「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 129 130 131 132 133 134 135 136 137 .... 366 367 次へ＞- To provide a method of repairing by build-up welding so that a hot crack is not more than the allowable defect even when required allowable defect is small and welding material having the same strength as a base metal is used.
要求される許容欠陥が小さい場合や、母材並みの強度を持つ溶接材料を用いる場合であっても、高温割れが許容欠陥以下となるような肉盛溶接による補修方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a thin-film transistor capable of reducing a defect generated in a film of the thin-film transistor and also reducing variations in a defect generation position in a substrate plane, and to provide a display device using the same.
薄膜トランジスタの膜中に発生する欠陥を低減させると共に、基板面内における欠陥発生位置のバラつきを低減させることが可能な薄膜トランジスタ及びそれを用いた表示装置を提供することである。 - 特許庁 - To provide a technique capable of preventing a conductive material for defect correction from spreading up to an unnecessary part when a defect caused by breaking of a wiring line is corrected using a printing method which can be processed at low temperature.
低温で処理できる印刷法を用いて、配線の断線による欠陥を修正する場合に、欠陥修正用の導電性材料が不要な部分まで広がることを防止することができる技術を提供する。 - 特許庁 - To quickly optimize a process by inspecting defects on a wafer in the process for manufacturing a semiconductor, speedily acquiring the composition information of the defect section, and specifying the generation process and factor of the defect according to the obtained composition information.
半導体製造工程中のウェハ上の欠陥を検査し、上記欠陥部の組成情報を高速に取得し、得られた組成情報から上記欠陥の発生プロセスや要因の特定を行い、プロセスの最適化を短期間に行う。 - 特許庁 - To provide a forging method for remedying the internal defect of a forged material such as a crank throw by concentrating stress and strain on the inside of a workpiece and efficiently performing stoppage of the defect in the inside, especially a center part such a pin part.
被加工材の内部に応力及びひずみを集中させ、内部、特にピン部等中心部の欠陥の閉塞を効率よく行うことにより、クランクスロー等の鍛造材の内部欠陥を改善する鍛造方法を提供する。 - 特許庁 - Hereby, since defect detection processing of the circumferential flaw or the island defect can be performed stepwise separately from other defects, even if the number of defects to be detected is increased, a processing load of a data processing device can be reduced.
これにより円周疵あるいは島状欠陥を他の欠陥と分離して欠陥検出処理を段階的に行うことができるので、検出される欠陥数が増加してもデータ処理装置の処理ロードを低減することができる。 - 特許庁 - To provide high-quality, high-performance single crystal SiC which has a wide terrace and high smoothness and forms few micropipe defect, interface defect, etc., by controlling the film thickness of the single crystal SiC at growth.
成長する単結晶SiCの膜厚を制御することにより、マイクロパイプ欠陥や界面欠陥等の発生が少ないとともに、幅広なテラスを有し表面の平坦度の高い、高品質、高性能な単結晶SiCを提供すること。 - 特許庁 - To provide a multilayered optical recording medium inspection method by which presence of a defect of each resin layer in a multilayered optical recording medium in which the plurality of resin layers are formed is inspected and the resin layer having the defect can be specified.
複数の樹脂層が形成された多層光記録媒体における各樹脂層の欠陥の有無を検査すると共に欠陥が存在している樹脂層を特定し得る多層光記録媒体検査方法を提供する。 - 特許庁 - To eliminate such a defect that a building member comprising a metal or the like generates warpage, dew condensation or the like, the same defect generated when a decorative sheet is bonded and various defects generated in the decorative sheet.
本発明においては、金属等の建築部材が、反り、結露等の欠点を有する点を解消し、また、化粧シートを貼った際の同様な欠点、および化粧シートに生じる種々の欠点を解消しようとすることを課題とする。 - 特許庁 - A phase shift mask is inspected by a mask inspecting apparatus and the size relating to the detected phase defect is measured by using this inspecting apparatus or a measuring instrument for defect review and further the phase and transmittance are calculated by using an optical simulation.
位相シフトマスクをマスク検査装置を用いて検査し、検出した位相欠陥についてこの検査装置もしくは欠陥レビュー用測定装置を用いてサイズを測定し、さらに光学シミュレーションを用いて、位相、透過率を算出する。 - 特許庁 - In the surface treating method of the coating defect article of which the surface is formed with the coating film having the coating defect part, at least a part of the coating film is peeled off by spraying a projecting material to the coating film.
表面に、塗装欠陥部を有する塗膜が形成されてなる塗装不良品の表面処理方法であって、塗膜に投射材を吹き付けることにより塗膜の少なくとも一部を剥離する表面処理方法である。 - 特許庁 - To provide the manufacturing method of a suspension board with a circuit by which an appearance defect and a product defect caused by a metal supporting layer can be prevented and non-electrolytic nickel plating layer having uniform thickness can be reliably formed.
金属支持層に起因する外観不良や製品不良を防止でき、さらには、均一な厚みの無電解ニッケルめっき層を確実に形成することのできる、回路付サスペンション基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for manufacturing a single crystal which enable efficient manufacturing of a silicon single crystal having a defect-free area by easing conditions for manufacturing the silicon single crystal having the defect-free area.
無欠陥領域を有するシリコン単結晶を製造するための諸条件を緩和することで、無欠陥領域を有するシリコン単結晶を高い効率で製造することができる単結晶製造装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - Since the bone defect region is clogged by the membrane member 3 other than the periosteum, a fibrous connective tissue, etc., existing in a peripheral tissue but not involved in the new bone formation is prevented from moving to the bone defect region.
本発明によれば、骨膜以外の膜部材３によって骨欠損部が閉塞されているので、周辺組織に存在する骨新生に関与しない繊維性結合組織等が骨欠損部に移動することが防止される。 - 特許庁 - To provide a defect marking device which can decrease a man-hour, perform high-precision marking right nearby a defect, and improve greatly a yield by performing contactless marking using an improved general laser marker.
汎用のレーザマーカを改良した非接触式マーキングを行い、工数を削減するとともに、欠陥の直近に高精度にマーキングを行うことができ、歩留まりを大幅に向上させることができる欠陥マーキング装置を提供する。 - 特許庁 - The diagnostics engine includes an analysis module to determine features of the signals captured by the data acquisition device and a decision module for determining whether the pulse represents a defect in the wire and the location of the defect.
診断エンジンは、データ収集装置によって捕捉された信号の特徴を判定する解析モジュールと、パルスがワイヤにおける欠陥及び該欠陥の位置を表しているか否かを決定するための判定モジュールとを含む。 - 特許庁 - To provide a defect detecting method or the like for a diaphragm part of a liquid droplet delivering head wherein defect inspection of the diaphragm part of a silicon base material having the diaphragm part for pressure buffering prepared therein can be efficiently, highly accurately and easily carried out.
圧力緩衝用のダイアフラム部を設けたシリコン基材のダイアフラム部の欠陥検査を、効率よく、高精度かつ容易に行うことができる液滴吐出ヘッドのダイアフラム部の欠陥検出方法等を提供する。 - 特許庁 - In this repair method of the reactor structure, which is a repair method of the reactor structure having the metal material on whose surface the crack defect is generated, first of all, a noble metal material is provided on the crack defect surface.
本発明による原子炉構造物の補修方法は、表面に亀裂状欠陥の発生している金属材料を有する原子炉構造物の補修方法であって、まず、該亀裂状欠陥表面に貴金属材料体を設ける。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device and method for a film, capable of inspecting simply and easily an optical defect in the film to be inspected formed with an optical compensation layer having a double refraction characteristic, in a production line or the like.
製造ライン等において、複屈折特性を有する光学補償層が形成された被検査フィルムの光学的欠陥検査を簡易かつ容易に行うことができるフィルムの欠陥検査装置よおび方法を提供する。 - 特許庁 - Alternatively, the device stores the first electronic optical system for the defect detecting inspection and the second electronic optical system exclusive for a review for observing the specified narrow portion detected by the defect detecting inspection, in the same vacuum container.
または、欠陥検出検査の為の第１の電子光学系と欠陥検出検査により検出された特定の狭い部位を観察するレビュー専用の第２の電子光学系とを同一の真空容器内に並べて収容する。 - 特許庁 - A defect correction apparatus 100 having a function of a substrate observation apparatus moves the relative position of an optical system 104 to a substrate 10 on the basis of first positional information which specifies the position of a defect on the substrate 10.
基板観察装置の機能を有する欠陥修正装置１００は、基板１０上の欠陥の位置を指定する第１の位置情報に基づいて、基板１０に対する光学系１０４の相対的な位置を移動させる。 - 特許庁 - (2) If an application shows any defect not observed in previous proceedings which make its publication impossible, the Spanish Patent and Trademark Office shall communicate the defect to the interested party so that it may be corrected, in accordance with Article 16.
(2) 出願が従前の手続では認められなかった瑕疵であって公告を不可能にするものを示す場合は，スペイン特許商標庁は，第16条に従い，当該瑕疵を利害関係人に通知して，これが訂正されるようにする。 - 特許庁 - In the invented method of inspecting an N-region, an anisotropic dry etching having different etching speeds against a part where a crystal defect 4 is present and a part where a crystal defect 4 is absent which are formed in a wafer 2 is applied.
本発明のＮ領域の検査方法によると、ウェーハ２内に形成されている結晶欠陥４の存在部位と結晶欠陥４の非存在部位に対するエッチング速度が異なる異方性ドライエッチングを実施する。 - 特許庁 - To to provide a semiconductor memory which can accurately generate internal circuit start timing in particular, and can recover from a defect when a dummy memory cell has a defect, as to the semiconductor memory which generates the internal circuit start timing by using a dummy circuit.
内部回路起動タイミングを、ダミー回路を用いて生成する半導体記憶装置に関し、特に精度よく内部回路起動タイミングを生成し、また、ダミーメモリセルに欠陥がある場合、救済可能な半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁 - When reading data recorded in DVD-RAM at the time of rewriting the data to DVD-RAM 130, a disk driver 121 generates defect information presenting the position of the defect or the like on the recording plane of the DVD-RAM.
ディスクドライバ１２１は、ＤＶＤ−ＲＡＭ１３０に対するデータの書換時において、ＤＶＤ−ＲＡＭに記録されたデータを読み出すときに、ＤＶＤ−ＲＡＭの記録面上の欠陥位置等を示す欠陥情報を生成する。 - 特許庁 - To provide a highly reliable defect inspection device detecting defects without omission by forming, in a clear contrast image, an image of a rugged defect with small curvature changes formed on a transparent body sheet-like material surface.
透明体シート状物表面に発生した曲率変化の小さな凹凸状欠陥を、最も鮮明な明暗像になる状態で結像させることにより、欠陥を漏れなく検出し、信頼性の高い欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - Further, the management server accepts the reservation application of an initially defective product having a defect condition designated by the user, and when an initially defective product fitted to the defect condition is generated, this is reported to the user who applies the reservation.
また、管理サーバは、ユーザにより指定された欠点条件を有する初期欠点製品の予約希望を受け付け、その欠点条件に適合する初期欠点製品が発生した際には、予約希望したユーザにその旨を連絡する。 - 特許庁 - To solve the problem that discharge defect condition occurs because the waste liquid wiped out from discharge defect nozzles comes into nozzles of a head with normal discharge condition in an overlapping position when wiping an elongate head constituted by lining a plurality of liquid discharge head.
複数の液体吐出ヘッドを並べた長尺ヘッドに対してワイピングを行うときに、重複部分で吐出状態が正常なヘッドのノズルに吐出不良ヘッドから拭き取った廃液が侵入して吐出不良状態になる。 - 特許庁 - In the optical disk having an image forming layer on which a visible image can be drawn by irradiation of laser light, a ratio (B/A) of the maximum length (B) of a maximum bright defect to the maximum length (A) of a maximum dark defect is <1.
レーザ光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層を有する光ディスクであって、最大暗欠陥の最大長（Ａ）と最大明欠陥の最大長（Ｂ）との比（Ｂ／Ａ）が１未満である光ディスクである。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device realizing high resolution and an increase in an inspection speed in a technology for inspecting a pattern defect, foreign matter, residue, a step and the like on a wafer in a production process of a semiconductor by an electron beam.
半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an inspection method and inspection device of defect and foreign matter for flat panel display device capable of separately performing the defect inspection and foreign matter inspection of an FPD itself such as LCD and improving the precision of the quality inspection of FPD.
ＬＣＤなどＦＰＤ自体の欠陥検査と異物検査を区別して行うことができ、ＦＰＤの品位検査の精度を向上できる平面表示装置の欠陥・異物検査方法およびその検査装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device and a PTP packing machine capable of enhancing inspection precision, in particular, for a pocket part side, to enhance visual appearance quality of a PTP sheet, in defect inspection in a manufacturing process for the PTP sheet.
ＰＴＰシートの製造過程における不良検査に際し、特にポケット部側の検査精度の向上を図ることで、ＰＴＰシートの外観品質の向上を図ることができる不良検査装置、及び、ＰＴＰ包装機を提供する。 - 特許庁 - This surface defect inspection device is equipped with an imaging part 2 for imaging a surface 1a of an inspected object 1 and a processing part 4 for detecting a defect in the surface 1a of the inspected object 1, based on an image acquired by the imaging part 2.
表面欠陥検査装置は、被検査物１の表面１ａを撮像する撮像部２と、撮像部２により得られた画像に基づいて被検査物１の表面１ａの欠陥を検出する処理部４と、を備える。 - 特許庁 - A decision reference value Lw for white level defect is generated by adding the difference ΔL between the maximum level Lmax and the minimum level Lmin to the average level Lav and a decision reference value Lb for black level defect is generated by subtracting the difference ΔL between the maximum level Lmax and the minimum level Lmin from the average level Lav.
最大レベルＬmaxと最小レベルＬminとの差ΔＬを、平均レベルＬavに加算して白欠陥の判定基準値Ｌwを生成し、平均レベルＬavから減算して黒欠陥の判定基準値Ｌbを生成する。 - 特許庁 - After depositing a metal onto the surface of a semiconductor crystal which is to become come a sample, an electron beam is irradiated on the crystal surface to precipitate the metal on the crystal defect surface, thereby making it clear, and then the crystal defect is detected.
試料となる半導体結晶表面に金属を付着させた後、前記結晶表面に電子線を照射して、前記金属を結晶欠陥表面に析出顕在化させ、結晶欠陥の検出を行う。 - 特許庁 - To provide a method for evaluating a crystal defect of a silicon single-crystal wafer, evaluating a minute DSOD (Direct Surface Oxide Defect) or the like accurately and easily, without incurring wasteful cost, which is once evaluated only by a Cu deposition method.
従来Cuデポジション法でしか評価できなかった微小なＤＳＯＤ等を簡便でかつ無駄なコストをかけることもなく、更に精度良く評価可能なシリコン単結晶ウエーハの結晶欠陥の評価方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus for detecting a linear defect of bright and dark lines and correcting a pixel signal of the detected linear defect when the operating temperature of a solid-state image sensor is high, and to provide a correction method of the pixel signal.
固体撮像素子の動作温度が高い場合、明線および暗線の線状欠陥を検出し、検出された線状欠陥の画素信号を補正する撮像装置および画素信号の補正方法を提供するにある。 - 特許庁 - To provide a building panel 41 having a design surface provided with unevenness (undulation), further having acute angle cavity surfaces in its design surface and eliminating a feeling of physical disorder by making a defect inconspicuous even if the defect of a printing pattern due to gravure- offset printing is generated.
凹凸（起伏）のある意匠面を有する建築板４１であって、更に、意匠面に鋭角な窪み部分があるものにおいて、グラビアオフセット印刷による印刷柄抜けが生じても、それを目立たなくして、違和感をなくす。 - 特許庁 - To detect a condition of a wetted face in a pool 6, a leakage defect, a very small defect or the like on a water surface from a remote site by remote control, without discharging water of the pool in a nuclear power plant.
原子力発電所内のプール６水を排出することなく、かつ遠隔で水面上から遠隔操作によりプールの接液面の状況、漏洩欠陥や極めて小さい欠陥等を検出する水中点検装置を提供する。 - 特許庁 - A control computer 19 replaces the image of the wiring, which is not the object to be inspected and can be a noise source in the defect inspection, with the self-generated image, and inspects the defect of the wiring to be inspected based on the contrast image after the replacing process.
制御用計算機１９は、欠陥検査においてノイズ源となる非検査対象の配線の画像を自己生成画像で置き換え、置換処理後のコントラスト画像に基づいて検査対象の配線の欠陥を検査する。 - 特許庁 - To provide a method for repairing bright spot defects by which the bright spot defects can be made into black spot defectd over a wide viewing range regardless of a defect mode, and to provide a liquid crystal display device using the method, and a device for repairing the bright spot defect.
本発明は、欠陥モードに制限されず、且つ広い視野範囲で輝点欠陥を黒点欠陥化できる輝点欠陥修復方法及び当該方法を用いた液晶表示装置、輝点欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁 - To eliminate three defects, that is, a defect in the stability of a floating pier, a defect in the certainty of sliding, and damage to the floating pier when a sliding section is caught, which are possessed by the conventional floating pier capable of following a water level.
水位に追従させ得るようにした従来の浮桟橋の有する欠点、すなわち、浮桟橋の安定性、スライドの確実性、スライド部が引っ掛かった場合における浮桟橋の損傷、という３つの欠陥を解消する。 - 特許庁 - When white defects are corrected, material gas is introduced through a deposition gas introduction system 9, and only a white defect region 7 is selectively irradiated with the charged particle beam 4 to deposit a white defect correcting film 8 as high as the height of a projection of the original form.
白欠陥修正はデポジション用ガス導入系９から原料ガスを導入し、荷電粒子ビーム４を白欠陥領域７のみに選択照射して白欠陥修正膜８を、原版の凸部の高さまで堆積させる。 - 特許庁 - For example, a lateral line defect pattern 2 of a central part is displayed by dots of a relatively slightly dense halftone display, and lateral line defect pattern 2 except them is displayed by dots of a halftone display near a relatively white display.
たとえば、中央部の横方向線欠陥パターン２を相対的にやや濃い中間調表示のドットとし、それ以外の横方向線欠陥パターン２を相対的により白表示に近い中間調表示のドットとする。 - 特許庁 - To provide an optical card defect inspecting device, which can efficiently inspect defect of optical cards having recording surfaces varying in reflection factor without any trouble to adjust a reference voltage like before.
本発明は、従来例の如き基準電圧を調整するような煩雑さを伴うことなく、種々の反射率の記録面が存在する光カードの欠陥を効率良く検査できる光光カードの欠陥栓査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pressure reducing method for a mold where the formation of a thin metal film is suppressed upon casting, thus defects such as a gas defect, a foreign matter defect, a cold shut and a cold lap are prevented, and a satisfactory casting product can be obtained.
鋳込み時に薄い金属皮膜の形成を抑えることにより、ガス欠陥、異物欠陥、湯境や湯じわといった欠陥などを防止し、良好な鋳物製品を得ることができる鋳型の減圧方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an inspection method and an inspection unit for a ceramic roller which is capable of inspecting surface defect and an internal defect in a single sitting, in a short time, and free from restrictions due to the surface hue of the ceramic roller.
表面の欠陥と内部の欠陥との両方を１度に、短時間で検査でき、かつ転動体の表面の色相による制約を受けない、セラミックス製の転動体の検査方法および検査ユニットを提供すること。 - 特許庁 - To provide an inspecting method, an inspecting device, and a manufacturing method for a matrix structure that make it possible to easily detect a dotted defect due to a characteristic defect etc., of a switching element etc., of the matrix structure.
マトリクス構造におけるスイッチング素子などの特性不良などに起因する点状の欠陥を容易に検出可能にするマトリクス構造の検査方法、マトリクス構造の検査装置およびマトリクス構造の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method by which an operator can select defects having the possibility of exerting a fatal influence upon the operation of an integrated circuit from many pieces of defect data of a wafer surface by his or her easy operation so as to display defect images of the selected defects.
ウェーハ上の多数の欠陥データの中から集積回路の動作に致命的な影響を与える可能性のある欠陥を、オペレータの容易な操作で選択し、選択した欠陥の欠陥画像を表示できる方法の提供。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device capable of suppressing complication of processing in inspection, and improving inspection accuracy, while preventing a smear phenomenon, in defect inspection in a manufacturing process of a PTP sheet, and a PTP packaging machine.
ＰＴＰシートの製造過程における不良検査に際し、スミア現象を防止しつつ、検査に際しての処理の複雑化を抑制し、検査精度の向上を図ることのできる不良検査装置、及び、ＰＴＰ包装機を提供する。 - 特許庁
