「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 141 142 143 144 145 146 147 148 149 .... 366 367 次へ＞- To provide a single crystal production method capable of markedly widening the production margin in pulling a single crystal in a defect-free region and therefore capable of markedly improving the production yield of a defect-free region crystal and its productivity.
無欠陥領域の単結晶を引き上げる際の製造マージンを大幅に拡大することができ、したがって、無欠陥領域結晶の製造歩留り、生産性を大幅に向上させることが可能な単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁 - This device is provided independently with a detection signal processing circuit for forming a large current high-speed image for detecting the existence of the defect, and a detection signal processing circuit for forming an image of a specified narrow portion detected by the defect detecting inspection hereinbefore.
欠陥の存在を検出する為の大電流高速画像形成用の検出信号処理回路と、この欠陥検出検査により検出された特定の狭い部位の画像形成用の検出信号処理回路とを独立に設ける。 - 特許庁 - To estimate influence affected to another component or process by generation of a defect in a certain component or process in a stage (a product design stage or a design stage of a production process) before production, and to estimate an importance level of the defect to support a design of the production process.
製造前の段階（製品設計段階や製造工程の設計段階）で、ある部品や工程における不良の発生が他の部品や工程に及ぼす影響を推定し、不良の重要度を評価して製造工程の設計を支援する。 - 特許庁 - In the case that the bearing defect peak (94) may exist, an amplitude of the bearing defect peak (94) is quantified (107, 109) in order to determine whether a degradation of the monitored bearing (54) has at least reached a predetermined threshold criterion.
軸受欠陥ピーク（９４）が存在する場合には、監視される軸受（５４）の劣化が、予め確立されたしきい値基準に少なくとも達したかどうかを判断するために、軸受欠陥ピーク（９４）の振幅が定量化される（１０７、１０９）。 - 特許庁 - Since the lattice defect formed in the stress light emitter by exposure is retained for a long period of time, also the accumulated amount of exposure can be simply measured without separately using the composition of a memory device or the like if the lattice defect is used.
被曝により応力発光体に形成される格子欠陥が長期間保持されるため、当該格子欠陥を用いれば被曝量の積算についても記憶装置等の構成を別途用いることなく簡易に計測することができる。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal device capable of performing high quality display having high transmittance and free from an alignment defect (disclination) by eliminating occurrence of an alignment defect due to a lateral electric field in a twisted nematic type liquid crystal, and to provide an image display device provided with the liquid crystal device.
ツイストネマチック型の液晶において、横電界による配向不良の発生をなくし、高透過率で配向欠陥（ディスクリネーション）なしの高品位表示を可能とする液晶装置及びそれを備えた画像表示装置を提供する。 - 特許庁 - When a defect is incurred on the TFT 1, the picture element defect is corrected by irradiating an intersectional part of a current-carrying part 6 for correction and a picture element electrode 4 with laser light for destroying a lying gate insulating film and short-circuiting the picture element electrode 4 and the reference potential line 3.
ＴＦＴ１の不良時、レーザ光を修正用導電部６の画素電極４と交差する部位に照射することで、介在するゲート絶縁膜を破壊し、画素電極４と基準電位線３とを短絡させ、画素欠陥を修正する。 - 特許庁 - This three-dimensional photonic crystal system has the above-mentioned constitution, so the specific interaction action between the defect layer and three-dimensional photonic crystals can be adjusted by changing directions of the three-dimensional photonic crystals coming into contact with the defect layer.
本発明の３次元フォトニック結晶システムでは、上記のような構成をとるので、欠陥層と接する３次元フォトニック結晶の向きを変化させることにより、欠陥層と３次元フォトニック結晶表面との相互作用を調整できる。 - 特許庁 - To provide an internal pressure defect detecting method and its device for a case internal container, which can detect an internal pressure defect of a container after a content liquid has been filled by hot pack filling or retort processing, and the container has been housed in a case, from the outside of the case.
ホットパック充填やレトルトなどで内容液を充填し、ケースに収納した後の容器の内圧不良をケースの外部から検出することができるケース内容器の内圧不良検出方法およびその装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for correcting a color filter, which forms a light shielding part in a light transmission defect part of a color filter substrate, or forms a light shielding part by removing a raised defect such as a foreign matter by laser repair, and to provide the color filter substrate.
カラーフィルタ基板の光透過欠陥部に遮光部を、もしくは異物等の高さのある欠陥をレーザーリペアで除去して遮光部を形成するカラーフィルタ欠陥の修正方法及びカラーフィルタ基板を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a developing device where fogging and image density unevenness onto a recording medium caused by a toner charging defect and a toner carrying defect are suppressed, and excellent image stability can be obtained; to provide an image forming apparatus; to provide an image forming method; and to provide a process cartridge.
トナーの荷電不良及びトナーの搬送不良による記録媒体上へのカブリ及び画像濃度ムラを抑制し、優れた画像安定性が得られる現像装置、画像形成装置、画像形成方法、及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁 - The copper alloy for electric materials excellent in the surface characteristic contains at least 1.0-3.0 mass % of Ni, 0.2-0.6 mass % of Si in the composition, and having zero piece/1000 mm^2 of the surface defect of a cracked folding defect larger than 20 μm.
組成がＮｉ：１．０〜３．０ｍａｓ％、Ｓｉ０．２〜０．６％を少なくとも含有し、大きさ20μm以上のクラック状の折れ込み欠陥である表面欠陥がゼロ 個／１０００ｍｍ^２である表面性状に優れた電子材料用銅合金。 - 特許庁 - The quality grade and the supplier grade of the component can be obtained, taking into consideration the defect rate of the component, after shipping as well as the defect rate during production, thereby reliability of the quality determination apparatus is improved.
したがって生産時における部品の不良発生率に加えて、出荷後における部品の不良発生率を考慮した部品の品質等級および部品の供給者等級を求めることができ、信頼度の高い品質判定装置を実現する。 - 特許庁 - To efficiently correct a longitudinal line flaw of a fine level caused by a defect of a vertical transfer path which is hardly conspicuous rather than an ordinary defective pixel while avoiding the increase of a ROM capacity or the like for storing defect information on pixels of a solid-state imaging device.
固体撮像素子の画素の欠陥情報を格納するＲＯＭ等の大容量化を回避しつつ、通常の欠陥画素よりも目立ち難い垂直転送路の欠陥に起因する微妙なレベルの縦線キズを効率よく補正する。 - 特許庁 - Further, in a Zn alloy die-cast product produced by using the Zn alloy for die-casting, the defect in cavities is remarkably reduced, the defect in surfaces and the detect in blistering are reduced, and mechanical properties such as strength, elongation and a Young's modulus are improved.
また，本発明のダイカスト用Ｚｎ合金を用いて製造されたＺｎ合金ダイカスト製品は，空洞欠陥が著しく減少し，表面不良やフクレ欠陥が少なくなり，強度や伸び，ヤング率といった機械的特性も向上する。 - 特許庁 - Further, a groove 12 is formed on a transparent insulating substrate 1 in advance and the lower-layer wiring line of the structure is buried therein to suppress the disclination defect due to the step of the lower-layer wiring line and the wire breaking defect of the upper-layer wiring line.
また、予め透明絶縁基板１に溝１２を形成し、その中に上記構造の下層配線を埋設することにより、下層配線の段差に起因するディスクリネーション不良や上層配線の断線不良の発生を抑制する。 - 特許庁 - The camera detects the presence/absence of mount of the conversion lens and applies correction for reducing a defect caused by the mounting (e.g., a defect caused by misalignment between optical axes of the conversion lens and a photographing lens) to image data when the conversion lens is mounted.
カメラは、コンバージョンレンズの装着の有無を検知し、装着されている場合には、その装着によって生ずる不具合（例えば、コンバージョンレンズと撮影レンズとの光軸のずれに起因する不具合）を軽減するための補正を画像データに施す。 - 特許庁 - To shorten transfer time of relief information for relieving defect of redundant memory, and disconnect period of an electric fuse while suppressing increase of a circuit area in a semiconductor device in which a defect cell in a chip contains a self-repairable system.
チップ内の不良セルが自己修復可能なシステムを含む半導体装置において、回路面積の増加を抑制しつつ、冗長メモリの不良を救済するための救済情報の転送時間、および電気ヒューズの切断時間を短縮する。 - 特許庁 - The defect substitution permission attribute data indicates whether recording of user data is performed in a permitted state in which execution of defect substitution processing substituting a defective region in the user region 104 by a substitution region in the spare region 105 is permitted or not.
欠陥代替許可属性データは、ユーザデータの記録が、ユーザ領域１０４内の欠陥領域をスペア領域１０５内の代替領域に代替する欠陥代替処理の実行が許可された状態で行われたか否かを示す。 - 特許庁 - When the spectrum score R_LF is smaller than the reference spectrum score value, the control part 10 determines that the structure is sound without a defect, and when the spectrum score R_LF exceeds the reference spectrum score value, the control part 10 determines that the structure has a defect.
次に、制御部１０は、スペクトルスコアＲ_ＬＦが基準スペクトルスコア値よりも小さい場合には当該構造物には欠陥はなく健全と判断し、スペクトルスコアＲ_ＬＦが基準スペクトルスコア値を超える場合には、欠陥があると判断する。 - 特許庁 - To provide an ultrasonic flaw detection method, an ultrasonic flaw detection device, and a pipe material manufacturing method capable of detecting even a recessed defect generated on the inner surface of a pipe material of metal such as a steel pipe, and a wrap-shaped shallow defect.
鋼管などの金属の管材の内側表面上に生じた凹み欠陥や、ラップ状の浅い欠陥であっても検出することができる超音波探傷方法、超音波探傷装置、および管材製造方法を提供すること。 - 特許庁 - A crystal defect due to donor appears in n-type AlGaAs grown by MOVPE but a similar crystal defect is not detected in n-type GaInP, n-type AlInP and n-type AlGaInP grown by the same method.
ＭＯＶＰＥ法で成長させたｎ型ＡｌＧａＡｓにはドナーに起因する結晶欠陥が発生するが、同様の方法で成長させたｎ型ＧａＩｎＰ、ｎ型ＡｌＩｎＰ、ｎ型ＡｌＧａＩｎＰには同種の結晶欠陥は検出されない。 - 特許庁 - The edge defect enhancement filter determines respectively each difference between an object pixel selected in the imaged image and each comparison pixel arranged separately from the object pixel as long as a prescribed distance, and the smallest value among the values is used as the edge defect enhancement value.
エッジ欠陥強調フィルタは、撮像画素において選択された対象画素と、対象画素から所定距離だけ離れて配置された各比較画素との差をそれぞれ求め、これらの値のうち、最も小さい値をエッジ欠陥強調値とする。 - 特許庁 - The imaging device 1 includes a solid-state imaging element 3, a defect information memory 7 which stores, in advance, information relating to the types of defects of defective pixels and information relating to the defective levels of defective pixels, and a defect correction circuit 6 for correcting image data of defective pixels.
撮像装置１は、固体撮像素子３と、予め欠陥画素の欠陥種類情報及び欠陥レベル情報を記憶する欠陥情報メモリ７と、欠陥画素の画像データに関する補正を行う欠陥補正回路６とを有する。 - 特許庁 - By this manner, the maximum moving distance in the local area is made short by correcting the total positional shift, in the defect detector 1, and the defect on a substrate 9 is efficiently detected taking the local positional shift into account.
このように、欠陥検出装置１では全体的な位置ずれを補正することにより局所領域の最大移動距離を小さくすることができ、局所的な位置ずれを考慮した基板９上の欠陥検出を効率よく行うことができる。 - 特許庁 - After mechanically removing the defect 20 generated in the hard build-up welding part 15 and performing build-up welding to the defect removing part by the alloy for repair-welding, a working surface is formed by finishing the surface of the repaired build-up welding part into a smooth surface with a machine.
硬化肉盛溶接部１５に発生した前記欠陥２０を機械的に除去し、前記補修溶接用合金を欠陥除去部に肉盛溶接したのち、補修肉盛溶接部の表面を滑らかに機械仕上して作動面を形成する。 - 特許庁 - To provide a cold rolled steel sheet for enameling excellent in blistering defect resisting characteristics, in which, even in the case a low carbon or extra low carbon-high B series cold rolled steel sheet for enameling is used as the stock, a defect in blistering is not generated after the application of porcelain enamel and baking.
低炭・極低炭−高Ｂ系ほうろう用冷延鋼板を素材とする場合であっても、ほうろう施釉、焼成後にフクレ欠陥が発生することのない、耐フクレ欠陥特性に優れたほうろう用冷延鋼板を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect correction device of an electronic circuit pattern, the correction device actualizing defect species which are difficult to be recognized by observation using a conventional correction device relative to defects detected by an electric inspection or the like, and normalizing a pixel or forming a semi-black point therefrom.
電気検査等で検出された欠陥に対して、従来の修正装置での観察では認識が困難であった欠陥種を顕在化し、画素を正常化あるいは半黒点化できる電子回路パターンの欠陥修正装置の提供。 - 特許庁 - To provide an electrostatic charging member which excels in durability in long-term use by preventing the variation in the resistance value of the electrostatic charging member, toner sticking and the electrostatic charging defect accompanying these and preventing a photoreceptor defect and the abnormal electric discharge by the resistance ununiform.
帯電部材の抵抗値バラツキ、トナー固着及びそれらに伴う帯電不良を防止するとともに、感光体欠陥や、抵抗不均一による異常放電を防止し、長期使用時の耐久性に優れた帯電部材を提供することである。 - 特許庁 - To obtain a color filter substrate which facilitates correction of a defect in a color filter portion, which does not require a plurality of times of inspection steps in the manufacturing process and which shows no display failure even when used for a liquid crystal display device after correcting a defect.
カラーフィルタ部分の欠陥修正を容易に実現できるとともに、製造過程で複数回の検査工程を必要とせず、欠陥修正後に液晶表示装置に用いても表示が不良とならないカラーフィルタ基板の実現を課題とする。 - 特許庁 - To provide a polarizer plate lamination protection film facilitating detection of bright point defect caused by a polarizer plate and having no bright point defect even when flaws or the like adhere on a surface, and to provide a protection film lamination polarizer plate laminated with the protection film.
偏光板起因の輝点欠陥検出を容易とし、また、表面に疵等が付着しても輝点欠陥となることがない偏光板積層用保護フィルム、およびその保護フィルムを積層してなる保護フィルム積層偏光板を提供する。 - 特許庁 - To maintain conventional capacity of a defect list to achieve compatibility with a conventional device and efficiency of start process even when a defect cluster is increased by increase of the capacity when the capacity is tried to be further increased by multi-layer technique.
多層技術などにより更に大容量化を行おうとする際に、容量増加に伴うディフェクトクラスタの増加があっても、従来装置との親和性や起動処理の効率化などのために、ディフェクトリストの容量は従来のままで済ませる。 - 特許庁 - The defect inspection of a panel 2 to be inspected transmits parallel light fluxes PL from a light condensing lens 13 to the image region of the panel 2 and directly projects a defect in the image region of the panel 2 to a CCD sensor 25.
被検査パネル２の欠陥検査において、集光レンズ１３からの平行光束ＰＬを被検査パネル２の画像領域に透過させ、被検査パネル２の画像領域における欠陥がＣＣＤセンサー２５に直接的に投影される構成とした。 - 特許庁 - A defect determining device 13 receives a signal from the signal computing device 12 in the plurality of leakage flux detecting parts arranged in the lateral direction and a signal from a pulse generator 14 coupled to a transfer roller 2b and finally determines the defect.
欠陥判別装置１３は、これら横方向に並べられた複数の漏洩磁束検出部における信号演算装置１２からの信号と搬送ローラ２ｂに結合されたパルスジェネレータ１４からの信号を受け、最終的に欠陥を判別する。 - 特許庁 - When the tip of the sensor 3 hits against the surface projection defect of the object 1 to be inspected, the sensor 3 is bent and the resistance of the strain gauge 2 changes, which is detected by the strain-measuring instrument 7 for detecting a surface projection defect.
連続的に送られてくる被検査物１の表面突起欠陥に前記センサ３の先端が当たると、当該センサ３が曲がり前記ひずみゲージ２の抵抗値が変化し、これをひずみ測定器７が検出して、表面突起欠陥を検出する。 - 特許庁 - To obtain a screen printing plate which reduces a blur defect or a thin-spot defect in an edge portion of a printed pattern and forms the printed pattern having a high dimensional accuracy and little nonuniformity in the area, and a manufacturing method of an electronic component.
印刷パターンのエッジ部分におけるにじみ不良やかすれ不良の発生を抑制し、寸法精度が高く面積ばらつきの少ない印刷パターンを形成することができるスクリーン印刷版及び電子部品の製造方法を得る。 - 特許庁 - In this method, when a defect signal is detected from an RF signal of an optical disk such an RF switch 2 is arranged so that the defect signal is applied to a high-pass filter during only the specified period when the detection signal is outputted.
本発明では、光ディスクのＲＦ信号からディフェクト信号が検出されているとき、その検出信号が出力されている所定の期間だけそのディフェクト信号をハイパスフィルタにかけるようなＲＦスイッチ２が設けられている。 - 特許庁 - To eliminate the image quality defect due to the display unevenness of a non-display region when eliminating the image quality defect due to the impurity ions in a liquid crystal in a display region by moving the impurity ions to the non-display region.
表示領域における液晶内に存在する不純物イオンを非表示領域へ移動させ、当該不純物イオンに起因する画質不良を解消するに当たって、非表示領域の表示ムラに起因する画質不良を無くす。 - 特許庁 - The data processing circuit 45 has: a memory for storing inputted control data; and a control section for selectively storing control data on a peripheral region including the position of defects in a memory, based on the defect data obtained by a defect inspection machine.
データ処理回路４５は、入力された制御データを格納するためのメモリと、欠陥検査機で得られた欠陥データに基づき、欠陥の位置を含む周囲領域に関する制御データを選択的にメモリに格納させる制御部とを備えている。 - 特許庁 - To provide a learning supporting system for finding a defect from 3D car image information of a used car including the defect beforehand and making an assessment with a learner learning the price assessment of the used car as an object.
中古自動車の価格査定の学習を行う学習者を対象に、予め瑕疵を含んだ中古自動車の３Ｄ自動車画像情報より、その瑕疵を探し出して査定を行う学習支援システムを提供することを目的とする。 - 特許庁 - As a result, in the wafer treatment processing 100, the Si+ ions introduced at the ion implantation processing 120 are bonded to a vacant lattice defects, produced in the ion implantation process 110, thereby crystal defect generation caused by the vacant lattice defect is prevented.
結果として，ウェハ処理工程１００では，イオン注入工程１２０で導入されたＳｉ＋イオンが，イオン注入工程１１０で生じる空格子欠陥と結合し，空格子欠陥に起因する結晶欠陥の発生が抑制される。 - 特許庁 - To provide a photomask, manufacturing method of photomask and manufacturing method of semiconductor device which can improve a resist shape on a wafer after a photomask pattern exposure, and obtain sufficient defect detection sensitivity in the defect inspection of the photomask.
フォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスクの欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - In a defective part specification step, a resistance value between partition elements 21 adjacent to each other along the longitudinal direction L of the partition element is measured only in the partition element determined as an element with a structural defect in a defect partition specification step being a preceding step.
欠陥部位特定工程では、前工程の欠陥区画特定工程において構造欠陥が存在するとされる区画素子に限って、その長手方向Ｌに沿って、隣接する区画素子２１との間の抵抗値を測定する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for an OF cable, whereby if a defect should occurs in a lead covered tube, cooling water is prevented from infiltrating into the lead covered tube, and the defect can be promptly discovered by making oil ooze out on the contrary.
鉛被覆中に、万が一、鉛被管に欠陥が発生した場合、冷却水を鉛被管内に浸入させず、逆に油をしみ出させて欠陥をすぐに発見できるようにしたＯＦケーブルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a color filter capable of promptly recognizing the cause of a defect at a process of forming the color filter, and capable of effectively preventing the occurrence of the defect.
本発明は、カラーフィルタを製版する際の工程において、欠陥を生じさせる原因を速やかに認識することができ、効果的に欠陥の発生を防止することが可能なカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - To provide an optical surface defect inspection device or an optical surface defect inspection method which can achieve high sensitivity inspection by enabling improvement in S/N by a multiple dividing cell system even without performing an autofocus operation.
本発明は、オートフォーカス動作を行わなくとも、多分割セル方式によるＳ／Ｎ向上を可能とし、高感度の検査を実現できる光学式表面欠陥検査装置または光学式表面欠陥検査方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a method and device for inspecting a product defect of a rolling device component capable of accurately inspecting whether there is a product defect in the rolling device component manufactured by insert molding without being accompanied by breakdown such as cutting.
インサート成形により製造された転動装置部品に製品欠陥があるか否かを切断などの破壊を伴わずに精度よく検査することのできる転動装置部品の製品欠陥検査方法及び製品欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - Thus, the succession of the defect growth of the micro pipe 5 in the seed crystal 4 can be suppressed, while the part of the seed crystal stays on the upper stream side, and the succession of the defect growth of the micropipe 5 can be inhibited all over the growing faces of the silicon carbide single crystal 6.
これにより、炭化珪素単結晶６の成長面の全体においてマイクロパイプ欠陥５の継承を停止させることができ、炭化珪素単結晶６の成長面全体においてマイクロパイプ欠陥５の継承を防止できる。 - 特許庁 - To provide an extreme ultraviolet rays exposure mask which can inspect the defect of an adsorption film without necessity of complication of a depositing process and which can inspect even the defect occurring at the time of exfoliating a cushion film.
吸収膜の大幅な低反射率化、成膜工程の複雑化を必要とせずに、吸収膜の欠陥検査が可能であるとともに、緩衝膜の剥離時に生じる欠陥に対しても、検査が可能な極端紫外線露光用マスクを提供すること。 - 特許庁 - To accurately detect a defect irrespective of writing power during recording, disk reflectance or a variance in amplifier gain, and to determine whether a defect in the surface of an optical disk causes the recording mistake of optical information in one RUB.
記録時のライトパワー、ディスクの反射率やアンプゲインのばらつきに左右されることなく正確な欠陥検出を可能にし、光ディスクの表面に付けられた欠陥が１ＲＵＢ内で光情報の記録ミスを生じさせる欠陥か否かを判定する。 - 特許庁
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