「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 133 134 135 136 137 138 139 140 141 .... 366 367 次へ＞- A main controller 65 relates thumbnail image data of a review inspection image to defect data and stores the thumbnail image data into a storage section 66.
主制御部６５はレビュー検査画像のサムネイル画像データを欠陥データと関連付けて記憶部６６に格納する。 - 特許庁 - To search a mounted substrate for a defect in a simple device structure automatically in short time without any detail circuit information.
詳細な回路情報無しに、簡易な装置構成で自動的に短時間で実装基板の不良探索を行う。 - 特許庁 - To detect a defect of the pattern of a nano order of a nano-imprint mold (NIM) smaller than the wavelength of illumination light with high accuracy.
照明光の波長よりも小さい、ナノインプリントモールド（ＮＩＭ）のナノオーダーのパターンの欠陥を高精度で検出する。 - 特許庁 - To provide an optical film with less film defect due to thermal deterioration in molding processing and having excellent transparency.
成形加工時の熱劣化に起因するフィルム欠陥が少なく、優れた透明性を有する光学用フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a single crystal silicon carbide ingot of high purity, a less defect and large bore, and a method of manufacturing the same.
本発明は、高純度で低欠陥大口径の単結晶炭化珪素インゴットとその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide liquid immersion lithography treatment for reducing contamination on a liquid immersion fluid and a lens, and reducing a defect on a wafer.
液浸露光流体とレンズの汚染を減少し、ウェハ上の欠陥を減少する液浸リソグラフィ処理を提供する。 - 特許庁 - To extend the life of a mold by properly preventing the occurrence of burr or a defect and to enhance the yield of a resin molded product.
バリや欠損の発生を適切に防止して、型寿命を延ばし、樹脂成形品の歩留りを向上させる。 - 特許庁 - To correctly detect micro-defects smaller than before in a defect detecting device and method.
欠陥検出装置及び欠陥検出方法において、従来よりも微小な欠陥を正確に検出できるようにする。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device for preventing product defect such as fall of wires.
ワイヤが倒れるなどの製品不良を防止した半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent electrode corrosion and soldering defect by using a simple cleaning process or without cleaning.
簡単な洗浄工程もしくは無洗浄で電極の腐食およびはんだ不良を防止できるフラックスを提供すること。 - 特許庁 - A defect detector is provided with an irradiation device 24 for irradiating the laminate film 1 with light, and a camera 23 for imaging the laminate film 1.
ラミネートフィルム１に光を照射する照射装置２４と、ラミネートフィルム１を撮像するカメラ２３とを備える。 - 特許庁 - To appropriately determine a defect in an ink jet printer on a side of a service center without worrying a user about security.
ユーザにセキュリティ上の不安を抱かせることなく、サービスセンター側でインクジェットプリンタの不具合を適切に判断する。 - 特許庁 - The presence or absence of an internal defect can be verified clearly according to the surface temperature distribution by the temperature change in the surface.
その表面の温度変化による表面温度分布から、内部欠陥の存否を明確に確認することができる。 - 特許庁 - To prevent a defect from occurring in a sheet of a ceramics material by forming concave and convex portions on the sheet.
セラミックス材料のシートに凹凸を設ける加工を行うことによって該シートに欠陥が生じることを抑制する。 - 特許庁 - To provide an inkjet recording apparatus that suppresses battery power consumption and performs maintenance so that an image defect does not occur.
バッテリの電力消耗を抑え、画像不良が発生しないようメンテナンスを行うインクジェット記録装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a radio frequency (RF) generator in which received data are stored for a predetermined time before receiving a defect instruction.
不良指示を受信する前に所定時間の間、受信したデータを保存する無線周波発生器を提供する。 - 特許庁 - To provide an inspection device which can well perform inspection of a defect in an emission state regardless of types of line heads.
ラインヘッドの種類によらず良好に発光状態の欠陥検査を行うことが可能な検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate drying method, a control program, and a substrate drier for suppressing the occurrence of a defect.
欠陥の発生を抑制することができる基板乾燥方法、制御プログラム及び基板乾燥装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device in which a short-circuit defect, etc., of a magnetoresistive element is reduced, and to provide a method of manufacturing the semiconductor device.
磁気抵抗素子の短絡不良等が軽減される半導体装置と、その製造方法とを提供する。 - 特許庁 - To provide a bipolar semiconductor device that suppresses generation of a surface defect, and prevents a forward voltage from rising.
表面欠陥の発生を抑制でき、順方向電圧の増大を防止できるバイポーラ半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface defect inspection device capable of inspecting color shading and irregularity of a sample surface with high accuracy.
試料表面の色むらと凹凸とを精度よく検査を行うことのできる表面欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a silicon wafer, the method eliminating a defect on a surface where a device is formed.
デバイスが形成される表層の欠陥を消滅させることができるシリコンウェーハの製造方法について提案する。 - 特許庁 - The grinding device 1 corrects a projection defect present on the surface of a substrate 2.
研磨装置１は、走行する研磨テープにより、基板２表面に存在する突起欠陥を修正する研磨装置である。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus and an image pickup method for highly precisely correcting a defective pixel due to the defect of an imaging element.
撮像素子の欠陥による欠陥画素を高精度に補正できる撮像装置及び撮像方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of suppressing peeling at and the occurrence of a defect to an edge of a substrate during bonding of a hetero-substrate.
ヘテロ基板の貼り合わせ時に基板のエッジにおける剥離と欠陥の発生を抑制する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an optical film that is easy in molding, hardly causes a film defect during processing, and has favorable transparency.
成形加工が容易で、加工時のフィルム欠陥が少なく、優れた透明性を有する光学用フィルムを提供する。 - 特許庁 - And the calculated classification pattern number for every positional relationship is used to calculate the pattern dependency of defect groups (step S9).
そして、算出した位置関係毎の分類パターン数を用いて欠陥群のパターン依存度を算出する（ステップＳ９）。 - 特許庁 - To reduce a rate of defective article generation caused by a focusing defect by improving adjustment accuracy and enabling rework.
調整精度を高めると共に、リワークを可能にして、フォーカス調整不良による不良品発生率を低減する。 - 特許庁 - To enable a defect inspection pattern circuit to detect a defective contact for both a p-side contact and an n-side contact.
欠陥検査パターン回路に関し、ｐ側コンタクト及びｎ側コンタクトのいずれのコンタクト不良も検出可能にする。 - 特許庁 - To provide a resist development method and a resist development apparatus that can stabilize pattern dimensions and can suppress the defect generation.
パターン寸法を安定させ、かつ欠陥発生を抑制させるレジスト現像方法およびレジスト現像装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a circuit pattern defect inspection method of substrate capable of reducing the risk of wrong measurements and reducing the measurement time.
誤測定の可能性を減少させ、測定時間を節減する基板の回路パターン欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an inkjet recording medium without causing surface defects such as pits and removal defect, and is manufactured by casting.
ピットやトラレ等の表面欠陥がない、キャスト処理により製造されるインクジェット記録媒体を提供することである。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition nearly free from development defect and to provide a polymer used therefor.
現像欠陥の少ない感放射線性樹脂組成物およびそれに用いる重合体を提供することである。 - 特許庁 - To provide an information display panel which has excellent display quality and prevents a streak-like display defect on a display image.
表示画像にスジ状の表示不良が生じない、表示品質に優れた情報表示用パネルを提供する。 - 特許庁 - The control unit then determines defect according to a change in information of the relevant equal potential plane in the composite image for decision.
そして、制御部が、判定用の合成画像における該当等電位面の情報の変化から欠陥を判定する。 - 特許庁 - To provide a resist application device which provides a resist film significantly small in defect occurrence frequency, and to provide a resist application method.
得られるレジスト膜の欠陥発生頻度の非常に小さいレジスト塗布装置及びレジスト塗布方法を提供する。 - 特許庁 - To correctly read out information to be written in the case of that information is read out from a storage element in which defect occurs.
不良が発生した記憶素子から情報を読み出す場合に、書き込まれるべき情報を正しく読み出すこと。 - 特許庁 - To provide an etchant composition for a copper-containing material, which can form a fine pattern without causing a defect in the shape.
形状不良なしに微細な回路パターンを形成し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁 - The defect determination circuit 37 determines that a surface of the film 5 is defective when the light reception signal is inputted.
欠陥判定回路３７は、受光信号が入力されたときには、フィルム５表面に欠陥があると判定する。 - 特許庁 - To provide a common mode noise filter in which the occurrence of an insulation defect is suppressed.
本発明は、絶縁不良が発生するのを抑制できるコモンモードノイズフィルタを提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - To reduce the time/effort and cost of an operation for making a pixel, in which a bright spot defect is caused, inconspicuous in a liquid crystal display device.
液晶表示装置において、輝点不良が生じた画素を目立たなくする作業の手間とコストを抑える。 - 特許庁 - To provide a display system of a working machine, for perceiving a plurality of working machines in detail, for certainly detecting a defect.
複数の作業機を詳細に視認して不具合を確実に察知できる作業機の表示システムを提供する。 - 特許庁 - Ultimately, a surface exposed by the charged particle beam cut is imaged to obtain additional information about the defect.
最後に、荷電粒子ビームカットによって露呈された表面が画像化されて、欠陥についての追加の情報を得る。 - 特許庁 - The setting part 2 sets target inspection coverage showing inspection coverage becoming a target at each predetermined defect size.
設定部２は、予め定められた欠陥サイズごとに、目標となる検査カバレッジを示す目標検査カバレッジを設定する。 - 特許庁 - To provide a GaAs wafer capable of suppressing occurrence of a slip defect even when made large in diameter, and a method of manufacturing the same.
大口径化しても、スリップ不良の発生を抑制できるＧａＡｓウェハ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Then defect correction is applied to pixel values of color components of the center pixel by adding the correction amount to the pixel values (S7f).
そして、上記中心画素の各色成分の画素値に、上記補正量を加算する傷補正を行う（Ｓ７ｆ）。 - 特許庁 - To detect a low and flat LAD (large area defect) through discrimination from particles in the surface test of a semiconductor wafer.
半導体ウェハの表面検査において、高さが低くフラットなLAD（広域欠陥）をパーティクルから区別して検出する。 - 特許庁 - To provide ultrasonic test equipment capable of improving accuracy with which an internal defect of an inspection object is detected.
被検査体の内部欠陥を検出する精度を向上させることができる超音波探傷装置を提供する。 - 特許庁 - To prevent casting defect caused by thermal decomposition of a pattern, in a simple process.
簡単な工程で、模型の熱分解に起因する鋳物欠陥を防止できる、改良された消失模型鋳造法の提供。 - 特許庁 - SURFACE LAYER PART PROPERTY MEASURING METHOD, SURFACE LAYER DEFECT DETERMINATION METHOD USING THE SAME, AND METALLIC BAND MANUFACTURING METHOD
表層部性状測定方法及びそれを用いた表層欠陥判定方法、並びに金属帯の製造方法 - 特許庁
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