「EB」を含む例文一覧(505)
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アダプティブアレイアンテナを用いたセルラシステムにおいて、アンテナ指向性が形成される前の低Ｅｂ／Ｉｏ下でもパスサーチを行う。 - 特許庁 - An electron beam irradiating mechanism 6 which generates an electron beam EB is provided to the sealing part of the vacuum chamber 1.
真空チャンバ１の天井部には、エレクトロンビームＥＢを発生させるためのエレクトロンビーム照射機構６が設けられている。 - 特許庁 - To provide a handling method, a unit and the like which are capable of holding a circular EB exposure reticle stably and transferring it safely.
円形のＥＢ露光用レチクルを安定に保持するとともに安全に搬送するハンドリング方法及び装置等を提供する。 - 特許庁 - The optical transmission device 10 generates an amplitude modulated signal EB(t) by an amplitude modulator 12 according to an input signal E(t) and an optoelectronic converter 13 converts it, so that light intensity modulated light signals PA and PB are outputted to optical fiber transmission lines F1 and 20.
光伝送装置10において、入力信号E(t)に基づいて振幅変調器12が振幅変調した信号EB(t)を生成し、電気／光変換器13が変換することにより、光強度変調をかけた光信号PA,PBを光ファイバ伝送路F1,20に出力する。 - 特許庁 - The rotary stage 11 is rotated at a constant speed and the irradiation energy of the electron beam EB is increased in response to the increase of the distance between the rotation center of the rotation stage 11 and the irradiation position of the electron beam EB on the circular substrate 1.
回転ステージ１１を一定の回転速度で回転させるとともに、電子線ＥＢの照射エネルギーを、回転ステージ１１の回転中心から電子線ＥＢの円形基板１上における照射位置までの距離の増加に応じて増加させる。 - 特許庁 - The power unit comprises a power converter circuit 2 that feeds power charged in the battery Eb or a capacitor C1 to a motor M1 when powering, and charges power generated by the rotation of the motor M1 to the battery Eb or the capacitor C1 when regenerating.
力行時には、バッテリＥｂ或いはコンデンサＣ１に充電された電力をモータＭ１に供給すると共に、回生時には、モータＭ１の回転により発生する電力を、バッテリＥｂ或いはコンデンサＣ１に充電する電力変換回路２を有する。 - 特許庁 - In an electron beam delineating system 1 at a low acceleration voltage, illumination conditions of electron beams EB on a second formation aperture 89 are adjusted so that diameters of crossovers 9a, 9b of the electron beams EB in a reduction projection optical system 120 is made larger than an aperture size.
低加速電圧の電子ビーム描画システム１において、縮小投影光学系１２０内での電子ビームＥＢのクロスオーバ９ａ，９ｂの径がアパーチャサイズよりも大きくなるように、第２成形アパーチャ８９への電子ビームＥＢの照明条件を調整する。 - 特許庁 - This paperboard has 1.2-1.5 (Eb/Es) value where a bend elastic constant Eb is measured from a taper rigidity Ms measured in the travel direction in winding by JIS P8125 and a linear elastic constant Es is measured in the travel direction in winding.
巻き取りの走行方向で測定したＪＩＳ Ｐ８１２５によるテーバーこわさＭｓから計算される曲げ弾性率Ｅｂを、巻き取りの走行方向で測定した引張り弾性率Ｅｓで除したＥｂ／Ｅｓの値が、１．２以上かつ１．５以下である板紙。 - 特許庁 - The above part of the pair of photoelectric conversion sections PD is provided with a light shielding section LS having two light shielding regions Ea and Eb for shielding the light flux having passed the exit pupil, and one microlens ML sandwiched between the two light shielding regions Ea and Eb.
そして、一対の光電変換部ＰＤの上方には、射出瞳を通過した光束を遮光する２つの遮光領域Ｅａ、Ｅｂを有した遮光部ＬＳと、これら２つの遮光領域Ｅａ、Ｅｂに挟まれた１つのマイクロレンズＭＬが設けられている。 - 特許庁 - A mobile terminal 3 includes a data processing part 22, which measures the standard deviation of Eb/I0, i.e., a ratio between signal power Eb set per bit at the receiving side and interference power I0 set per Hz and changes the control width of transmission power, in response to the measured standard deviation.
、移動端末２に、受信側の１ビット当たりの信号電力Ｅｂと１Ｈｚ当たりの干渉電力Ｉ０との比であるＥｂ／Ｉ０の標準偏差を測定しそれに基づき送信電力制御の制御幅を変更させるデータ処理部２２を設ける。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a photomask for deciding whether the design data have a high affinity with an EB drawing device.
ＥＢ描画装置に対し親和性の高い設計データであるか否かを判断することが可能なフォトマスク製造方法を提供する。 - 特許庁 - EB LITHOGRAPHY SYSTEM, SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY, METHOD OF MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY
ＥＢ描画装置、半導体装置、写真製版用マスク、半導体装置の製造方法、および写真製版用マスクの製造方法 - 特許庁 - To provide a transport or carry case which can stand irradiation for sterilization such as electron beams(EB) or γ rays.
輸送用若しくは搬送用のケースであって、電子線（ＥＢ）やγ線などの滅菌用放射線照射に耐え得るものを提供する。 - 特許庁 - To provide a static pressure screw which can be utilized even under a vacuum environment like in an EB exposure device, by reducing an outflow of gas to the outside.
外部への気体流出を低減し、ＥＢ露光装置内のような真空環境でも利用可能な静圧ねじを提供する。 - 特許庁 - The hydrofoil structure 103 has an annular shape when viewed from the water surface side, and a foil trailing edge Eb is formed on the inner circumferential side.
水中翼構造物１０３は、水上側から見て環状であり、かつ、内周側に翼後縁Ｅｂが形成されている。 - 特許庁 - Furthermore, the longitudinal direction size xE of the tape of the end mark EB is made longer than the longitudinal direction size x of the tape of the cueing mark PM.
また、エンドマークＥＢのテープ長手方向寸法ｘEを、頭出しマークＰＭのテープ長手方向寸法ｘよりも大きくする。 - 特許庁 - That is, the predicted voltage Ea predicted in the prediction controller is increased or decreased by the voltage command Eb based on the deviation ΔT.
すなわち、予測制御器で予測した予測電圧Ｅａを、偏差ΔＴに基づいた電圧指令Ｅｂの分だけ増減している。 - 特許庁 - As a result, the fallen charged particles (ions) are scattered outside of this apparatus from the outlet opening Eb by driving an air discharge fan 35.
これにより落下した帯電粒子（イオン）は出口開口Ｅｂから空気吐出ファン３５の駆動により本装置の外部へ飛散される。 - 特許庁 - In the semiconductor-device manufacturing method, an energy beam EB of a shorter wavelength than the oscillating wavelength of a laser chip 20 is projected on a supporter 31 mounting the laser chip 20.
レーザチップ２０を搭載した支持体３１に、レーザチップ２０の発振波長よりも短波長のエネルギービームＥＢを照射する。 - 特許庁 - The electron beam exit wound 9 is comprised of a slit prepared along the scanning direction of electron beams EB with the scanning magnet 16.
電子線射出口９を、走査磁石１６による電子線ＥＢの走査方向に沿って設けられたスリットによって構成する。 - 特許庁 - Then, the set effect classifications Eb and Ec are attached to the generated harmony sound signal Sv or the speech signal Sm (L, M).
そして、生成されたハーモニー音信号Ｓｖ又は音声信号Ｓｍに、設定された種類の効果Ｅｂ，Ｅｃが付与される（Ｌ，Ｍ）。 - 特許庁 - A mask 14 for electron beam exposure has a circuit pattern 42 comprising an opening 40 in a pattern forming region 14a of a substrate 46, irradiates an electron beam Eb, and projects and exposes the circuit pattern 42 into a sample 20 by the electron beam Eb through the circuit pattern 42.
本電子ビーム露光用マスク１４は、開口４０からなる回路パターン４２を基板４６のパターン形成領域１４ａに有し、電子ビームＥｂを照射して、回路パターン４２を透過した電子ビームＥｂによって回路パターン４２を試料２０上に投影露光するように構成されている。 - 特許庁 - If no frame error is caused, an update amount dEid (downward update amount) to decrease a reference value is decided in response to a magnitude of a reference Eb/I0 value (Ei) to decrease the reference Eb/I0 value by the update amount dEid so as to clear an error occurrence flag (steps S13 to S15).
フレームエラーが発生していない場合には基準値を下げる更新量ｄＥｉｄ（下方更新量）を基準Ｅｂ／Ｉ０値（Ｅｉ）の大きさに応じて決定し、基準Ｅｂ／Ｉ０値を更新量ｄＥｉｄだけ下げ、エラー発生フラグをオフとする（ステップＳ１３〜Ｓ１５）。 - 特許庁 - Furthermore, if there is no space in the storage regions EB, EC, the oldest image data are sequentially moved while being thinned similarly to the case of the storage region EA, and storage target frames of the storage regions EB, EA are sequentially moved to the regions which are made empty by the move.
また、記憶領域ＥB ，ＥC にも空き領域がなくなった場合には、上記記憶領域ＥA の場合と同様にそれぞれ最古の画像データを間引きながら順次移動させ、この移動により空きとなった領域に記憶領域ＥB ，ＥA の保存対象フレームを順次移動させる。 - 特許庁 - A water film 15 is formed on a mouth 12b of a PET bottle 12 where an excessive dose of the electron beams EB occurs before applying the electron beams EB to the PET bottle 12, thereby eliminating need of using the shelter structure 2 according to a shape and a type of the bottle 12.
ＰＥＴボトル１２に電子線ＥＢを照射する前にＰＥＴボトル１２の電子線ＥＢの過剰線量となる口部１２ｂに水膜１５を形成することにより、ＰＥＴボトル１２の形状や種類に応じた遮蔽構造体２を用いる必要がなくなる。 - 特許庁 - In this scanning electron microscope, the acceleration voltage of an electron beam EB irradiated on a sample 2 is set to 4 kV, and a voltage of -3 kV is applied to the sample 2 from a power source 11, so that the electron beam EB is decelerated immediately in front of the sample and is irradiated on the sample 2 with an energy of 1 kV.
試料２に照射される電子ビームＥＢの加速電圧は、４ｋＶとされており、試料２には電源１１より−３ｋＶの電圧が印加されていることから、電子ビームＥＢは試料の直前で減速され、１ｋＶのエネルギーで試料２に照射される。 - 特許庁 - A phase detection circuit 6 blends a wave reception signal Ein output from a transducer 2 with the reference signals Ea and Eb, and thereby outputs a pair of Doppler signals E1 and E2 having amplitudes according to the phase differences from the reference signals Ea and Eb and having phases different from each other.
位相検波回路６は、送受波器２から出力される受波信号Ｅｉｎを基準信号Ｅａ，Ｅｂと混合することで、基準信号Ｅａ，Ｅｂとの位相差に応じた振幅を有し且つ互いに位相の異なる一対のドップラー信号Ｅ１，Ｅ２を出力する。 - 特許庁 - An adhesive layer 2 is laminated on one surface or both surfaces of a heat dissipation layer 1 formed by compression molding a thermally conductive resin composition containing an electron beam (EB) cross-linking olefin-based resin and a thermally conductive filler, and then the heat dissipation layer 1 is cross-linked by EB irradiation to produce a heat dissipation sheet.
電子線（ＥＢ）架橋型オレフィン系樹脂と、熱伝導性フィラーとを含む熱伝導性樹脂組成物が圧縮成形されてなる放熱層１の片面または両面に、粘着層２が積層されてなり、放熱層１がＥＢ照射により架橋されてなる放熱シートである。 - 特許庁 - To solve the problem in which when a chain store operation company etc., receives POS data and EB data through a communication line and matches sales amounts of respective stores with amounts of sales deposit in respective store accounts, the matching is manually performed because of differences in relation between POS closing days and depositing days of the respective stores.
チェーンストア運営会社等では、通信回線を介してPOSデータとEBデータを受信し、各店舗の売上金額と各店舗口座への売上金の入金金額を突合させているが、POS締め日と入金日の関係が各店舗で異なる等の事由から手作業で行っている。 - 特許庁 - Therefore, the electron beams EB emitted by the electron beam emission section can be easily caused to converge on the convergence coil 6_2 so as to make the image of the electron beams EB projected on the electron beam transmission member 21 coincide with the shape of the electron beam transmission section in the Z axis.
そのため、集束コイル６_２に対し、電子線透過部材２１に照射される電子線ＥＢの像が、Ｚ軸方向において電子線透過部の形状と略同一となるように、電子放出部から放出された電子線ＥＢを集束させることが容易となる。 - 特許庁 - Metal films 2A, 2B are laminated on one surface or both surfaces of a heat dissipation layer 1 formed by compression molding a thermally conductive resin composition containing electron beam (EB) cross-linking olefin-based resin and a thermally conductive filler, and then the heat dissipation layer 1 is cross-linked by EB irradiation to produce a heat dissipation sheet.
電子線（ＥＢ）架橋型オレフィン系樹脂と、熱伝導性フィラーとを含む熱伝導性樹脂組成物が圧縮成形されてなる放熱層１の片面または両面に、金属フィルム２Ａ，２Ｂが積層されてなり、放熱層１がＥＢ照射により架橋されてなる放熱シートである。 - 特許庁 - The secondary battery is formed by welding the positive electrode metal foils to each other and the positive electrode foil-adhered and laminated portion and the laminated portion-adhered portions to each other while irradiating their irradiation sites L1 being moved with the energy beams EB entering from the laminated portion-adhered portions to the foil adhered and laminated portion in the laminating direction.
二次電池は、正極金属箔同士および正極箔密着積層部と積層部密着部とを、積層方向、積層部密着部側から箔密着積層部側に進むエネルギビームEBを、その照射部位L1を移動させつつ照射して、溶接してなる。 - 特許庁 - When a desired retrieval word (Ek) is input, entry words whose beginning matches the retrieval word are retrieved from the dictionary and displayed in an entry word list area Ea, and keyword entry words matching the retrieval word are retrieved from the keyword index and displayed in a keyword entry word list area Eb.
所望の検索語(Ek)が入力されると、該検索語に前方一致する見出し語が辞書検索され見出し語一覧エリアEaに表示されると共に、前記キーワードインデックスから同検索語に一致するキーワードの見出し語が検索されキーワード見出し語一覧エリアEbに表示される。 - 特許庁 - Furthermore, if there is no space in the storage regions EB, EC, the oldest image data are sequentially moved while being thinned similarly to the case of the storage region EA, and storage target frames of the storage regions EB, EA are sequentially moved to the regions which are made empty by the motion.
また、記憶領域ＥB ，ＥC にも空き領域がなくなった場合には、上記記憶領域ＥA の場合と同様にそれぞれ最古の画像データを間引きながら順次移動させ、この移動により空きとなった領域に記憶領域ＥB ，ＥA の保存対象フレームを順次移動させる。 - 特許庁 - This paperboard is characterized in that the porosity is 0.50-0.80 and Eb/Es value obtained by dividing flexural modulus (Eb) calculated from taper stiffness Ms according to JIS P-8125 measured in traveling direction of rolling by elastic modulus in tension (Es) measured in traveling direction of rolling is 1.2 to 2.8.
空隙率が０.５０〜０.８０で、且つ巻取りの走行方向で測定したＪＩＳ Ｐ８１２５によるテーバーこわさＭｓから計算される曲げ弾性率Ｅｂを、巻取りの走行方向で測定した引張り弾性率Ｅｓで除したＥｂ／Ｅｓの値が、１.２〜２.８であることを特徴とする板紙。 - 特許庁 - The mobile station 2 decides its own initial transmission power on the basis of a prescribed initial reference Eb/IO in the case of starting communication.
移動局２は通信を始める際に常に一定の初期基準Ｅｂ／ＩＯに基づいて移動局２の初期送信電力を決定している。 - 特許庁 - The data 16 is inputted to a data input part 20 of an EB tester 12 and then written in a hard disk as analysis data (A)34.
状態データ１６は、ＥＢテスタ１２のデータ入力部２０に入力され、それから解析データ（Ａ）３４としてハードディスクに書き込まれる。 - 特許庁 - Based on the index signal a convergence york and a deflection york are controlled for automatically controlling the scanning position of the electron beam eB.
このインデックス信号に基づいて、コンバーゼンスヨーク３２および偏向ヨーク２１が制御され、電子ビームｅＢの走査位置の自動制御が行われる。 - 特許庁 - It is especially preferable that the bend elastic constant Eb is 330-460 kg/mm2 and the linear elastic constant Es is 270-380 kg/mm2.
特に曲げ弾性率Ｅｂが３３０〜４６０ｋｇ／ｍｍ^2、前記引張り弾性率Ｅｓが２７０〜３８０ｋｇ／ｍｍ^2であると良い。 - 特許庁 - The pulse power of the frequency f of 10 [kHz] to 300 [kHz] is supplied to the works 36, etc. as the bias power Eb.
ここで、被処理物３６，３６，…には、バイアス電力Ｅｂとして、周波数ｆが１０［ｋＨｚ］〜３００［ｋＨｚ］のパルス電力が供給される。 - 特許庁 - A data storage region is divided into storage regions EA, EB, EC and received image data are firstly stored in the storage region EA at a full rate.
データ記憶領域を記憶領域ＥA ，ＥB ，ＥC に分割し、受信された画像データを先ずフルレートで上記記憶領域ＥA に記憶する。 - 特許庁 - As a result of it, the focus of the electron beam EB to be irradiated on the sample 2 is never slipped out even when the voltage is applied on the sample 2.
この結果、試料２上に照射される電子ビームＥＢは、試料２に電圧が印加されてもフォーカスがずれることはなくなる。 - 特許庁 - To smoothly draw a waveguide pattern having an arbitrarily curved shape, the radius of curvature of which varies in a waveguide direction, by EB drawing or the like.
曲率半径が導波路方向に変化する任意曲線形状の導波路パターンをＥＢ描画等により滑らかに描画する。 - 特許庁 - To obtain a structure which is suitably mass-produced by using EB as a standard cell structure, used for a MOS-type semiconductor integrated circuit.
ＭＯＳ型半導体集積回路装置において用いられるスタンダードセル構造を、ＥＢを用いて量産するのに適した構造とすること。 - 特許庁 - Afterwards, the transfer is announced to an enterprise to which money is transferred by a reduction ledger chart (S314) or electronic information (S312) in an EB service.
この後に、入金された企業に対して、還元帳表（Ｓ３１４）や、ＥＢサービスにおいては電子情報（Ｓ３１２）で振込通知を行う。 - 特許庁 - After this, transfer notification is performed for a corporation to be paid by restored ledger list (S314) or electronic information (S312) in electronic banking(EB).
この後に、入金された企業に対して、還元帳表（Ｓ３１４） や、ＥＢサービスにおいては電子情報（Ｓ３１２）で振込通知を行う。 - 特許庁 - The frame material 11 has an electron passing hole 11c for passing the electron beam EB, and is attached detachably to the vacuum container 3.
枠材１１は、電子線ＥＢを通過させるための電子通過孔１１ｃを有しており、真空容器３に着脱可能に取り付けられる。 - 特許庁 - To perform a low temperature control even in a positioning device installed in an environment such as an EB exposure device where a Peltier element cannot be used.
ＥＢ露光装置などペルチェ素子が利用できない環境に設置される位置決め装置においても、低温の温度制御を可能にする。 - 特許庁 - In addition, tests for infection by cytomegalovirus and EB virus should be performed as necessary.
また、サイトメガロウイルス感染、ＥＢウイルス感染及びウエストナイルウイルス感染については、必要に応じて、検査により感染が否定されなければならない。 - 厚生労働省 - To make a CDMA receiver immune to fading caused by a multipath or the like and to prevent the deterioration of a receiving quality by performing tracking with high accuracy even in the environment of a low Eb/No.
低Ｅｂ／Ｎｏの環境下においても高精度でトラッキングを行い、マルチパス等によるフェージングに強く、受信品質の劣化を防ぐ。 - 特許庁
