「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 144 145 146 147 148 149 150 151 152 .... 366 367 次へ＞- To manufacture a composite thin film magnetic head having high quality while performing the measurement for inspecting the defect in the course of the manufacturing process.
製造工程の途中にて欠陥検査のための測定を行いながら、高品質の複合型薄膜磁気ヘッドを作製する。 - 特許庁 - To accurately predict the density distribution and size distribution of a void defect composed of a void in a single crystal and an inner-wall oxide film.
単結晶内のボイド及び内壁酸化膜からなるボイド欠陥の密度分布及びサイズ分布を正確に予測する。 - 特許庁 - To manufacture a parallel flange channel steel, rolling, which is a base stock for a square column without generating defect in shape.
角型コラムの素材となる平行フランジ溝形鋼を、形状不良を発生させずに、圧延により製造することができない。 - 特許庁 - By such method, the explosion of the weld metal and the occurrence of the weld defect due to the occurrence of the zinc vapor can be reduced.
この方法により、亜鉛蒸気の発生による溶融金属の爆飛や溶接部欠陥の発生を低減することができる。 - 特許庁 - The edge of a semiconductor wafer is inspected using the imaging method to find the defect position and the form in this way.
半導体ウェハのエッジをイメージング方法を用いて検査し、エッジ上の欠陥の位置および形状をこのようにして求める。 - 特許庁 - PLATE GLASS DEFECT DETECTOR, PLATE GLASS MANUFACTURING METHOD, PLATE GLASS ARTICLE, PLATE GLASS QUALITY DETERMINATION DEVICE, AND PLATE GLASS INSPECTION METHOD
板ガラス欠陥検出装置、板ガラスの製造方法、板ガラス物品、板ガラスの良否判定装置及び板ガラスの検査方法 - 特許庁 - To reduce the defect ratio at the time of an IC packaging by raising the transmittance.
本発明による軟性金属積層板は、透過度が高くなることでＩＣパッケージングの際に不良率を低める効果をもたらす。 - 特許庁 - To reduce artifacts occurring to an image by eliminating influences of errors even when errors, such as deficit or defect, occur to a detector.
検出器に欠損や不良等のエラーが発生しても、エラーの影響を除去し、画像に生じるアーティファクトを低減する。 - 特許庁 - The image signal associated with the white pixel defect is corrected through subtraction processing using an added value added to the image signal by a defective pixel.
欠陥画素により画像信号に上乗せされた上乗値の減算処理により白傷に係る画像信号を補正する。 - 特許庁 - To facilitate the setting of parameters of a read channel when an offset is measured and make correctly measurable an optimum offset even when there is a medium defect or the like.
測定時のリードチャネルのパラメータ設定が容易で媒体欠陥等があっても正確に最適なオフセットを測定できる。 - 特許庁 - To provide a means capable of promptly and easily identifying a defect position of a plurality of conductive patterns formed on a substrate.
基板上に形成された複数本の導電パターンの欠陥位置を迅速かつ簡易に特定できる手段を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a long-size flexible polyimide metal laminated body having no internal defect for high-density wiring.
本発明は、高密度配線用に内部欠陥のない長尺のフレキシブル金属積層体の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To prevent a white dot defect caused in transfer of a high density image formed by consecutive dots in a digital image.
デジタル画像におけるドットが連なることにより形成される高濃度画像の転写において発生する中抜けを防止する。 - 特許庁 - A driver circuit having a redundant control function to store the information on the defective memory cell is provided to repair a defect of the memory cell array.
駆動回路に不良メモリセルに関する情報を記憶した冗長制御機能を設け、メモリセルアレイの欠陥を救済する。 - 特許庁 - To reduce the processing load while diagnosing the defect of a storage device provided in a device that controls an electric power steering device.
電動パワーステアリング装置を制御する装置が有する記憶装置の不具合を診断する際の処理負荷を低減すること。 - 特許庁 - A method to be executed by a computer includes determining an optimum parameter for inspection based on a selected defect.
コンピュータによって実施される方法は、選択された欠陥に基づいて検査のための最適パラメータを決定することを含む。 - 特許庁 - To suppress deterioration of productivity in an image forming apparatus, while preventing a defect to occur in performing post-processing.
後処理を行う際に生じ得る不具合を防止しつつ、画像形成装置の生産性の低下を抑制できるようにする。 - 特許庁 - To provide a plasma CVD apparatus which can minimize the occurrence of a film defect on a substrate, which originates in film flakes.
皮膜フレークに起因する基材上の皮膜欠陥の発生を最小にすることができるプラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁 - To reliably reduce manufacturing defect in performing stretching to a continuum of materials including an absorbent article.
吸収性物品を構成する資材の連続体に延伸加工を施す場合において、製造不良を確実に抑制する。 - 特許庁 - First, defect distribution in the vicinity of the surface of a glass substrate to be polished is inspected by a positron annihilation gamma ray measurement.
研磨対象のガラス基板に対し、まず、陽電子消滅ガンマ線測定により、表面近傍の欠陥分布の検査を行う。 - 特許庁 - The defects information is added with the image at the time of inspection, and then is compared with an image at the time of checking defects to correct the location of the defect.
また、欠陥情報に検査時の画像を付加し、欠陥確認時の画像と照合することで位置を補正する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a silicon wafer capable of extinguishing a Grown-in defect on a surface layer where a device is formed.
デバイスが形成される表層のＧｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥を消滅可能なシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for analyzing a defect and a method therefor which enable easy specification of a defective spot of a semiconductor device.
半導体装置の不良箇所を容易に特定することができる不良解析装置およびその方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor integrated circuit capable of narrowing down a defect cause and a defective part while maintaining tamper resistance.
耐タンパー性を維持したまま不良原因および不良箇所の絞り込みが可能となる半導体集積回路を提供する。 - 特許庁 - To reduce a color noise caused by pixel defect or the like of a solid-state imaging element without any causing image blur.
カラー固体撮像装置の固体撮像素子の画素欠陥等によリ発生する着色ノイズを画像ボケを伴わずに低減する。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition for dry exposure excellent in development defect suppressing property, and to provide a method for forming a resist pattern.
現像欠陥抑制性に優れるドライ露光用フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - To provide a shape measuring method which eliminates a defect in a conventional method and in which the height distribution of an object is obtained in a noncontact manner.
従来の方法の欠点を解消した非接触で物体の高さ分布を得る形状計測方法を提供する。 - 特許庁 - To produce a thermoplastic resin-coated aluminum can high into corrosion resistance and high in qualuity without causing any film defect in a high yield.
皮膜欠陥のない高耐食性、高品質な熱可塑性樹脂被覆アルミニウムシームレス缶を歩留まりよく提供すること。 - 特許庁 - SPONTANEOUS LIGHT EMISSION MODULE, ELECTRONIC EQUIPMENT MOUNTED WITH SAME MODULE, AND METHOD FOR VERIFYING DEFECT STATE OF SAME MODULE
自発光表示モジュールおよび同モジュールを搭載した電子機器、ならびに同モジュールにおける欠陥状態の検証方法 - 特許庁 - To provide a substrate correction method for repairing a defect of a substrate at high precision without requiring a complicated process.
複雑な工程を必要とせずに、高精度に基板の欠陥を修復することが可能な基板修正方法を提供する。 - 特許庁 - The silicon wafer is irradiated with infrared light, and the crystal defect is inspected from an image which is obtained by performing imaging with the use of the transmission infrared light.
シリコンウェーハに赤外線を照射し、透過赤外線を撮像して得られる画像から結晶欠陥を検査する。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for detecting a defect by inspecting a microscopic circuit pattern with high resolution.
本発明は，微細な回路パターンを高い分解能で検出し，欠陥を検出する方法及び装置を提供することにある。 - 特許庁 - To eliminate a short circuit between electrodes caused by a structural defect of a passive matrix type organic thin-film light emitting display by self-repair.
パッシブマトリクス型有機薄膜発光ディスプレイの構造欠陥に伴う電極間短絡を自己修復によって解消する。 - 特許庁 - To realize the miniaturization of crystal defect grains and the improvement of pulling up speed at the same time, and improving the production efficiency of a wafer for annealing.
結晶欠陥の小粒化と引上げ速度の向上とを同時に実現し、アニール用ウエハの生産効率を向上させる。 - 特許庁 - At the time of demolding of a mold disc 2a and a workpiece M, a defect such as a protuberance of the top face center section of the workpiece M does not arise.
型円板２ａと素材Ｍとの離型時に、素材Ｍの上面中央部の隆起などの不具合が生じない。 - 特許庁 - To provide a cooling method for a float bath for producing float glass to get rid of the cause of surface defect of a float glass product.
フロートガラス製品の表面欠陥の原因を取り除く為の、フロートガラス製造用フロート槽の冷却方法の提供。 - 特許庁 - To attain a quick and stable servo control by suppressing capture time even when a comparatively serious defect occurs on an optical disk.
光ディスク上に比較的大きな欠陥が発生しても、Capture時間を抑制し、迅速に安定的なサーボ制御を行うこと。 - 特許庁 - To provide a method for determining a photomask defect for improving the production yield of photomasks and suppressing the cost of an inspection.
フォトマスクの製造歩留まりを向上し、検査コストを抑制することができるフォトマスク欠陥判定方法を提供する。 - 特許庁 - To provide substrate processing method capable of suppressing the generation of device defect, in a device manufacturing method comprising a liquid immersion exposure process.
液浸露光工程を含むデバイス製造工程において、デバイス欠陥の発生を抑制できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To improve wrong binarization due to amplitude variation resulting from a flaw or defect of a disk without varying binarization characteristics in normal reproduction.
通常再生時の２値化特性を変えることなく、ディスクの傷、欠陥に対する振幅振られによる誤２値化を改善する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus which reduces a problem occurring when a die pitch differs from an optical axis pitch in a multi-body tube.
マルチ鏡筒でダイピッチと光軸ピッチとが異なったときに生じる問題を低減する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a protective member which overcomes the defect of a conventional technology and is especially comfortable to put on and does not hinder a player's ability.
従来技術の欠点を克服し、特に、着心地がよく、競技者の能力を妨げない保護部材を提供する。 - 特許庁 - To improve a sensitivity by preventing a bias defect or shading occurrence caused by a voltage drop in a row selection line.
行選択線の電圧降下に起因するバイアス不良やシェーディング発生を防止することができ、感度の向上をはかる。 - 特許庁 - To provide a method of stably manufacturing particles for a display medium having low driving voltage and hardly incurring display defect.
駆動電圧が低く、表示不良を起こし難い表示媒体用粒子を安定して製造する製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an efficient and reliable method and system for classifying defects in defect inspection of a silicon wafer substrate.
シリコンウェーハ基板の欠陥検査において、欠陥を分類するための効率的で、信頼性のある方法及びシステムを提供する。 - 特許庁 - To prevent an operation defect due to contact abnormality of a key switch consisting of a 3-make switch in an electronic keyboard musical instrument.
電子鍵盤楽器において、３メイクスイッチで構成された鍵スイッチの接点異常による動作不良を未然に防止する。 - 特許庁 - To provide a disk drive capable of processing even a disk in which a defect exists without degrading the reliability thereof.
欠陥が存在するディスクであっても信頼性を低下させることなく処理することが可能なディスク装置を提供すること。 - 特許庁 - An inspection map is prepared by performing a defect detection process 32 to the surface of the substrate, and a data base 34a is provided.
基板表面に対して欠陥検出プロセス３２を行って検査マップを製作し、またデータベース３４ａを提供する。 - 特許庁 - To provide a wiping method wherein a defect mending operation and a blushing removal operation are not required before and after a wiping process.
ワイピング工程の前後に欠点の補修作業やかぶりの除去作業を行う必要のないワイピング方法を提供する。 - 特許庁 - LINEARLY DRIVING DEVICE, VARIABLE SHUTTER DEVICE, BEAM SHAPING DEVICE, BEAM IRRADIATING DEVICE, DEFECT CORRECTION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE
直線駆動装置、可変シャッター装置、ビーム成形装置、ビーム照射装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法 - 特許庁
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