「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 137 138 139 140 141 142 143 144 145 .... 366 367 次へ＞- To avoid trouble due to a hardware fault which fixes a memory cell having a defect in a high-resistance state or a low resistance state.
欠陥のあるメモリセルを高抵抗状態または抵抗状態に固定するハード障害による不具合を回避する。 - 特許庁 - To provide a molding simulation method that gives more accurate estimation on an entrainment defect without relying on the experience of an operator.
巻き込み欠陥を作業者の経験に頼らず、より正確に推測できる成型シミュレーション方法を提供すること。 - 特許庁 - The control/image processor determines the existence of a defect of the sample on the basis of an output signal of the SQUID fluxmeter.
制御・画像処理装置は、ＳＱＵＩＤ磁束計の出力信号に基づいて、試料の欠陥の有無を判定する。 - 特許庁 - To prevent a display defect by stopping the flow-out of a component eluted from a sealing material into a display area.
シール材から溶け出した成分が表示領域に流れ出すことを阻止して表示不良の発生を防止する。 - 特許庁 - On inspecting a pixel defect, first, pixel capacitors included in the all pixel forming parts in a display unit are sequentially charged.
画素欠陥検査の際には、まず、表示部内のすべての画素形成部に含まれる画素容量を順次に充電する。 - 特許庁 - To compensate fault of a cylinder storage due to defect of a head when a thin film head being feature of the cylinder storage is utilized.
シリンダストレージの特徴である薄膜ヘッドを利用する場合のヘッドの不良によるシリンダストレージの故障を補償する。 - 特許庁 - To enable performing defect management appropriately while utilizing storage capacity of a recording medium efficiently and to the maximum.
記録媒体の記録容量を効率的に且つ最大限まで利用しつつ、適切にディフェクト管理を実行可能とする。 - 特許庁 - To eliminate a recess (level difference) in a protective layer facing a heating resistor layer and causing a defect of the protective layer.
保護層の欠陥の原因となる発熱抵抗層に対向する保護層の凹部（段差）をなくすことができること。 - 特許庁 - The CPU 2 executes the relief program 15 loaded to the secondary cache 2b, and performs the defect relief of the memory 11.
ＣＰＵ２は、二次キャッシュ２ｂにロードされた救済プログラム１５を実行して、メモリ１１の不良救済を行う。 - 特許庁 - A deciding part 44 discriminates whether or not the test concave and convex parts are a defect on the basis of the comparison results of the comparing part 42.
判定部４４は、比較部４２の比較結果に基づいて、検査凹凸部が欠陥であるか否かを判定する。 - 特許庁 - To provide an inkjet printer which prevents the occurrence of a printing defect even if air bubbles get into an ink supply tube.
インク供給チューブ内に気泡が入り込んでも、印字欠陥を生じることのないインクジェットプリンタを提供する。 - 特許庁 - To provide a lithography apparatus which can make a pattern more difficult to be drawn at a defect point by more efficient processing.
より効率的な処理により、欠陥箇所にパターンが描画されにくくすることが可能な描画装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a sealed pipe and a method of sealing a thin pipe, free from defect as a sealing part is wholesome even though the pipe is thin.
薄肉管であっても封止部が健全で欠陥のない封止管、及び薄肉管の封止方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a tire forming member comprising an elastomer material eliminating the defect possessed by a strip laminate.
ストリップ積層の持つ欠点を解消する、エラストマー材料のタイヤ構成部材を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To exactly measure dimensions of a defect of a test object with level difference to the optical axis direction of an imaging apparatus.
撮像装置の光軸方向に対して高低差がある検査対象の欠陥の寸法を正確に測定する。 - 特許庁 - To effectively prevent an adhesion shape defect due to an excessive flow of an adhesive on an end surface side of a ferrule.
フェルールの端面側における接着剤の過剰流動による接着形状不良を効果的に防止する。 - 特許庁 - To prevent the occurrence of a defect such as a roller mark on an image on a sheet and to prevent the occurrence of a curl of the sheet.
シート上の画像にローラマーク等の汚れが生じるのを防止し、且つシートのカールの発生を防止すること。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR DECIDING MASK COMMON DEFECTS, AND METHOD AND DEVICE FOR MEASURING AND ELIMINATING MASK COMMON DEFECT CHIPS
マスク共通欠陥判定の方法および装置ならびにマスク共通欠陥チップ測定除外の方法および装置 - 特許庁 - To provide a defect detection method for viewing and detecting SOI and BOX pin holes on one SOI wafer.
ＳＯＩピンホールおよびＢＯＸピンホールを１枚のＳＯＩウェハで目視検出できる欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁 - To detect a black defect by eliminating the effect of the sensitivity difference in color filters of an image pickup element to make the conditions of each pixel identical.
撮像素子の色フィルタの感度差の影響をなくし、各画素の条件を同一として黒欠陥を検出する。 - 特許庁 - To provide a ROM inspection system capable of detecting a defect in each individual ROM and facilitating management of sum values.
各ＲＯＭ別に不良の検出が可能であり、サム値の管理も容易となるＲＯＭ検査システムを提供する。 - 特許庁 - The insulating film is formed covering the high defect region 111 on the main surface 113 of the epitaxial wafer 110.
絶縁膜は、エピウエハ１１０の主表面１１３における高欠陥領域１１１を覆うように形成される。 - 特許庁 - To accurately detect a defect existing inside a plate-like body containing material having light transmitting properties.
透光性を有する材料を含む板状体の内部に存在する欠陥を、高精度に検出することを可能にする。 - 特許庁 - To realize the exact detection of even a defect part developed continuously in the running direction of a PS plate.
ＰＳ版の流れ方向に連続して発生した欠陥部でも正確に検出できるようにすることを課題とする。 - 特許庁 - A position where a defect is generated in an image pickup sensor 101 is identified based on signal levels of the transferred charges D1-Dm.
転送される電荷Ｄ１〜Ｄｍの信号レベルに基づいて、撮像センサ１０１の不良発生位置を特定する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display panel preventing a display defect due to uneven arrangement density of dummy electrodes.
ダミー電極の配設密度が不均一であるために発生する表示不良を防止した液晶表示パネルを提供する。 - 特許庁 - The first database 31 stores the image information on a component 7 of a product and product defect information on the product.
第１データベース３１は、製品の部品７の画像情報と、製品に関する製品不具合情報とを格納する。 - 特許庁 - A specified region 1 on the surface of a semiconductor substrate 11 is irradiated with an electron beam to form a lattice defect 3.
半導体基板１１の表面の特定領域１に電子ビーム等を照射して格子欠陥３を形成する。 - 特許庁 - Also, since the hole injection inhibition layer 402 does not cover the extraction electrode 470, the conduction defect of the extraction electrode 470 is prevented.
また、正孔注入阻止層402は、取出電極470を覆わないので、取出電極470の導通不良を防止できる。 - 特許庁 - To provide a method for producing an electronic component which can form electrodes on a substrate with high precision without causing a forming defect.
基板上に、高い精度で、形成不良なく電極を形成し得る電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a compression molding method for polymer insulator without causing unvulcanized defect on the shed top even when rubber filling amount is reduced.
ゴム充填量を減らしても笠先に未加硫不良の発生のないポリマー碍子の圧縮成形法を提供する。 - 特許庁 - If a defect is detected in the software, the software-delivered MFP machines are instructed to stop the software update.
また、ソフトウェアに不具合が確認された場合はソフトウェアを配信したＭＦＰ機にソフトウェア更新の中止を指示する。 - 特許庁 - SURFACE-COATED TUNGSTEN CARBIDE GROUP SINTERED ALLOW- MADE CUTTING TOOL WHICH DISPLAYS EXCELLENT DEFECT RESISTANCE IN INTERRUPTED DOUBLE CUTTING
断続重切削ですぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆炭化タングステン基超硬合金製切削工具 - 特許庁 - The location of a defect in the region where the anodized oxide film is formed is detected from the Raman spectrum of the Raman scattered light.
このラマン散乱光のラマンスペクトルにより陽極酸化膜を形成した領域における欠陥箇所を検出する。 - 特許庁 - The external plate of the coating stainless steel sheet is excellent in defect resistant nature, fingerprint adhesion resistance.
塗装ステンレス鋼板製の外板は耐疵付き性，耐指紋付着性に優れ、印刷模様１７の耐久性も優れている。 - 特許庁 - The second determination means 22 performs defect determination on the basis of illumination light components of the pixel values of the peripheral pixels.
第２の判定手段２２は、複数の周辺画素の画素値の照明光成分に応じたキズ判定を実施する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor memory having a test mode in which defect of a boosting circuit system can be specified and its test method.
昇圧回路系の不良特定を可能としたテストモードを有する半導体メモリ及びそのテスト方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, the defect in the cholesteric liquid crystal layer can be easily and precisely checked by visual check of an observer.
このため、コレステリック液晶層２０の欠陥を観察者の目視により簡易にかつ精密に検査することができる。 - 特許庁 - After that, magnetization inversion in a potential defect part is promoted by performing heating processing S20 for the medium.
さらにその後、加熱処理Ｓ２０を媒体に施すことで、潜在的な欠陥部分における磁化反転を促進させる。 - 特許庁 - The size of the foreign substance or defect is calculated based on the result of the addition processing with weight or the equalization processing with weight.
また、その重み付き加算処理又は重み付き平均化処理の結果から異物や欠陥の大きさを算出する。 - 特許庁 - To effectively use a stencil paper roll without scrapping it even when there is a defect in a part thereof.
孔版原紙ロールの一部分に欠陥があっても廃棄することなくできる限り有効に活用できるようにする。 - 特許庁 - The first address signal 62 and the second address signal 64 are supplied to the defect analysis memory 20 independently each other.
第１アドレス信号６２および第２アドレス信号６４は、互いに独立して不良解析メモリ２０に供給される。 - 特許庁 - To provide a method for stably and fast manufacturing a defect-free silicon single crystal having a predetermined controlled oxygen concentration.
所定の酸素濃度に制御された無欠陥のシリコン単結晶を安定して高速で製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an epitaxial wafer in which pit defect in an epitaxial layer is reduced in a silicon single crystal wafer in which arsenic is doped.
ヒ素をドープしたシリコン単結晶ウェーハにおいて、エピタキシャル層のピット欠陥を低減したエピタキシャルウェーハの提供。 - 特許庁 - To prevent image moire fringes of relatively low magnification by an image-type defect inspection equipment.
画像式欠陥検査装置において相対的に低倍率の画像のモアレを回避することのできる技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a filling device capable of smoothly and definitely preventing the occurrence of problems caused by the sealing defect of a bag.
袋のシール不良による問題の発生を円滑且つ確実に防止することができる充填装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for overcoming a defect by using recycle tire particles as a filling material for an artificial turf structure.
人工芝の構造体の充填材としてリサイクルタイヤ粒子を用いることによる欠点の克服方法の提供。 - 特許庁 - To improve flexibility in the layout of re-wiring at a wafer level CSP which saves a defect, by disconnecting a fuse.
ヒューズの切断によって欠陥救済を行うウエハレベルＣＳＰにおいて、再配線のレイアウトの自由度を向上させる。 - 特許庁 - In a minute defect inspection process, an inspection bias voltage is applied between the anode electrode 11 and the insulation breakdown detecting electrode 31.
そして，微小欠陥の検査では，アノード電極１１と破壊検出電極３１との間に検査バイアスを印加する。 - 特許庁 - To prevent trouble such as a fixation defect, an abnormal image, and unit damage due to erroneous detection of a contactless sensor.
非接触センサの誤検知による定着不良，異常画像，ユニット損傷などの不具合の発生を未然に防ぐ。 - 特許庁
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