「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • To provide a method and device for inspecting a defect of a glass plate capable of certainly detecting a defect that can be detected by image pickup by reflected and scattered light but cannot be detected by image pickup by transmitted and scattered light.
    本発明は、反射散乱光による撮像で検出でき、透過散乱光による撮像では検出できない欠点であっても確実に検出することができるガラス板の欠点検査方法及びその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To simplify an apparatus constitution, deal with a request for inspecting a defect as a glass substrate is moved, correct a flexure of the glass substrate, and improve the detection accuracy of the defect without generating excess stress concentration on a side of the glass substrate.
    ガラス基板を移動させながら欠陥の検査を行う要請にも簡易な装置構成で応じつつ、ガラス基板の辺に過度な応力集中を生じさせることなく、ガラス基板の撓みを矯正して欠陥の検出精度を向上させる。 - 特許庁
  • Difference ΔL between the maximum level Lmax and the minimum level Lmin is added to the average level Lav to generate a criterion value Lw of a white defect, the difference ΔL is subtracted from the average level Lav to generate a criterion value Lb of a black defect.
    最大レベルＬｍａｘと最小レベルＬｍｉｎとの差ΔＬを、平均レベルＬａｖに加算して白欠陥の判定基準値Ｌｗを生成し、平均レベルＬａｖから減算して黒欠陥の判定基準値Ｌｂを生成する。 - 特許庁
  • To preclude a subtle edge part difference from being detected as a defect candidate or a defect, when forming a pattern unavoidable on a process in an edge part, and to maintain high detection capability with respect to non-edge part defects.
    エッジ部においてはプロセス上不可避なパターン形成時の微妙なエッジ部差異を欠陥候補、または欠陥として検出しないようにする一方で、非エッジ部欠陥に対しては高い検出力を維持するパターン検査ができるようにする。 - 特許庁
  • To provide a metal strip surface defect preventive method and surface defect preventive equipment capable of using a metal strip after performing the shape correction by a roller type leveler device, and efficiently removing foreign matters on the surface of the metal strip.
    ローラ式レベラー装置により形状矯正を行って、その後金属帯を使用する金属帯表面上の異物を効率的に除去することができる金属帯の表面欠陥防止方法および表面欠陥防止設備を提供する。 - 特許庁
  • A determination value line 344C that indicates a defect degree determination value line set in a determination condition setting area 390 is displayed on a profile region 344, and a determination value line 346C that indicates a defect degree determination value is displayed on a profile region 346.
    プロファイル領域３４４には、判定条件設定エリア３９０において設定される欠陥度判定値を示す判定値ライン３４４Ｃが表示され、プロファイル領域３４６には、欠陥度判定値を示す判定値ライン３４６Ｃが表示される。 - 特許庁
  • The circuit pattern inspection device independently has a detection signal processing circuit for forming a large current high-speed image for detecting the presence of the defect, and a detection signal processing circuit for forming an image in a specific narrow part detected by this defect detecting inspection.
    欠陥の存在を検出する為の大電流高速画像形成用の検出信号処理回路と、この欠陥検出検査により検出された特定の狭い部位の画像形成用の検出信号処理回路とを独立に設ける。 - 特許庁
  • Based on a relationship between the predetermined time T and a defect ratio and a relationship between the defect ratio and a sensitivity normal-error difference to the normal sensor, a correction value for correcting the response current value measured in a measurement mode is computed.
    また、予め定めた時間Ｔと欠陥割合との関係、及び欠陥割合と正常センサに対する感度正誤差との関係に基づいて、測定モードにおいて測定される応答電流値を補正するための補正値を算出する。 - 特許庁
  • To detect a fine welding defect of approximate 50 μm in the vicinity of a pipe surface which occasionally occurs in a welded part of an electric resistance welded steel pipe and to prevent the electric resistance welded steel pipe having such a fine welding defect from occasionally being mixed into a resultant product.
    電縫鋼管溶接部に稀に発生する管体表面近傍の５０μｍ前後の微小な溶接欠陥を検出し、かかる微小な溶接欠陥を有する電縫鋼管が製品の中に稀に混入する事態を防ぐ。 - 特許庁
  • According by, the pattern data is prevented from being unexpectedly divided within the divided region determined according to the defect inspecting machine file format to solve the increase in data by the unnecessary pattern division and the delay of processing operation of the defect inspecting machine using it.
    これにより欠陥検査機用のファイルフォーマットで決まる分割領域内で図形データが不用意に分割されるのを防止して、不必要な図形分割によるデータの増大と、これを利用する欠陥検査機の処理動作の遅れを解消する。 - 特許庁
  • The defective region decision part 44 compares the pixel decided as a defect candidate region with a plurality of other images and decides it as a defective region when a position in an image in the defect candidate region matches any one of the plurality of other images.
    欠陥領域判定部４４は、欠陥候補領域と判定された画素を他の複数の画像と比較し、欠陥候補領域の画像中における位置が他の複数の画像と一致する場合には、これを欠陥領域として判定する。 - 特許庁
  • To enhance defect detection sensitivity at a pattern edge portion by improving the method of determining a correction amount, as to correction of gray level difference at the pattern edge portion performed in an image defect inspection method used for a visual inspection device for a semiconductor circuit.
    半導体回路の外観検査装置に使用される画像欠陥検査方法で行う、パターンエッジ部分におけるグレイレベル差の補正において、補正量の決定方法を改善して、パターンエッジ部分における欠陥検出感度を向上する。 - 特許庁
  • In a defect inspection according to the magnetic powder flaw detection method for applying ultraviolet rays to a test piece 1 and emitting fluorescence by a crack defect 2a, the image of the surface of the test piece 1 is picked up by a color television camera 3 via an ultraviolet ray cut filter 5.
    ここでは、試験体１に紫外線を照明し、割れ欠陥２ａで蛍光を発光させる磁粉探傷法による欠陥検査であるが、かかる試験体１の表面を、紫外線カットフィルタ５を介して、カラーテレビカメラ３で撮像する。 - 特許庁
  • A linear defect structure is made by eliminating one lattice row from a plurality of linear lattice row groups in a slab type two dimensional photonic crystal, the lattice point row adjacent to a linear defect is so moved to make the width narrower than the linear defect width equivalent to one row of lattice of points, or a structure arranged on the lattice points is deformed and the waveguide width becomes 0.7W.
    スラブ型２次元フォトニック結晶における複数の直線状の格子列群から１列格子列を除いて線欠陥構造とし、格子点１列分の線欠陥幅よりも狭くなるように、線欠陥に近接する格子点列を移動させ、または、格子点上に配置された構造体を変形させ、導波路幅を０.７Ｗとした構造である。 - 特許庁
  • This surface defect examining device by projecting the light to a web a, receiving the transmitted light, and examining a surface of the web a on the basis of an output signal from the light receiving part, comprises a surface defect signal detecting means for detecting the surface defect of the web a, and a formation noise signal detecting means for detecting the signal corresponding to formation noise.
    ウェブａに光を投光させて、この透過光を受光するとともに、この受光部からの出力信号によって、ウェブａの表面の検査を行う表面欠陥検査装置１において、ウェブａの表面欠陥を検出するための表面欠陥信号検出手段と、地合ノイズ相当の信号を検出するための地合ノイズ信号検出手段と、を備えておく。 - 特許庁
  • Just before weaving a glass cloth from glass warps and a glass weft 1 by using a weaving machine, the presence of defect of the glass warps and the glass weft 1 is examined by a glass yarn detector 2, when the defect is detected, the defect is removed or the glass yarn is replaced with another glass yarn and a glass cloth is woven by the proper glass yarn.
    織機を使用してガラス経糸及びガラス緯糸１によりガラスクロスを織成する直前に、糸欠陥検査器２により該ガラス経糸及びガラス緯糸１の欠陥の有無を検査し、欠陥を検出した場合には該欠陥を除去し若しくは別のガラス糸に交換し、適正なガラス糸によりガラスクロスを織成することを特徴とするガラスクロスの織成方法。 - 特許庁
  • By assuming a pseudo point defect according to various parameters based on the design of a liquid crystal display device 10, and displaying it by providing this pseudo-corrected pixel part at the time of correcting this point defect with a repair circuit with a step difference to other normal pixel parts, a state of the display of the liquid crystal display device 10 is simulated after correction of the point-like defect.
    液晶表示装置の設計に基づく種々のパラメータに応じて擬似的な点欠陥を想定し、かつ、この点欠陥をリペア回路によって修正した際の擬似的な修正画素部を、他の正常画素部に対し階調差を持たせて表示することにより、点状欠陥を修正した後の液晶表示装置の表示状態をシミュレーションする。 - 特許庁
  • An insulation inspection part 7 determines an insulation defect between the coil and the stator in the case that the current detection sensor 62 detects a discharge current, an insulation defect between the coil and the rotor in the case that the current detection sensor 63 detects a discharge current, and an insulation defect between the coil and the case in the case that the current detection sensor 64 detects a discharge current.
    そして，絶縁検査部７では，電流検出センサ６２にて放電電流が検出された場合には，コイル−ステータ間の絶縁不良とし，電流検出センサ６３にて放電電流が検出された場合には，コイル−ロータ間の絶縁不良とし，電流検出センサ６４にて放電電流が検出された場合には，コイル−ケース間の絶縁不良とする。 - 特許庁
  • To provide a board for a display device that comprises wiring for repair to restore disconnection defect occurring in a data bus line, actualizes a repaired data bus line when the wiring for repair is short-circuited, and easily performs discrimination with line defect occurring due to another cause, and to provide a liquid crystal display panel and device as well as a defect inspection method of wiring for repair.
    本発明は、データバスラインに生じた断線欠陥を修復するリペア用配線を備え、リペア用配線が短絡した場合にはリペア処理を施したデータバスラインを顕在化させ、他の原因で生じる線欠陥との識別を容易に行える表示装置用基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置並びにリペア用配線の欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The size of photonic crystals 13a of a plurality of photonic crystal arrays around a defect 15 of a coupled defect structure is made different from that of photonic crystals 13 of the other photonic crystal arrays 14 constituting an entire element 1, and anisotropy is given to the part of the defect 15, so that the element 1 can demonstrate great dispersion control effect and group speed delay effect.
    結合欠陥構造の欠陥１５周りの複数のフォトニック結晶配列のフォトニック結晶１３ａについてその大きさを当該素子１全体を構成している他のフォトニック結晶配列１４のフォトニック結晶１３とは異ならせて、当該欠陥１５部分に異方性を持たせることにより、大きな分散制御効果と群速度遅延効果とを発揮できるようにした。 - 特許庁
  • To provide a reflection type mask blank and a reflection type mask for EUV exposure, and a method of manufacturing the same enabling defect inspection without removing a hard mask layer in a process inspection after the etching of an absorbing material layer and also enabling easier defect repair without any complicated process even if a black defect is found in the process inspection.
    本発明は、吸収体層のエッチング後の工程検査で、ハードマスク層を除去することなく欠陥検査することを可能にし、さらに、この工程検査で黒欠陥が見つかった場合でも、複雑な工程を要することなく、容易に欠陥修正が可能なＥＵＶ露光用の反射型マスクブランクス、反射型マスク、およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
  • Since the page identifier 95 includes monochrome parts 951a to 951d printed by only each of inks of a plurality of colors used in the printer, it is possible to immediately detect a printing defect in inspection of the first page on which the printing defect occurs even when the printing defect of ink of any color in the plurality of colors occurs.
    ページ識別子９５は、印刷装置にて使用される複数色のインクのそれぞれのみにより印刷された単色部９５１ａ〜９５１ｄを含んでいるため、当該複数色のうちいずれの色のインクにおいて印刷欠陥が発生した場合であっても、印刷欠陥が発生した最初のページの検査において当該印刷欠陥を速やかに検出することができる。 - 特許庁
  • The bone therapeutic agent is usable for repairing bone defect after lesion curettage or excision, prolonging bone fracture healing, pseudo-joint formation, distraction osteogenesis, artificial joint replacement, spinal fusion, cartilage transplantation, transplantation into jaw cleft, repairing bone defect caused by wound, repairing bone defect after craniotomy, alveolar ridge formation, maxillary sinus floor lifting, alveolar bone regeneration, jaw bone regeneration around artificial dental root, and so on.
    本発明は、病巣掻爬もしくは切除後の骨欠損補填、骨折の治癒遷延、偽関節、仮骨延長術、人工関節置換術、脊椎固定術、軟骨移植、顎裂骨移植、外傷による骨欠損部補填、開頭術後骨欠損補填、歯槽提形成術、上顎洞底挙上術、歯槽骨再生、人工歯根周囲の顎骨再生等において用いられる。 - 特許庁
  • A manufacturing condition determination system for a metal band material includes a manufacturing process classification database 500 that associates and stores a manufacturing process of a metal band material and a manufacturing process classification to which the manufacturing process belongs; a material defect database 600 that stores material defect information relating to the manufacturing process classification; and a quality information retrieval part 100 that adds the material defect information to a manufacturing history of a manufacturing history database 400.
    金属帯材料の製造過程における工程と、該工程が属する工程分類とを互いに対応づけて保存した工程分類データベース５００と、工程分類に関連する品質不良情報を保存した品質不良データベース６００と、品質不良情報を製造履歴データベース４００の製造履歴に追記する品質情報検索部１００とを備える。 - 特許庁
  • (v) When a consumer contract is a contract for value, and there exists a latent defect in the material subject of a consumer contract (when a consumer contract is a contract for work, and there exists a defect in the material subject of a consumer contract for work The same shall apply in the following paragraph), Clauses which totally exclude a business operator from liability to compensate damages to a consumer caused by such defect
    五　消費者契約が有償契約である場合において、当該消費者契約の目的物に隠れた瑕疵があるとき（当該消費者契約が請負契約である場合には、当該消費者契約の仕事の目的物に瑕疵があるとき。次項において同じ。）に、当該瑕疵により消費者に生じた損害を賠償する事業者の責任の全部を免除する条項 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • A personal authentication method based on biometric authentication for performing personal authentication using biometric information adds information for notifying a system of a conceivable defect to the biometric information, and in the personal authentication based on biometric authentication using the biometric information, decodes the information added to the biometric information and, if the additional information means a defect, deals with the defect.
    生体情報を用いて個人の認証を行う生体認証による個人認証方法において、想定し得る異常をシステムに通知する情報を前記生体情報に付加し、当該生体情報を用いた生体認証による個人認証に際し、前記生体情報の付加情報を解読し、当該付加情報が異常を意味しているときは、当該異常に対処する。 - 特許庁
  • The defect inspection device for processing image information imaging an inspection object having a prescribed area to be inspected by a plurality of area sensors and discriminating a defect based on a characteristic amount calculated from brightness change in the area includes correction means between characteristic amount imaging systems for correcting the difference between the characteristic amounts to the same defect between the plurality of the area sensors in each area sensor.
    所定の被検査エリアを有する検査対象を、複数のエリアセンサにより撮像した画像情報を処理し、前記エリア内の輝度変化から計算した特徴量に基づいて欠陥を識別する欠陥検査装置において、 前記複数のエリアセンサ間の同一欠陥に対する特徴量の差を補正する、特徴量撮像系間補正手段を前記エリアセンサ毎に備える。 - 特許庁
  • In the case of detecting a pixel defect, a pixel defect information acquisition section 112a provided to a system controller 112 uses an exposure control device 103 and a CCD driver 106 to control an exposure and charge storage time of a CCD imaging element 105 thereby acquiring the information with respect to the pixel defect in a prescribed operating state of the CCD imaging element 105.
    画素欠陥の検出時には、システムコントローラ１１２に設けられた画素欠陥情報取得部１１２ａが露出制御機構１０３およびＣＣＤドライバ１０６を用いてＣＣＤ撮像素子１０５の露光および電荷蓄積時間を制御することにより、ＣＣＤ撮像素子１０５の所定の動作状況における画素欠陥に関する情報が取得される。 - 特許庁
  • In the imaging apparatus (camera apparatus) employing the imaging element 13 of a CCD type or a CMOS type, a defect detection circuit 24 detects a defect by using a luminance level of the imaging element 13 when a lens 11 is in an out of focus state, a system controller 26 stores an address of the detected defective pixel and the defect is corrected at the address position.
    ＣＣＤ型やＣＭＯＳ型などの撮像素子１３を用いてなる撮像装置（カメラ装置）において、レンズ１１が非合焦状態にあるときの撮像素子１３の輝度レベルを用いて欠陥検出回路２４で欠陥検出を行い、その検出した欠陥画素のアドレスをシステムコントローラ２６内に保持し、そのアドレス位置で欠陥補正を行うようにする。 - 特許庁
  • Further, a defect is detected by a missing component and/or presence of a defect identification mark for the component mounting region positioned at the defective component detection position, whereby an operation of stamping out the component on the component mounting region is skipped when the region detected as the one including the missing component or the defect identification mark is positioned at the stamping position.
    さらに、不良品検出位置において位置決めされた部品搭載領域に対して、部品の欠損及び／又は不良品識別マークの有無により不良を検出することで、部品欠損あるいは不良品識別マーク有りと検出された部品搭載領域が打ち抜き位置に位置された際に、その部品搭載領域に対する部品打ち抜き動作をスキップさせる。 - 特許庁
  • The electrolyte membrane 100 has a leakage suppression part generating structure 140, which generates a leakage suppressing part for suppressing the leakage of hydrogen by utilizing a reaction caused by occurrence of a defect, when the defect has occurred inside the electrolyte layer 120 or at the interface of the hydrogen permeating metal layer 110 and the electrolyte layer 120, and the hydrogen leaks through the defect.
    電解質膜１００は、電解質層１２０の内部や、水素透過性金属層１１０と電解質層１２０との界面に欠陥が発生し、欠陥を通って水素が漏洩したときに、欠陥の発生によって生起される反応を利用して水素の漏洩を抑制する漏洩抑制部を生成する漏洩抑制部生成構造１４０を有している。 - 特許庁
  • An evaluation value computing section computes the defect rate during assembly and the defect rate after shipment based on supply record information and information on defects found during assembly and that found after shipment acquired by an acquisition means 2, and computes the faulty evaluation value of the components based on those defect rate.
    評価値算出部によって、取得手段２によって取得される納入実績情報、組立時発見不良情報および出荷後発見不良情報に基づいて、組立時における部品の不良発生率および出荷後における部品の不良発生率が算出され、またこれらの各不良発生率に基づいて、部品の不良評価値を算出される。 - 特許庁
  • The maintenance method for the heat exchange plates of the plate-type heat exchanger includesan inspection process by using a leak tester for inspecting the existence of a penetration defect generated by damage in the heat exchange plates of the plate-type heat exchanger by using the leak tester; and the flaw inspection process for pinpointing the penetration defect, when the penetration defect is found by the inspection process using the leak tester.
    リークテスターを使用してプレート式熱交換器の熱交換板に損傷により生じた貫通欠陥部の有無を検査するリークテスター検査工程と、上記リークテスター検査工程により貫通欠陥部が発見された場合に、貫通欠陥部を特定する探傷検査工程とを有することを特徴とするプレート式熱交換器の熱交換板のメンテナンス方法。 - 特許庁
  • The implant material introduction device 1 comprising a space forming member 2 surrounding an bone defect site B for forming an implant space in the bone defect site B, and a fixing means 3 for fixing the space forming member 2 at the bone A around the bone defect site B, wherein the space forming member 2 is provided with an introduction port 5 for introducing a fluid implant material into the implant space.
    骨欠損部Ｂを取り囲み、骨欠損部Ｂに移植用空間を形成する空間形成部材２と、該空間形成部材２を骨欠損部Ｂ周囲の骨Ａに固定する固定手段３とを備え、空間形成部材２に、移植用空間内に流動性の移植材を導入するための導入口５が設けられている移植材導入装置１を提供する。 - 特許庁
  • To provide a recording body conveyance defect predicting method of predicting a conveyance defect such as paper jamming of a recording body in an image forming apparatus and enabling necessary processing such as maintenance before the conveyance defect occurs, a fixing device which predicts jamming in fixation and enables previous processing such as maintenance, and an image forming apparatus using those.
    画像形成装置における記録体の紙詰まりなどの搬送不良を発生する前に予測し、搬送不良が発生する前にメンテナンスなどの必要な処理を行うことができる記録体搬送不良予測方法、また定着時におけるジャムの発生を予測し、あらかじめメンテナンスなどの処理を行うことができる定着装置及びこれらを用いる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a liquid crystal display element using the ferroelectric liquid crystal, in which mono-domain alignment of a ferroelectric liquid crystal is obtained without forming an alignment defect such as a zigzag defect, a hairpin defect, a double-domain, and which is excellent in alignment stability to keep the alignment unchanged even when the temperature is risen to or above a phase transition temperature.
    本発明は、強誘電性液晶を用いた液晶表示素子において、ジグザグ欠陥、ヘアピン欠陥やダブルドメイン等の配向欠陥が形成されることなく強誘電性液晶のモノドメイン配向を得ることができ、相転移点以上に昇温してもその配向を維持することができる配向安定性に優れた液晶表示素子を提供することを主目的とする。 - 特許庁
  • In this method for correcting a barrier rib defect part 81 in a backboard of the plasma display panel by using a laser beam, the method is characterized in that the defect part 81 is corrected by attaching a dark coloring material 86 on the defect part before radiating a laser beam in the case that a barrier rib is white or light color near white.
    本発明のプラズマディスプレイパネルの修正方法は、プラズマディスプレイパネルの背面板のバリアーリブ欠陥部８１をレーザー光線を用いて修正する方法において、バリアーリブが白色またはそれに近い明色である場合に、レーザー光線照射前に当該欠陥部に暗色の着色材料８６を付着させて、欠陥部修正を行うことを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor storage device which does not need to compare a fail address with an access address each time in order to relieve defect.
    不良を救済するために不良アドレスとアクセスアドレスの比較を毎回行わずに済む半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a solid-state imaging device capable of achieving focus detection, avoiding a pixel defect and enhancing the efficiency of utilizing incident light for an imaging signal.
    焦点検出を可能にし、画素欠陥を回避し、撮像用信号に対する入射光の利用効率を高める。 - 特許庁
  • To prevent any 3C-SiC defect from mixing in an impurity region, and to surely remove a selection mask.
    不純物領域に３Ｃ−ＳｉＣ欠陥が混入しないようにすると共に、選択マスクを着実に除去できるようにする。 - 特許庁
  • Since the reception defect is checked on the basis of the attribute data, the need of newly adding data for checking to the read data is eliminated.
    受信不良のチェックを属性データに基づいて行うため、読取データに新たにチェック用のデータを追加せずに済む。 - 特許庁
  • To disclose a semiconductor memory device and a redundancy method of this device, by which a defect of a memory cell generated in a package level can be repaired.
    パッケージレベルで発生したメモリセルの不良をリペアできる半導体メモリ装置及びその装置のリダンダンシ方法を公開する。 - 特許庁
  • To provide a system and method for identifying a defect, a foreign matter and debris (FOD), when manufacturing composite structure.
    複合構造の製造の際に、異物および破片（ＦＯＤ）ならびに欠陥を識別するためのシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a digital image forming device that does not reach a fault state, even if a defect occurs in a medium.
    媒体に不良が発生しても異常動作にまで至らないようにすることができるデジタル画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which a layer can be formed without any defect without being influenced by the step of a substrate pattern.
    下地パターンの段差の影響を受けずに何等欠陥なく層を形成可能な半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁
  • To provide an optical disk unit for enhancing the resistance to both a detect of decentering and face deflection and a defect of flaws of an optical disk.
    光ディスクの偏心、面振れの欠陥と傷欠陥との両欠陥の耐性を向上させた光ディスク装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a silicon carbide single crystal out of which a single crystal silicon carbide wafer of a low defect and large caliber can be taken.
    低欠陥大口径の単結晶炭化珪素ウエハを取り出せる炭化珪素単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for forming an electrode pattern, with which neither whisker-like defect nor residue of ink on a blanket is developed.
    ひげ状の欠陥およびブランケット上にインキの残留を生じさせることのない電極パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an image processing apparatus capable of improving convenience in the case that a defect of an image output to paper takes place.
    用紙への画像出力の不具合が発生した場合の利便性を向上することができる画像処理装置を実現する。 - 特許庁
  • Thus, the defect can appropriately be managed even if data to which real time property is requested is recorded and reproduced.
    これにより、実時間性が要求されるデータを記録再生する場合にも適切なディフェクトマネージメントを可能とすることができる。 - 特許庁
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