正確に検出できる。 - 特許庁 - To provide a coating defect inspection method of a magnetic tape that can detect a coating defect on line and specify its position in applying magnetic coating material with a die coater, can efficiently manufacture the magnetic tape correspondingly, and requires only small amount of inspection cost.
磁気塗料をダイコータで塗布する際に、オンラインで塗工欠陥を検出してその位置を特定でき、その分だけ磁気テープを能率よく製造でき、しかも検査コストが少なくて済む磁気テープの塗工欠陥検査法を提供する。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus which can avoid an increase in starting time up to the start of imaging after a power supply is turned on by the detection of a white spot defect while a newly generating white spot is corrected, and to provide a method for correcting the defect.
新たに発生する白点欠陥を補正しつつ、白点欠陥の検出による電源投入後撮像開始までの起動時間の増大を回避することができる撮像装置および欠陥補正方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an optical recording medium which has no or less defect to the outermost periphery of a recording area, as a defect does not arise or being hardly generated even if a cleaning fluid permeates a protective layer which comprises inorganic materials.
洗浄液が無機材料からなる保護層へ浸透しても欠陥が生じないか又は生じにくくなり、記録領域の最外周まで欠陥が無いか又は少ない光記録媒体の製造方法の提供。 - 特許庁 - Alternatively, a first electron optical system for the defect detecting inspection and a second electron optical system only for review for observing a specific narrow part detected by the defect detecting inspection are stored in parallel in the same vacuum vessel.
または、欠陥検出検査の為の第１の電子光学系と欠陥検出検査により検出された特定の狭い部位を観察するレビュー専用の第２の電子光学系とを同一の真空容器内に並べて収容する。 - 特許庁 - The leak defect detection circuit 5 detects a fluctuations in voltage at specified places in the path from the main wire through the MOS capacitor 1 down to the ground wire, thus detecting the defect that a current leaks into an insulating membrane of the MOS capacitor.
リーク不良検出回路５は、電源線からＭＯＳキャパシタ１を経由してグランド線に至る経路の所定部位における電圧変動の検出によって、該ＭＯＳキャパシタの絶縁膜に電流がリークする不良を検出する。 - 特許庁 - Based on the amount of detected movement and the pixel value of one of the phase difference detection pixels in the first pixel data, the defect correction unit 330 corrects the pixel value of the defect pixel in the second image data.
そして、欠陥補正部３３０は、前記検出された移動量および前記第１の画像データにおける一方の位相差検出画素の画素値に基づいて、前記第２の画像データにおける前記欠陥画素の画素値を補正する。 - 特許庁 - To provide an an image forming apparatus with a simple structure with which the foreign substances stuck to the interior of an apparatus main body can be removed and the occurrence of an image defect, paper sheet conveyance defect, etc., can be effectively prevented.
簡単な構成で、装置本体内に付着した異物を除去するとともに、画像不良や用紙搬送不良等の発生を効果的に防止することができる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The detection rack part calculates the incidence of defect and operates in a restriction mode which suppresses (does not pass to the data processing part 23) an output of the defect information consisting of the image information, if the calculated incidence is higher than a determination value.
検出ラック部は、欠陥の発生頻度を求め、その求めた発生頻度が、判定値より大きい場合には、画像情報からなる欠陥情報の出力を抑制する（データ処理部２３に渡さない）制限モードで動作する。 - 特許庁 - To provide a display device capable of preventing a wiring defect on a display panel and stably inspecting such wiring defect and, moreover, capable of suppressing deterioration of manufacturing yield.
表示パネル上の配線不良を防止すること及びこのような配線不良を安定して検査することが可能であり、しかも、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To assure defect analysis and to shorten defect analyzing time by generating surely auto-power-down control signal in a short time by electrical control from the outside of a semiconductor memory, and suppressing forcedly an auto-power-down function.
半導体メモリの外部からの電気的な制御により短時間で確実にオートパワーダウン制御信号を生成してオートパワーダウン機能を強制的に抑止し、不良解析の確実化、不良解析時間の短縮化を図る。 - 特許庁 - On the other, signals of the sensors each corresponding to the same location are compared and computed at a comparator 11, a defect is detected at a signal computing device 12 on the basis of the signals, and the location of the depth of the defect is simultaneously measured.
もう一方は、比較装置１１にてそれぞれのセンサの同一位置に対応する信号を比較演算し、その信号を基に信号演算装置１２にて欠陥の検出を行うと同時にその欠陥の深さ位置を測定する。 - 特許庁 - The salesperson knows its own characteristics (advantage and disadvantage) or defect on business operation by confirming the analysis results outputted to the sub PC 1C, and considers an improvement plan for developing the advantage or overcoming the defect.
外交員は、サブＰＣ１Ｃに出力された分析結果を確認することにより自分の営業活動上の特性（長所と短所）や欠落点に気づき、その長所を伸ばしたり欠落点を克服するための改善案を考慮する。 - 特許庁 - The system 100 may includes also processor 124 for converting coordinates on an X-ray detection panel 110 of the X-ray detector 108 for detecting an optional defect into a digital expression 128 in a position on the component 102 of the optional defect.
任意の欠陥を検出したＸ線検出器（１０８）のＸ線検出パネル（１１０）上の座標を、該任意の欠陥の構成部品（１０２）上の位置のデジタル表現（１２８）に変換するプロセッサ（１２４）を含むことができる。 - 特許庁 - Thereafter, the image data expressing the light emission defect part for detection is acquired by a detection defect acquiring means 65 when irradiating the panel 10 exposed by radiation through an object with the stimulating light Le.
その後、被写体を通して放射線が曝射された上記放射線像変換パネル１０へ励起光Ｌｅを照射したときに、検出欠陥取得手段６５により検出用の発光欠陥部位を表す画像データを取得する。 - 特許庁 - The method for detecting membrane defect comprises continuously measuring a potential difference between a reference electrode and a detecting electrode set on the permeating liquid side of the membrane, and detecting a defect of the membrane by fluctuation of the potential difference.
基準電極と、前記膜の透過液側に設置される検知電極との間の電位差を連続的に測定し、当該電位差の変動により前記膜の欠陥を検出することを特徴とする膜欠陥検出方法である。 - 特許庁 - A signal pattern is discriminated from a center of gravity pixel and surrounding pixels in real-time processing, during photographing of video and a pixel having an extremely large or small level, as compared with surrounding pixels, is regarded as a defect, and pixel defect correction is performed.
映像撮影中にリアルタイムの処理で重心画素とその周囲の画素から信号のパターンを判別し、周囲と比較して1画素だけ極端の大きいレベルや小さいレベルの画素を欠陥とみなし画素欠陥補正を行なう。 - 特許庁 - This device 1 for inspecting defect is a device equipped with an image processing means 12 for inspecting a defect by imaging an inspection signal acquired from an inspected object S and applying a spatial filter to such an inspection image.
本発明に係る欠陥検査装置１は、被検査物Ｓから得られた検査信号を画像化し、当該検査画像に空間フィルタを適用することによって欠陥を検査する画像処理手段１２を備えた装置である。 - 特許庁 - When the defect of a reproducing RF signal 100 outputted from an RF amplifier 2 is detected by a defect detection circuit 8, its detection signal 400 is delayed by a rear edge delay circuit 9 to be outputted to a switch circuit 3.
ＲＦアンプ２から出力される再生ＲＦ信号１００の欠陥を欠陥検出回路８が検出すると、その検出信号４００を後縁遅延回路９により遅延し、これをスイッチ回路３に出力する。 - 特許庁 - Detection time is shortened and the cost is reduced by scanning the surface of a substrate, while irradiating with a focused zone laser beam 11, thereby detecting a defect on the surface of the substrate regardless of the directivity of the defect 6.
集光輪帯レーザビーム１１を基板表面上に照射して走査させることにより、欠陥６の方向性に依存しない基板表面の欠陥検出を実現し、検出時間の短縮とコストの低減を図る。 - 特許庁 - The solar battery inspection apparatus includes a defect position identifying means which applies a search window 43 to a cell image, representing an energized solar battery cell to identify the position of a strip-shaped defect in the solar battery cell.
本発明の太陽電池の検査装置は、通電された状態の太陽電池セルを表すセル画像に探索窓４３を適用して、太陽電池セル内の帯状の欠陥の位置を特定する欠陥位置特定手段を備える。 - 特許庁 - Namely, when a predetermined number of defects are not removed from the substrate through the cleaning processing on the substrate, the possibility that a defect is present in the mask substrate is high, so detection processing for the defect in the substrate is carried out.
すなわち、基板の洗浄加工処理によって基板から所定数の欠陥が除去されなかった場合には、マスク基板の内部に欠陥が存在する可能性が高いので、基板内部の欠陥の検出処理行い。 - 特許庁 - The image processing device 1 detects defect pixels by performing image processing on image data, and performs quality determination on the inspection target based on a first inspection condition C1 set based on either the number or positions of defect pixels.
画像処理装置１は、画像データを画像処理することで欠陥画素を検出し、欠陥画素数または位置の何れか一方に基づいて設定された第１の検査条件Ｃ１によって、検査対象物の良否判定を行う。 - 特許庁 - The crystal defect of the trap level generated by performing termination processing to the crystal defect formed in the region of <0.2 eV in the energy difference from the center of the band gap is small in dependency with respect to a leak current.
バンドギャップの中心からのエネルギー差が０．２ｅＶ未満の領域内に形成されている結晶欠陥を終端処理することにより生じるトラップ準位の結晶欠陥は、リーク電流に対する依存性が弱い。 - 特許庁 - In the method for determining the type of a defect in a weld, the ultrasonic response signals gathered from a plurality of the measuring places set along the weld are analyzed to determine a defect position.
溶接部内の欠陥のタイプを決定するための方法は、溶接部に沿った複数の測定箇所から集められた超音波応答信号を解析することによって、欠陥位置及び対応する欠陥信号を決定することを含む。 - 特許庁 - To manufacture a coil having a defect marking which can reliably and easily discriminate harmful defects irrespective of presence/absence the adhesion of the rust preventive on a surface of a steel plate without generating any flaws in the steel plate by the defect marking.
欠陥マーキングによって鋼板に疵を発生することなく、鋼板表面に防錆油等の油付着の有無にかかわらず有害欠陥を確実かつ容易に識別可能とする欠陥マーキングしたコイルを製造する。 - 特許庁 - To provide a method for evaluating photomask defect transfer characteristic which is capable of estimating the transfer characteristics with good accuracy and is eventually capable of distinctly discriminating whether the defect ought to be corrected or not and a method for manufacturing semiconductor device.
転写特性を精度良く推測することが可能であり、ひいては欠陥を修正すべきか否かをはっきり判別できるフォトマスク欠陥転写特性評価方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for adjusting display luminance of a fluorescent display tube that simplifies inspection concerned with the luminance of the fluorescent display tube to eliminates the need of discriminating the defect of the fluorescent display tube itself and the defect of a VFD filter.
本発明は、蛍光表示管の輝度に関する検査を簡略にし、蛍光表示管自身の不良とＶＦＤフィルタの不良との選別を不要とする蛍光表示管の表示輝度調整方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an automatic inspection device for display panel which automatically inspects testing items such as point defect or line defect, while achieving an enhancement of precision in detection and judgment of display unevenness without requiring any difficult display unevenness detection/determination processing.
自動的に点欠陥や線欠陥などの検査項目を検査するとともに、困難な表示ムラ検出・判定処理を必要とせずに表示ムラの検出・判定の精度を向上可能なディスプレイパネル自動検査装置を提供する。 - 特許庁 - To make a luminous-dot defect by a short circuit to be an inconspicuous dark-dot defect by separating and opening short-circuited parts when the short circuit parts are generated in a liquid crystal display device having a matrix type array substrate using thin film transistors(TFT).
薄膜トランジスタ(TFT)を用いたマトリクス型のアレイ基板の液晶表示装置において、短絡部が発生した場合にその短絡部を切り離して開放し、短絡による明点欠陥を目立たない暗点欠陥にする。 - 特許庁 - A table of correlation between three-dimensional information of a glass defect 11 of the phase shift mask 10 and a CD (minute dimension) error of a transfer pattern is created and a specification in which the glass defect 11 is allowed is determined based on the table.
位相シフトマスク１０のガラス欠陥１１の３次元情報と転写パターンのＣＤ（微細寸法）誤差との相関関係のテーブルを作成し、このテーブルを基にしてガラス欠陥１１の許容される仕様を決定する。 - 特許庁 - To provide an inspection device having high detection precision, capable of preventing the influence of a formation spot of a test body, and detecting a defect even if the defect having very little difference in reflectance between itself and the test body exists.
被検査体の地合い斑の影響を防止するとともに、被検査体と反射率の差がほとんどない欠陥が存在するような場合にも、このような欠陥を検出可能な検出精度の高い検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect inspecting method using a scanning charged particle beam system, capable of precisely inspecting a defect over a short period of time, which exists on a surface of a sample to be inspected such as a semiconductor LSI or the like, by using a pattern matching technique.
半導体ＬＳＩなどの被検査試料の表面に生じた欠陥の検査を、パターンマッチング技術を用いて高い精度で短時間に行なうことができる走査型荷電粒子ビーム装置を用いた欠陥検査方法 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for inspecting defects capable of determining overlapping defects in the case that defect detection processing is performed on an object to be inspected by a plurality of defect detection means.
検査対象物について、複数の欠陥検出手段によって欠陥検出処理を行った場合に、重複して検出された欠陥を判定することができる欠陥検査装置及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - The defect inspection device is unnecessary to be occupied for the preparation of the recipe because a semiconductor wafer to be inspected is not actually used, and the defect inspection can be carried out without lowering the throughput of the device.
検査対象の半導体ウェーハを実際に使用することがないので、欠陥検査装置を前記レシピ作成のために占有することがなく、前記装置のスループットを低下させることがなく前記検査を実施することができる。 - 特許庁 - The convenient method for making a hole on a semiconductor substrate comprises a step for generating a crystal defect in a part of region on the semiconductor substrate, and a step for selectively etching the region where a crystal defect is caused.
半導体基板上の一部の領域に結晶欠陥を発生させる工程と、前記結晶欠陥が発生した領域を選択的にエッチングする工程を用い、半導体基板上に簡便に穴部を形成する構成とした。 - 特許庁 - To provide a crystal defect evaluating method of a silicon single crystal substrate for quickly evaluating a crystal defect of the p-type low resistance silicon single crystal substrate at a low cost with higher accuracy, by reducting roughness at the front surface of the substrate.
Ｐ型低抵抗のシリコン単結晶基板の結晶欠陥を、低コストで基板表面の面あれを小さくして高精度で迅速に評価することができるシリコン単結晶基板の結晶欠陥評価方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an X-ray detector with a large area which does not degree by suppressing a minimum structural defect latently produced during forming an amorphous-selenium (a-Se) semiconductor thick film and a variation in the defect to a charge capture center.
アモルファス・セレン（ａ−Ｓｅ）半導体厚膜形成時に潜在的に生成される構造欠陥と、欠陥の電荷捕獲中心への変化を最低限に抑えて、感度が劣化しない大面積Ｘ線検出器を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a single crystal which can reduce the generation of a crystal defect, and a method for manufacturing a semiconductor wafer which can remove a region of the generation of the crystal defect by efficiently detecting the region from the single crystal.
結晶欠陥の発生を低減できる単結晶の製造方法、および単結晶から結晶欠陥が発生した部位を効率よく検知して除去することができる半導体ウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide paper chamber structure which has the optimal structure, of which the performance is raised, the production costs are reduced, and the defect of a sealing port is further solved and a method for manufacturing the same in order to prevent the defect generated in production and manufacturing of the paper chamber.
ベーパーチェンバーが生産製作生じた欠陥を防ぐために、最適な構造をし、性能を高め、生産コストを削減して、更に密封口欠陥を解決できるベーパーチェンバー構造及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
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