「controlled process」を含む例文一覧(1033)
＜前へ 1 2 .... 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 次へ＞- At the time of the plasma bombardment, at least one among vacuum pressure before the introduction of the gaseous nitrogen into a chamber 1 deposited with the insulating base material 4, high frequency incident waves on the electrodes 2 and 3 in the process of the plasma bombardment, high frequency reflecting waves from the electrodes 2 and 3 and the pressure of the gaseous nitrogen is controlled as a managing item.
プラズマボンバードの際には、絶縁性基材４を配置したチャンバ１に窒素ガスを導入する前の真空圧と、プラズマボンバード中の電極２，３への高周波入射波と、電極２，３からの高周波反射波と、窒素ガスの圧力との少なくとも１つを管理項目として制御する。 - 特許庁 - An adhesion face of a first optical substrate (optical substrate L1) to a second optical substrate (optical substrate L2) is exposed to a gas in a plasma state to carry out a surface improving treatment on the adhesion face while the heat given to the first optical substrate is controlled to a heating temperature or lower in a heating process.
前記第１の光学基材（光学基材Ｌ１）に加わる熱を加熱工程時における加熱温度以下に制御するとともに、前記第１の光学基材における前記第２の光学基材（光学基材Ｌ２）との接着面をプラズマ状態のガスに晒し、当該接着面に表面改善処理を施す。 - 特許庁 - While an anti-reflection film 9 and a resist pattern 10 are formed on the second interlayer dielectric 8, a capacitor hole 11 is formed between the surface of the second interlayer dielectric 8 and a position-controlled bottom face 11a in the first interlayer dielectric 5 through the stopper film 7 by dry etching process using the resist pattern 10 as a mask.
第２の層間絶縁膜８上に反射防止膜９とレジストパターン１０を形成し、このレジストパターン１０をマスクとしたドライエッチングにより第２の層間絶縁膜８の表面からストップ膜７を貫通して第１の層間絶縁膜５内に、底面１１ａの位置が制御されたキャパシタホール１１を形成する。 - 特許庁 - This is a computer controlled method for searching the blend of color coat compositions suitable for refinishing the mono-coat, clear coat/ color coat, and tri-coat finish of a vehicle adapted to a color allowable range acceptable by the original finish color and color effect of the vehicle, and a specific work process is included in this method.
車両の元の仕上げの色および色効果に受け入れることができる色許容範囲内で適合する、車両のモノコート、クリアコート／カラーコート、およびトリコート仕上げを再仕上げするのに適したカラーコート組成物の配合を求めるコンピュータ制御された方法であって、特定の作業工程を含むものである。 - 特許庁 - To provide a peeling sheet in which a polyethylene resin which is most inexpensive among general-purpose resins is used to form an inexpensive coverlay peeling sheet, fluff can be prevented in a punching process, a peeling agent is applied to the polyethylene resin layer, a peeling force can be controlled depending on an applied quantity and silicone can be prevented from being transited to a coverlay thermosetting adhesive layer.
安価なカバーレイ剥離シートを作成するため、汎用樹脂中最も安いポリエチレン樹脂を用い、打ち抜き工程時のケバ立ちが生じず、ポリエチレン樹脂層上に剥離剤を塗工し、塗工量により剥離力をコントロールでき、カバーレイ熱硬化接着剤層にシリコーンの転移がない剥離シートを提供する。 - 特許庁 - The process of manufacturing a metal-containing polyamic acid composite material with a controlled metal content includes a step in which a desired amount of metal ions is extracted from the metal-containing polyamic acid composite material by treating the material with a metal extracting agent.
金属イオン含有ポリアミック酸複合材料を金属抽出剤で処理して前記金属イオン含有ポリアミック酸複合材料から任意の量の金属イオンを抜き出す工程を含んでなる金属イオン含有量が制御された金属イオン含有ポリアミック酸複合材料を製造することができる。 - 特許庁 - When a film of aluminum alloy is formed on a semiconductor substrate by a sputtering process, partial pressure ratios of nitrogen and oxygen included in an argon gas during the sputtering film formation to the entire sputtering gas are controlled to be about 51 ppm or less and about 11 ppm or less respectively to thereby form a film of aluminum alloy.
半導体基板上に、スパッタリング法でアルミニウム合金からなる膜を形成する際、スパッタリング成膜中のアルゴンガス中に含有する窒素および酸素の、スパッタリングガス全体に対する分圧比が各々約５１ｐｐｍ以下、約１１ｐｐｍ以下になるように制御して、アルミニウム合金からなる膜を形成する。 - 特許庁 - There is provided a method for producing a stable, high-viscosity organopolysiloxane emulsion having a particle size of ≤150 nm, in particular an emulsion polymerization process relating to an easy and cost-effective fast completion of emulsification of organopolysiloxane by using a standard homogenizer and the subsequent polymerization of the organopolysiloxane at a controlled temperature.
１５０ナノメートル以下の粒度を有する安定な高粘度のオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法、特に、標準的なホモジナイザーを用いることによる、オルガノポリシロキサンの乳化の容易かつ費用効果的な高速な完了に関する乳化重合法、それに続く、制御された温度における、オルガノポリシロキサンの重合に関する。 - 特許庁 - To splice a carrier tape and appropriately feed the spliced carrier tape without using a splicing tape in a controlled size and without a process requiring special management in advance, relating to the spliced carrier tape, a detection mark applied to the carrier tape, a method of feeding the carrier tape, and a component supplying apparatus.
スプライシングされたキャリアテープ、そのキャリアテープに適用される検出用マーク、そのキャリアテープを送る方法および部品供給装置において、管理された寸法にスプライシング用テープを使用することなく、かつ事前の特別な管理が必要な工程なく、キャリアテープをスプライスし、ひいては、そのスプライシングされたキャリアテープを適切に送る。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a polyester composition excellent in a yarn-making property which can stably manufacture fiber which expresses high strength especially in a yarn-making process of one step in which orientation crystallization is controlled when manufacturing fiber using polyester manufactured mainly using a titanium catalyst.
本発明の目的は、主にチタン触媒を用いて製造されたポリエステルを用いた繊維を製造する際に、配向結晶性が抑制された、特にワンステップの製糸工程において、高い強度を発現する繊維を安定して製造することが出来る製糸性に優れたポリエステルの組成物製造方法を提供することである。 - 特許庁 - The system console 11 can process the digital video signal and if the pseudo input operation information and pseudo touch panel operation information are made to be signals processible for the main body 12a of terminal equipment, terminal equipment 12 can be monitored and remotely controlled through the system console 11 by the terminal equipment for centralized supervision.
システムコンソール１１は、ディジタルビデオ信号を処理可能であり、疑似入力操作情報及び疑似タッチパネル操作情報を端末装置本体１２ａで処理可能な信号となるようにすれば、システムコンソール１１を介して集中監視用端末装置２０による端末装置１２の監視及び遠隔操作が可能となる。 - 特許庁 - In the sputtering method in an oxidation mode for depositing an optical multilayer film on a substrate face within a vacuum tank, the total pressure in the vacuum tank is controlled in the process of depositing the optical multilayer film, thus at least either the sputtering voltage or sputtering current is held to prescribed value or prescribed width.
真空槽内で基板面上に光学多層膜の成膜をする為の酸化モードでのスパッタ方法であって、前記光学多層膜の成膜中に前記真空槽内の全圧を調節することによってスパッタ電圧又はスパッタ電流の少なくとも一方を所定値又は所定幅に保つスパッタ方法。 - 特許庁 - The method for producing the molecular assembly in which the state of the assembly of the molecules is controlled includes a process for forming the molecular assembly on the substrate and comprises using a molecule for forming the molecular assembly in which an electron-withdrawing or electron donative group substituent group is introduced into a fixed position.
基板上に分子集合体を形成する工程を含む分子集合体の製造方法であって、電子吸引性または電子供与性の置換基を所定の位置に導入した分子集合体を形成し得る分子を用いることにより、分子集合体の集合様式を制御する分子集合体の製造方法。 - 特許庁 - To provide a method for producing artificial leather, by which a uniform interlaced product is formed without causing breaks, wrinkles and weight unevenness and artificial leather is produced by using the fiber interlaced product so that longitudinal elongation is controlled in a production process and artificial leather has excellent shape stability, controls hardening and has an excellent hand.
本発明は、折れ、しわおよび目付斑を発生させず均一な積層絡合体を作成し、該繊維絡合体を用い人工皮革を製造することで、製造工程において縦伸びなどの抑制が可能な形態安定性に優れ、また硬化が抑制された風合いが良好な人工皮革製造方法を提供するものである。 - 特許庁 - To provide the subject reaction process comprising formation of the cuprous salt of a compound having enolic hydroxy group (C(OH)=N) in the molecule followed by reacting an alkylating agent with the above salt, wherein the cuprous salt formation reaction is controlled so as to cause no bubbling in the reaction system through rapidly advancing the reaction.
分子内にエノール性水酸基（−Ｃ（ＯＨ）＝Ｎ−）を有する化合物のＣｕ（Ｉ）塩を形成させ、次いでアルキル化剤を反応させるＯ−アルキル化反応であって、該銅塩生成反応を制御して、急激に反応が進行して反応系内に泡立ちが生じることのないのＯ−アルキル化反応法を提供する。 - 特許庁 - In the process of supplying a tetraalkylammonium hydroxide waste liquid to a falling thin film evaporator to concentrate, the thickness (T_1) of the liquid film at the lower end of the heating face of the falling thin film evaporator is controlled to 0.1 to 1.2 mm so as to prevent foaming on the heating face and to prevent accumulation of air bubbles.
水酸化テトラアルキルアンモニウム廃液を流下式薄膜蒸発器に供給して濃縮するに際し、該流下式薄膜蒸発器の加熱面の下端における液膜の厚み（Ｔ_１）を０．１〜１．２ｍｍに調整することにより、該加熱面における発泡を防止し、これに伴う気泡の蓄積を防止する。 - 特許庁 - The dissipation amount of the aroma component is controlled by controlling numerical values except the volume of the liquid food (= volume/surface area = thickness of thickened liquid food) on a surface contacting a gas phase of the liquid food, or the size (particle size) of the atomized liquid food in the vacuum deairing process of the liquid food.
液状食品の真空脱気処理において、液状食品の気相と接する表面積で当該液状食品の体積を除した数値（＝体積／表面積＝薄膜化した液状食品の厚さ）、あるいは微粒化した液状食品の大きさ（粒径）を制御することにより香気成分の散逸量を制御。 - 特許庁 - The silicon-crystal substrate contains the O-N-O complex at 50% or higher of the nitrogen content, in a CZ-silicon crystal added with nitrogen at a concentration range of 1×10^13 to 1×10^15 atom/cm3, and which can be manufactured by an appropriate heat treatment process and controlled for quality.
本発明のシリコン結晶基板は、窒素を１×１０^１３〜１×１０^１５ａｔｏｍ／ｃｍ^３ の範囲で添加したＣＺ−シリコン結晶中に、Ｏ−Ｎ−Ｏ複合体を含有窒素の５０％以上含有することを特徴とし、適当な熱処理工程により製造および品質管理することができる。 - 特許庁 - In a process for treating a substrate 16 arranged in a vacuum enclosure 1, the present invention provides for compensating any variation of the active gas supply flowrate via active gas supply pipe 4 by injecting a complementary flowrate of control gas into an area 25 close to controlled gas suction means 3.
真空エンクロージャ１内に配置された基板１６を処理するための方法において、本発明は、制御されたガス吸気手段３の近傍にある領域２５に、補完流量の制御ガスを注入することによって、活性ガス供給パイプ４を介する活性ガス供給流量の変動の補償を与える。 - 特許庁 - To provide a new method for controlling the refractive index of an optical material by which an optical material can be applied to various optical devices such as a fiber grating and an optical waveguide by enhancing the mechanical strength and transparency of the optical material, the refractive index can be exactly controlled and control can be carried out at a low cost because of a simple process.
光学材料の機械的強度、透明性を向上させることにより、ファイバグレーティング、光導波路等の各種光学デバイスに応用でき、かつ屈折率を精密に制御でき、また工程が簡素であるため安価に実施できる、新規な光学材料の屈折率制御方法を提供すること。 - 特許庁 - On the basis of the target temperature of the first medium and the temperature of the first medium and the temperature of the second medium at the entrance side of the heat exchanger detected in the detection process, the flow rate of the second medium is adjusted and the temperature of the first medium at the exit side of the heat exchanger is controlled.
前記第１の媒体の目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における第１の媒体の温度と前記第２の媒体の温度に基づいて、前記第２の媒体の流量を調整して、前記熱交換器の出口側における第１の媒体の温度を制御する。 - 特許庁 - A robot device of a robot in the teaching playback type and a welding power supply are each digitally controlled and at the same time, are arc welding equipment which bus-connects the robot device and the welding power supply, and the welding conditions commands required for a welding execution and the communication of actual welding conditions are executed by the digital quantity under the parallel process through the bus.
ティーチングプレイバック式のロボットのロボット装置および溶接電源は、各々がデジタル制御式であるとともにロボット装置と溶接電源とをバス結合したア−ク溶接装置であって、溶接施工に必要な溶接条件指令や実溶接条件の伝達を、バスを介してパラレル方式によるデジタル量により行う。 - 特許庁 - In the process for forming a channel part, a part of first crystalline polymorphic silicon carbide is etched and second crystalline polymorphic silicon carbide is formed in the entire or a part of the etched place and the conductivity type of first and second crystalline polymorphic silicon carbide is controlled for forming a desired semiconductor device.
また、チャネル部を形成する工程は、第一の結晶多形の炭化珪素の一部をエッチングし、エッチングされた箇所の全部あるいは一部に第二の結晶多形の炭化珪素を形成してなり、第一と第二の結晶多形の炭化珪素の導電型を所望の半導体装置となるように制御する。 - 特許庁 - In a sequential extraction process using an organic solvent for sequential extraction from the water layer, the liquid level of the interlayer generated between the organic layer and the water layer is controlled by means of a differential pressure transmitter, and more desirably, an electrostatic capacity type interface detector is used in combination for controlling the liquid level of the interlayer.
水層から有機溶媒を用いて連続抽出する工程において、有機層と水層の中間に生じる中間層の液面を差圧伝送器を用いて制御し、更に好ましくは中間層の液面制御に静電容量式界面検知器を組み合わせて用いて中間層の液面を制御する。 - 特許庁 - For the production process of an organic EL element by laminating a positive electrode, an organic EL layer and a negative electrode formed of at least two negative electrode layers in this order on one side of an element substrate, a laminating speed of the first negative electrode layer laminated is controlled to a rate exceeding 0.01 nm/sec.
素子基板の片面に陽極と有機ＥＬ層と少なくとも２層以上の陰極層から構成される陰極とをこの順序で積層する有機ＥＬ素子の製造方法において、前記積層する最初の陰極層の積層速度を０．０１ｎｍ／ｓｅｃを超える速度に制御する。 - 特許庁 - To provide a method for replenishing a developer in an automatic developing apparatus for a photosensitive planographic printing plate by which the sensitivity of a developing solution containing a development inhibitor is controlled to be constant against changes in a process amount while a developing unit of an automatic developing apparatus has a simple and inexpensive structure in a replenishing system based on conductivity.
電導度基準補充方式において、自動現像装置の現像部を簡易で安価な構成としながら、現像抑制剤を含有する処理量の変動に対する現像液感度を一定にする、感光性平版印刷版用自動現像装置の現像補充方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a coating liquid for forming a new porous film for easily forming a thin film having film thickness that is freely controlled with a method used for the ordinary semiconductor manufacturing process and for ensuring excellent mechanical strength and dielectric characteristic and also provide a high performance and high reliability semiconductor device including the same porous film.
通常の半導体製造プロセスに用いられる方法によって、容易に、任意に制御された膜厚の薄膜が形成可能であり、機械強度及び誘電特性に優れた新たな多孔質膜形成用塗布液、及びこの多孔質膜を内蔵する高性能かつ高信頼性を備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a data communication mediation system in an imaging apparatus and its data communication mediation circuit which divides a CCD sensor with ultra-multi-pixels in a plurality of imaging regions, and provides a sub CPU corresponding to each imaging region so as to be controlled by a main CPU to process images at a specified operating rate.
超多画素のＣＣＤセンサーを複数の撮像領域に分割し、各撮像領域に対応してサブＣＰＵを設け、メインＣＰＵが各サブＣＰＵを制御するようにし、所定の動作レートで画像処理が可能な撮像装置におけるデータ通信調停方式及びそのデータ通信調停回路を提供する。 - 特許庁 - The method of depositing a film by a sputtering method or the like where raw material particles are flown onto a substrate to deposit a film is provided with, in particular, a means of controlling/managing a film thickness in the process of film deposition, and a means of stopping the working so that the working is ended when the controlled deposition film obtains a prescribed objective film thickness.
本発明は、基板上に原料粒子を飛翔させて膜を製造する、スパッタリング法などによる膜の製造方法に関し、特に、成膜中の膜厚を制御・管理する手段と、その制御された堆積膜を所定の目標膜厚で正確に加工終了させるように停止させる手段に関する。 - 特許庁 - By controlling the time period, from the time after phosphorous doping process to the time, a silicon nitride film to be an oxidization prevention film is formed, the phosphorous concentration in the silicon film having the granular crystal is prevented from diffusing outwardly, and the amount of lowering of the phosphorous concentration is suppressed, so that a rate of depletioning in the lower part electrode of the capacitor is controlled.
リンドープ処理後から酸化防止膜になるシリコン窒化膜を形成するまでの時間を制御することにより、粒状結晶を有するシリコン膜中のリン濃度の外方拡散を防ぎ、リン濃度の減少量を抑制するので、キャパシタ下部電極の空乏化率を制御することができる。 - 特許庁 - Image formation is appropriately controlled by estimating change due to VL increase and change due to VL decrease, while taking into account the rotating time of a photoreceptor, stopping time of the photoreceptor, the temperature of atmosphere environment, the absolute humidity of atmosphere environment, and the effect of the fixing device on the heat source for each process station.
感光体回転時間、感光体停止時間、雰囲気環境の温度、雰囲気環境の絶対湿度、定着装置からの熱源の影響をプロセスステーション毎に考慮して、ＶＬアップとＶＬダウンによる変動をそれぞれ予測することで、適切な画像形成制御を行うことを特徴とする。 - 特許庁 - In the device, a cleaning means is separated and released when cleaning of the intermediate transfer body is finished during a repeated recording operation mode, turning action of the intermediate transfer body is controlled until the area to be cleaned reaches a next transfer image forming area and then shifting to a transferring process for a 1st color of a next image.
リピート記録動作モード中に、中間転写体のクリーニングが終了した時点でクリーニング手段を離反解除させ、被クリーニング領域が次の転写画像形成領域に達するまで中間転写体の周回動作を制御して、次画像の１色目の転写工程に移行させるようにした。 - 特許庁 - A process flowchart showing the arrangement of processing apparatuses and the flow is created by showing the processing apparatuses, pipes and the like to be controlled on a screen as a symbol menu, selecting desired processing apparatuses, and pipes and the like sequentially, arranging them on a predetermined location of the prescribed grid, and connecting each of the processing apparatuses by the pipes and the like.
制御対象であるプロセス機器や配管類をシンボルメニューとして画面表示し、希望のプロセス機器や配管類を順次選択して、定められたグリッド上の所定の位置に配置し、各プロセス機器間を配管類によって接続して、プロセス機器の配置関係及び物流経路を表すプロセスフロー図を生成する。 - 特許庁 - Depending on the value of the setting update counter which is a hidden attribute of the input form and the value of the setting update counter 7 provided at the Web server, the Web server determines whether or not an optical end device 5 is to be controlled; when the values match, the Web server sends the content of control to a package setting supervising process part 9.
Ｗｅｂサーバは、入力フォームの隠し属性である設定更新カウンタの値と、Ｗｅｂサーバ側に具備された設定更新カウンタ７の両方の値から、光終端装置５の制御を行うか否かを判断し、両方の値が一致した場合は、パッケージ設定監視処理部９に制御内容を送信する。 - 特許庁 - In the process of rubbing the surface of an alignment film formed on a substrate by using piles produced by gigging a rubbing cloth which is wound around a rotating roller, the rubbing cloth used is controlled in such a manner that the top end of the pile is in the backward position from the root of the pile with respect to the rotating direction of the roller as the reference.
回転ローラーにラビング布を巻き付け、前記ラビング布より起毛したパイルによって基板に形成された配向膜表面をラビングする工程において、前記パイルの先端部が、ローラーの回転方向を基準として、前記パイルの毛根部よりも後方側に位置するラビング布を使用することを特徴とした。 - 特許庁 - A cam driving mechanism 31 is controlled by the controller 99, then, the cam 30 is rotated at the same time of sucking, and the photomask 1 is gradually brought into contact with the substrate 2 from the center part to the peripheral part, the photomask 1 is brought into tight contact with the substrate 2 while gradually extruding the air from the center part to the peripheral part in this process.
制御装置９９はカム駆動機構３１を制御して、吸引と同時にカム３０を回動させて、フォトマスク１を中央部から次第に周辺部まで基板２に接触させ、この過程で中央部から周辺部に向かって徐々に空気を押し出しつつ基板２に密着させる。 - 特許庁 - The invention refers to a method for producing a glass fiber reinforced thermoplastic resin composition pellet, using a two-or-more-axis extruder provided with screws rotating and meshing with each other, wherein, the minimum value of a time integration value of a shearing stress (minimum shearing stress history value T_min) received by a glass fiber bundle during the mixing and kneading process, is controlled.
互いに回転して噛み合うスクリューを備えた二軸以上の押出機を用いて、ガラス繊維強化熱可塑性樹脂組成物ペレットを製造する方法であって、混合混練する際にガラス繊維束が受けるせん断応力の時間積分値の最小値（最小せん断応力履歴値Ｔ_ｍｉｎ）を制御する。 - 特許庁 - A process variation generated when a built-in resistor is used can be controlled by having a variable resistance circuit 4 built-in, an influence by a parasitic capacity of an external resistor terminal is prevented by having it built-in, and a voltage-current conversion circuit capable of preventing the influence of a PLL loop band and responding in a high frequency band can be provided.
可変抵抗回路４を内蔵することで抵抗を内蔵した場合のプロセスばらつきを制御でき、かつ内蔵することで、外付抵抗端子の寄生容量の影響を受けずに済み、ＰＬＬループ帯域の影響を受けない高帯域で応答可能な電圧電流変換回路が実現できる。 - 特許庁 - In the manufacturing process of bricks which is more than 20 mm in thickness and is used for the melting metal bath in manufacturing float glass, the bricks in the depth of 20 mm from the surface in contact with the melted metal are controlled to contain iron with a 3 ionic charge at 0.7 mol % or less on a Fe2O3 conversion basis.
フロートガラス製造用溶融金属槽であるメタルバスに用いられる厚さが２０ｍｍ超である煉瓦であって、溶融金属と接する表面から深さ２０ｍｍの部分における３価の鉄のＦｅ_2Ｏ_3換算含有量が質量百分率表示で０．７％以下であるメタルバス用煉瓦。 - 特許庁 - The film thickness distribution k(x, y) of a sample 13 is monitored by a distribution monitoring section 18 during operating a film deposition process by a plasma P and a gap distribution control section 15 is controlled by a control section 19 so as to control a non-uniform gap distribution g(x, y) according to the monitoring result.
プラズマＰによる膜形成プロセスの稼動中に、分布モニタリング部１８が試料１３の膜厚分布ｋ（ｘ、ｙ）をモニタリングし、モニタリング結果に基づいて、制御部１９が、ギャップ分布調整部１５を制御して、不均一なギャップ分布ｇ（ｘ、ｙ）を調整するので、予備的な実験・評価を繰り返す必要がない。 - 特許庁 - In the process for producing false-twisted yarn of synthetic fiber, a heater for yarn twist setting, a cooler, a twisting number controller, a friction false twister are arranged in order between a first and a second feed rollers and the twisting number t1 of the yarn is controlled with the twisting number controller on the upper stream side.
合成繊維の仮撚加工糸の製造方法において、第１及び第２フィードローラー間に、撚固定用ヒーター、冷却装置、撚り数制御装置、摩擦仮撚装置、を順次配置し、撚り数制御装置より上流側の撚り数ｔ1を制御することを特徴とするポリエステル仮撚加工糸の製造方法。 - 特許庁 - The automatic bread maker includes a water supply device 9 having a feed valve 10 for adjusting the amount of water, and the amount of water supply at the feed valve 10 is controlled by a control means 7 based on information from an input means 8 according to the detection result of a temperature detection means 6 in a kneading process for kneading bread materials.
水量の調整を可能にする給水弁１０を有した給水装置９を備え、制御手段７は入力手段８からの情報に基づき、製パン材料を混練する混練工程において温度検知手段６の検知結果に応じて、給水弁１０による給水量を制御するようにしたものである。 - 特許庁 - In a process to reach a steady state free precession after repeating sequences in a short repetition time (TR) and going through a state of transient oscillation of magnetization, the amount of phase encoding to be applied is controlled to acquire echo signals in the state of transient oscillation and to have the acquired signals placed in a high region of a measurement space (k space).
短い繰り返し時間(TR)でシーケンスを繰り返し、磁化が過渡振動状態を経た後、定常状態自由歳差運動に達する過程において、過渡振動状態のエコー信号も取得し、その信号が計測空間(k空間)の高域に配置されるように、付与する位相エンコード量を制御する。 - 特許庁 - Based on various kinds of data (pressure data, displacement data, elastic data) applied in a process generating distortion elastic images (elastic frame data), the displayed values of the generated distortion images (elastic frame data) are evaluate and, corresponding to the evaluation result, the displaying is controlled by adding hue data or monochromatic brightness information to the distortion elastic images.
歪み弾性画像(弾性フレームデータ)の生成過程で利用される各種データ(圧力データ、変位フレームデータ、弾性フレームデータ)に基づいて、生成された歪み弾性画像(弾性フレームデータ)の表示価値を評価し、その評価結果に応じて、歪み弾性画像に色相情報又は白黒輝度情報を付与して表示を制御する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing process by which in manufacturing a polymer compound by cation living polymerization, a block polymer having a narrow molecular weight distribution and a precisely controlled primary structure is obtained, even when the rates of polymerization are different among monomers forming repeating units of the individual block segments or the rates of polymerization are slow.
リビングカチオン重合法による高分子化合物の製造法において、各ブロックセグメントの繰り返し単位を形成するモノマーの重合速度が異なる場合やモノマーの重合速度が遅い場合にも、分子量分布が狭く一次構造が精密に制御されたブロックポリマーを得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method by which fitness and reversal on the interface between coating film layers are controlled, base hiding properties to a coating film by electrodeposition coating are improved and a multilayer coating film having excellent finished appearance is formed when the top of a substrate is successively coated with an intermediate coating film and a final coating film by a wet-on-wet process.
基材上に、中塗り塗膜及び上塗り塗膜を順次ウエットオンウエットで塗装した場合に、各塗膜層間の界面でのなじみや反転を制御し、電着塗膜に対する下地隠蔽性を向上させて、優れた仕上がり外観を有する積層塗膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁 - For example, when three business process management systems.purchase, sales, and distribution.are centrally controlled by a single host computer and operating on the same IT infrastructure, establishment of an effective general control over the infrastructure will contribute to a higher reliability of information relevant to the three business processes.
例えば、購買、販売、流通の３つの業務管理システムが１つのホスト・コンピュータで集中管理されており、すべて同一のＩＴ基盤の上で稼動している場合、当該ＩＴ基盤に対する有効な全般統制を構築することにより、３つの業務に係る情報の信頼性を高めることが期待できる。 - 金融庁 - To provide an exposure device in which exposure in the perpendicular and oblique directions to the front surface can be performed at a time in the process of irradiating and polymerizing a liquid crystal containing a polymer material with ultraviolet rays, and in which various conditions such as incident angle, exposure time and illuminance of exposure light can be easily controlled.
高分子材料を含む液晶に紫外線を照射して重合させる工程などにおいて、正面方向からの露光と斜め方向からの露光を同時に行い、入射角、露光時間や露光照度等、様々な条件を容易に制御することができる露光装置を提供する。 - 特許庁 - Both of the rotation number of the crucible and the rotation number of the crystal or either of them are controlled so that the number of vibration driving a melt, which is determined by the rotation number of the crucible and the rotation number of the crystal in the crystal growth process, deviates from the range from 95 to 105% of the vibration number of sloshing resonance of the melt.
単結晶育成過程において坩堝の回転数と結晶の回転数とにより決まる融液を駆動する振動数が、融液のスロッシング共振振動数の９５％から１０５％の範囲に入らないように、坩堝回転数及び結晶回転数又はそのいずれかを制御する。 - 特許庁 - As one embodiment to achieve the objective, a device is provided in which an electric potential distribution in the sample backside is measured during a transportation process of the sample, and based on the results, antistatic degree of the sample is controlled, or the electric potential distribution on the sample surface is estimated or calculated when the sample is in the sample holder or the like.
上記目的を達成するための一態様として、試料の搬送過程において、試料裏面の電位分布を測定し、その測定に基づいて、試料の除電の程度を制御、又は試料ホルダ等に試料を配置したときの試料表面の電位分布を推定、或いは計算する装置を提案する。 - 特許庁
