「electron microscope」を含む例文一覧(1821)
＜前へ 1 2 .... 26 27 28 29 30 31 32 33 34 .... 36 37 次へ＞- A strain layer 100 formed of microcracks of a thickness of 0.2 μm or less observed by a transmission electron microscope is formed in the rear W2 of the semiconductor device W with a memory function.
メモリー機能を有する半導体デバイスＷの裏面Ｗ２に、透過型電子顕微鏡による観察で０．２μｍ以下の厚さのマイクロクラックからなる歪み層１００を形成する。 - 特許庁 - To operate a scanning electron microscope with high precision and high speed by curtailing a process for inspection position setting or an input operation or the like.
本発明は、検査位置合わせに関する処理、或いは入力作業等を削減することで、高精度かつ高速に走査電子顕微鏡を稼動せしめることを目的とするものである。 - 特許庁 - To obtain a precise result in observation and analysis of a sample, even when not having expert knowledge and ability, in an electron microscope provided with an X-ray analyzer.
Ｘ線分析装置を備える電子顕微鏡において専門的な知識や能力がなくても試料の観察および分析において精度の高い結果を得ることができるようにする。 - 特許庁 - To provide an abnormality detection method in a physicochemical apparatus, such as a scanning electron microscope capable of detecting the abnormality of a device and of immediately taking appropriate measures according to the abnormality.
装置の異常を検知し、その異常に応じて適切な対応を速やかに取ることを可能とする走査電子顕微鏡等の理化学機器における異常検知方式を実現する。 - 特許庁 - To provide a mechanism allowing observation while maintaining eccentricity even for a sample with a dimension larger than a standard sample thickness (height) in a sample stage for a scanning electron microscope car the like.
走査電子顕微鏡等用の試料ステージにおいて、標準の試料厚さ（高さ）よりも大きな寸法の試料でも、ユーセントリシティを保ちながら観察できる機構を提供すること。 - 特許庁 - One part of the data is transferred to a stage shift control part 9 in a scanning electron microscope unit 1 through the network line 24, and the other is output as data for a display 31.
一方のデータは、ネットワーク回線２４を経由して、走査電子顕微鏡ユニット１内のステージ移動制御部９に転送し、もう一方をディスプレイ３１のデータとして出力する。 - 特許庁 - To provide a sample support for a high accumulation biochip capable of arranging biomolecules, DNA or the like in a high accumulation degree to observe and analyze the same using a transmission electron microscope.
生体分子、ＤＮＡ等を高集積度で配列し、透過電子顕微鏡を用いて観察、解析できる高集積度バイオチップ用試料支持体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The sulfurized metal particle has a particle diameter of 100 nm-1 μm and a coefficient of variation showing the particle diameter distribution of ≤10%, which are measured by a scanning electron microscope.
硫化金属粒子において、走査電子顕微鏡による実測で粒径が１００ｎｍ以上１μm以下であり、粒径分布の度合いを示す変動係数が１０％以下である。 - 特許庁 - A ronchigram signal is obtained from the TV camera in this condition, and the signal is supplied to a computer 44 through a TV power source 40 and an interface 43 of a transmission electron microscope image.
この状態で、ロンチグラム信号がＴＶカメラから得られ、その信号は透過電子顕微鏡像のＴＶ電源４０、インターフェイス４３を介してコンピュータ４４に供給される。 - 特許庁 - To provide means for surely sampling a minute article in a sampling device (typically an electron microscope) having an observation system using a charged particles.
電子顕微鏡に代表される荷電粒子を利用する観察系を有するサンプリング装置において、微小物体を確実にサンプリングする手段を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition giving a resist pattern with a suppressed change in line width when observed with a scanning electron microscope(SEM) in the production of a semiconductor device.
半導体デバイスの製造において、得られたレジストパターンを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したときに、線幅の変動が軽減したポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To shorten the time required for automatic focusing in semiconductor defect automatic review by use of an electron beam type microscope to improve throughput for observing a sample.
電子線式顕微鏡を用いた半導体欠陥自動レビューにおける自動焦点合わせに要する時間を短縮することができ、試料を観察するスループットを向上させる。 - 特許庁 - To provide a scanning electron microscope obtaining high ion detecting efficiency even if it has a short WD and is suitable for attaining high resolution.
本発明はＷＤが短く、高分解能化に適した装置であっても、高いイオン検出効率を得ることができる走査電子顕微鏡を提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - To efficiently shorten the manufacturing time of a slice sample for a transmission type electron microscope, and to make it less apt to cause release of the manufactured sample and embedding resin, while increasing the number of observable spots.
透過型電子顕微鏡用薄片試料の作製時間を効率よく短縮し、また、作製した試料が包埋樹脂と剥離を起こし難く、観察可能個所を増やすこと。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition capable of providing a resist which improves shrinkage of a pattern in observation with SEM (scanning electron microscope) while retaining excellent dry etching resistance and does not require removal of metal.
優れたドライエッチング耐性を維持したまま、ＳＥＭ観察時にパターンの縮みが改良され、、金属を除去する必要がないレジストを提供し得るポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a phase plate for an electron microscope which can further effectively prevent an electron beam loss, can be applied to an acceleration voltage over a wide range from low to high voltages, can be put into practical use without being accompanied by difficulty in its manufacture, and can attain an image of a high contrast.
電子線損失をより効果的に防止し、低圧から高圧まで広範囲の加速電圧に適用可能で、製造上の困難性を伴わず、実用化が可能で高コントラストの像を得ることを可能とする電子顕微鏡用位相板を提供する。 - 特許庁 - A joined body 14B joined with an evaluated sample 10 to be evaluated and a standard sample 12 is irradiated with an electron beam E1 of a transmission electron microscope from a side way of the joined body to include the evaluated sample and the standard sample within an irradiation spot 28.
評価すべき被評価試料１０と標準試料１２とが接合された接合体１４Ｂに、接合体の側方から、被評価試料と標準試料とを照射スポット２８内に含むように透過型電子顕微鏡の電子ビームＥ１を照射する。 - 特許庁 - To provide a stereoscopic shape measuring method by a scanning electron microscope (SEM) and its device capable of highly-accurate stereoscopic shape measurement even in the case of a flat surface or a nearly vertical surface, by utilizing tilt angle dependency of a secondary electron image signal quantity.
ＳＥＭの２次電子画像信号量の傾斜角依存性を利用して平坦な面や垂直に近い面についても高精度な立体形状計測を可能にしたＳＥＭによる立体形状計測方法およびその装置を提供することにある。 - 特許庁 - When aligning the crystal direction of the sample to an optical axis of a scanning transmission electron microscope, accurate and quick crystal direction alignment can be performed since a direction for inclining the sample can be directly determined from the shape of the electron beam diffraction image.
本発明によれば、ＳＴＥＭの光軸に対して試料の結晶方位を合わせる際、試料を傾斜させるべき方向を電子線回折像の形状から直接判断することができるため、正確かつ迅速な結晶方位合せが可能となる。 - 特許庁 - To provide an electron microscopic image processing system, capable of simultaneously performing reduction in noise and contour emphasis of an image which are conflicting image processing in the conventional art, in regard to an image containing many noise components which is a characteristic of a high-resolution electron microscope.
高分解能の電子顕微鏡の特徴であるノイズ成分を多く含む画像に対し、ノイズの低減と画像の輪郭の強調という、従来技術では相反する画像処理を同時に行うことのできる電子顕微鏡の画像処理システムを提供する。 - 特許庁 - Thereby, the sample holder 21 can be supported in an objective lens of the electron microscope, the electron beam having passed through the opening 20b can reach the sample 9 in the sample holder 21, and thereby signals of scanning transmission electrons generated from the sample 9 can be detected.
これにより、電子顕微鏡の対物レンズ内で試料ホルダ２１を支持することができ、該開口２０ｂを通過した電子線が試料ホルダ２１内の試料９に到達し、これにより試料９から発生する走査透過電子の信号を検出できる。 - 特許庁 - This transmission electron microscope allows a sample stage holding a sample to be adjusted to be movable by a nano-drive mechanism in the Z-axis direction being an optical axis direction of an electron beam and X-axis and Y-axis directions (the X-axis and the Y-axis are orthogonal to each other) orthogonal thereto.
透過型電子顕微鏡は、試料を保持する試料ステージを、ナノ駆動構造により電子ビームの光軸方向であるＺ軸方向とそれに直交するＸ軸とＹ軸方向（Ｘ軸とＹ軸は互いに直交する）とに移動調整可能とする。 - 特許庁 - Particles to be created by changing the ratio of different elements for indexing a probe are used; an SEM image is obtained by a scanning electron microscope for detecting the position and the size; and further, the position and the size of characteristic X rays generated, when electrons irradiated to the particles by the scanning electron microscope are obtained, by obtaining element analysis images, by using an energy dispersion type characteristic X-ray detector.
プローブのインデクシング用に異なる元素の比率を変えて作成する粒子を用い、走査型電子顕微鏡でＳＥＭ像を得て容易にその位置と大きさを検出し、さらに、走査型電子顕微鏡で粒子に電子を照射する時に発生する特性Ｘ線をエネルギー分散型特性Ｘ線検出器により元素分析像を得ることで位置と大きさを得る。 - 特許庁 - In order to solve the problems, the standard position of a measuring spot by a scanning electron microscope or the like is set based on position information of a standard pattern on an image acquired by the scanning electron microscope or the like, which is formed on a position separated from the measuring spot, and on information of a position relation between the standard pattern detected based on the design data and the measuring spot.
上述のような問題を解決するため、測定個所から離間した位置に形成され、走査電子顕微鏡等によって得られる画像上の基準パターンの位置情報と、設計データに基づいて検出される基準パターンと測定個所の位置関係の情報に基づいて、走査電子顕微鏡等による測定個所の基準位置を設定する。 - 特許庁 - In this length measuring method by the scanning electron microscope, the scanning electron microscope is auto-focused with a measuring point, using an output from a sensor for detecting a distance from an objective lens to the sample, and a change of a sample signal emitted from the sample is monitored while changing an excitation current of the objective lens, to detect the excitation current ΔIobj of the objective lens corresponding to a focus shift.
本発明の走査形電子顕微鏡による測長方法は、対物レンズから試料までの距離を検出するセンサの出力を用いて走査形電子顕微鏡を測定ポイントにオートフォーカスさせ、対物レンズの励磁電流を変化させながら試料から放出された試料信号の変化をモニターしてフォーカスずれに相当する対物レンズの励磁電流ΔIobjを検出する。 - 特許庁 - To provide radial clusters of sharp-ended multiwalled carbon nanotubes, which are new carbon nanostructures useful as a probe for STM (scanning tunneling microscope) or AFM (atomic force microscope), a field emission electron source of a display element, a display, or the like, and to provide a method for preparing the radial clusters.
ＳＴＭやＡＦＭ用探針、表示素子、ディスプレイ等の電界放出電子源などとして有用な、新規なカーボンナノ構造物である鋭端多層カーボンナノチューブ放射状集合体とその製造方法鋭端多層カーボンナノチューブ放射状集合体とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manipulation device for fine work of an electron microscope constituted by mounting a dual probe which enables an operator not only to observe an extremely fine and minute sample but also to smoothly and surely perform electric measurement and further electric super-fine working while observing an image by the microscope.
極めて微細かつ精緻な顕体試料の観察のみならず、オペレーターが顕微鏡の画像を観察しながら、電気的測定、さらには電気的超微細加工を、円滑かつ確実に行なうことを可能とするデュアルプローブを載置した電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置の提供。 - 特許庁 - To provide a sample image observation method, an image processing device, and a charged particle beam device suitable for selecting an image region to be acquired by the charged particle beam device represented by an electron microscope based on an image obtained by an optical microscope.
本発明は、光学顕微鏡によって取得された像に基づいて、電子顕微鏡に代表される荷電粒子線装置にて取得すべき画像領域を選択するのに好適な試料像観察方法，画像処理装置、及び荷電粒子線装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - To display, at the real time, a scanning electron microscope image of the state of an interface between the side where a load is given and the opposite side or the like, by making inclinable a surface dynamics characteristic test device for testing a surface dynamics characteristic of composite material, and by arranging it in a sample chamber of the scanning microscope.
複合材料の界面力学特性の試験を行う界面力学特性試験装置を傾斜可能にして走査型顕微鏡の試料室に配置し、荷重をかけた側と反対側の界面などの状態の走査型電子顕微鏡像をリアルタイムに表示する。 - 特許庁 - To classify defects very effectively, simply and exactly by using the minimum defect information, by obtaining only defect information required to classify the defects, when identifying and classifying the defects of objects to be inspected by using an optical microscope and an electron microscope.
光学顕微鏡及び電子顕微鏡を用いて被検査体の欠陥を識別して分類するに際して、欠陥の分類を行うのに必要な欠陥情報のみを取得し、最小限の欠陥情報により極めて効率良く、極めて簡易且つ正確に欠陥の分類を行う。 - 特許庁 - Furthermore, after the cross section of the specific place of the semiconductor device is observed by the scanning microscope, the protective film of the amorphous structure is provided on the observation cross section in an observation sample formed in order to observe the same observation cross section by the transmission electron microscope.
更に、半導体デバイスの特定箇所の断面を走査型顕微鏡で観察した後、同一観察断面を透過型電子顕微鏡で観察すべく作製される観察試料において、前記観察断面上に非晶質構造の保護膜を有することを特徴とする。 - 特許庁 - This emission microscope has an ultraviolet-ray irradiating device 11 for irradiating an ultraviolet ray on a sample 1 to emit electrons from the sample 1, a phosphor plate 8 for indicating an electron image formed by the electrons emitted from the sample 1 and an electron lens system (respective lenses 4, 5 and 6) for imaging the electron image on the phosphor plate 8.
エミッション顕微鏡には、試料１に紫外線光を照射して試料１から電子を放出させる紫外線照射装置１１と、試料１から放出された電子によって形成される電子像を表示する蛍光板８と、その電子像を蛍光板８上に結像させる電子レンズ系（各レンズ４，５，６）とを有する。 - 特許庁 - In a method that an image is formed by utilizing a secondary electron amplification by residual gas around a sample in a low vacuum scanning electron microscope(SEM) and an absorption current, the observation with high resolution and good image quality is enabled by an electric field in which an electrode acts with the comparatively reduced number of parts and a design taking scattering of a first electron beam into consideration.
低真空SEMにおける試料周辺の残留ガス分子による二次電子増幅法と吸収電流を利用して画像を形成する方式に於いて、比較的少ない部品数で電極が作用する電界や１次電子ビームの散乱を考慮した設計によって、低真空における高分解能・良好な像質での観察を可能とする。 - 特許庁 - An electron microscope can display the observed image on a display unit 28 by applying an acceleration voltage to an electron gun to irradiate a sample with an electron beam based on predetermined image observation conditions, scanning the desired area of the surface of the sample while secondary electrons or reflected electrons emitted from the sample are detected by one or more detectors, thereby focusing the image.
電子顕微鏡は、所定の像観察条件に基づいて、電子銃に加速電圧を印加して電子線を試料に照射し、試料から放出される二次電子または反射電子を１以上の検出器で検出しながら試料表面の所望の領域を走査することで、観察像を結像し表示部２８にて表示可能である。 - 特許庁 - An electron source, in which, after the carbon nanotube is fitted to the central part of the tip of the conductive substrate through a conductive bonding material or an organic material, the carbon nanotube is jointed by ohmic contact by carrying out carbonization treatment of the organic material by heat treatment or diffusion bonding, is applied to the electron microscope and the electron beam lithography device.
導電性基材の先端中央部に、導電性接合材料を介するか、あるいは有機材料を介してカーボンナノチューブを取付けた後、熱処理により該有機材料を炭化処理するか、または拡散接合によりカーボンナノチューブをオーミックコンタクト接合した電子源を電子顕微鏡，電子線描画装置に適用する。 - 特許庁 - This magnetic field applying device of the transmission electron microscope comprises a plurality of deflectors to swingingly return the optical axis deflection of an irradiated electron beam generated simultaneously with application of the magnetic field onto the optical axis, and is formed so that the deflection main surface of one deflector is disposed at a position extremely close to the surface of the sample 6.
透過電子顕微鏡の磁場印加装置において、磁場印加と同時に発生する照射電子線の光軸偏向を軸上に振り戻す複数の偏向器からなり、１つの偏向器の偏向主面が試料６表面に極めて近い位置に配置されように構成される。 - 特許庁 - To provide a transmission electron microscope apparatus, a sample holder, a sample stage and a method for acquiring a spectral image, capable of acquiring the spectral image from a plurality of pieces of samples simultaneously, and measuring a chemical shift of high precision from an electron energy loss spectrum extracted from the spectral image.
複数個の試料から同時にスペクトル像を取得し、スペクトル像より抽出された電子エネルギー損失スペクトルから、高精度のケミカルシフトを測定することが可能な透過型電子顕微鏡装置，試料ホルダ，試料台及びスペクトル像の取得方法を提供する。 - 特許庁 - The carbon fiber material has 0.83-0.94 ratio A1/A2 of the measured value A1 of π*/σ* on the outermost surface and the maximum value A2 in a single fiber obtained by measurement of the cross section of the single fiber according to an electron energy loss spectroscopy using a field emission type electron microscope.
本発明の炭素繊維材料の単繊維断面を電界放出型電子顕微鏡を用いて、電子エネルギー損失分光法で測定して得られるπ＊／σ＊の最表面測定値Ａ１と単繊維内部最高値Ａ２との比Ａ１／Ａ２が０．８３〜０．９４である。 - 特許庁 - To form the cross section of an ink transfer part by a focusing ion beam device, in the observation of the transfer and penetration of the ink transferred to a printed matter wherein ink is printed on paper or a written matter written by using a ball point pen or a marking pen, to observe the same by an electron microscope or an electron probe microanalyser.
紙に印刷された印刷物や、ボールペンやマジックなどを用いて筆記された筆記物に転移したインキ等の転移及び浸透状態を、集束イオンビーム装置等により断面を作製し、該断面を電子顕微鏡或いはエレクトロンプローブマイクロアナライザーにより観察する。 - 特許庁 - Otherwise, the foreign substance P is irradiated with an electron beam to deposit a solid material on the foreign substance P in a deposition gas atmosphere in which the solid material is generated by irradiation with the electron beam, and a force by the probe of an AFM (atomic force microscope) is applied to the solid material.
又は、電子ビームが照射されることにより固体材料が生成されるデポジションガス雰囲気中において、異物Ｐに電子ビームを照射して異物Ｐ上に固体材料を堆積させ、この固体材料に対してＡＦＭの探針により力を印加する。 - 特許庁 - To provide a low vacuum scanning electron microscope including an evacuation system in which an orifice diameter can be made larger than the conventional one so that a throughput until observation from sample exchange can be improved, and a required amount of a probe current can be obtained when irradiating an electron beam.
本発明の目的は、試料交換から観察までのスループット向上を図ると共に、電子ビーム照射時には、必要なプローブ電流量が得られるようオリフィス径を従来より拡大することができる排気システムを備えた低真空電子顕微鏡を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a method and a device for controlling and monitoring a position of a holding element which is provided to hold a sample to be examined, in particular by a beam device such as an electron microscope.
とくには電子顕微鏡などのビーム装置によって検査される試料を保持するために設けられた保持部材の位置を制御および監視するための方法および装置を提供する。 - 特許庁 - As a result, the scanning electron microscope image of a sample 4 is displayed on the screen of a cathode-ray tube 17, and the X-axis bright line and the Y-axis bright line showing the moving direction of the sample 4 are displayed.
この結果、陰極線管１７の画面上には、試料４の走査電子顕微鏡像が表示されると共に、試料４の移動方向を示すＸ軸輝線、Ｙ軸輝線が表示される。 - 特許庁 - To provide an electron scanning microscope equipped with a function for making an object point 33 at a prescribed position even in an electro-optical condition in which precise control of an object point position of an objective lens 11 becomes difficult.
対物レンズ１１の物点位置の正確な制御が難しくなるような電子光学条件においても、規定位置に物点３３を作るための機能を備えた走査電子顕微鏡の提供。 - 特許庁 - The amorphous silica has a primary particle size of 18 to 50 nm as measured by a small angle X-ray scattering method, and each particle of the amorphous silica has a circularity of 0.70 to 0.85 as observed with an electron microscope.
Ｘ線小角散乱法で測定した一次粒子径が１８乃至５０ｎｍであり、電子顕微鏡で観察した個々の粒子の円形度が０．７０乃至０．８５であることを特徴とする。 - 特許庁 - In particular, the powder grain of the rod-shape silver powder is made of minute rod-shape, and one with its average major axis L of the primary particle as can be judged by a scanning electron microscope image being 10 μm or less is used.
特に、前記ロッド状銀粉の粉粒は微小棒状であり、走査型電子顕微鏡像から判断できる一次粒子の平均長径Ｌが１０μｍ以下であるものを用いる。 - 特許庁 - To provide a mold for optical imprint which can be observed with an SEM (Scanning Electron Microscope), can be inspected with high throughput, and can form high-definition pattern, and to provide an optical imprint method using the same.
ＳＥＭ観察が可能であり高スループットで検査を行うことができ、かつ、高精細なパターン形成が可能な光インプリント用のモールドと、これを用いた光インプリント方法を提供する。 - 特許庁 - This electron microscope is provided with a picture quality setting part 50 to set the picture quality, and the image observation conditions are made possible to be set based on the picture quality set by the picture quality setting part 50.
電子顕微鏡は、画質を設定する画質設定部５０を備えると共に、画質設定部５０によって設定された画質に基づいて像観察条件を設定可能に構成される。 - 特許庁 - To realize a scanning electron microscope capable of eliminating sense of incompatibility to an operator with the movement of a sample by enabling the recognition of the sample moving direction by the operator, even under the condition with a sample image rotated.
試料像が回転された状態でも、試料の移動方向を操作者に認識させ、試料移動に伴う操作者の違和感を取り除くようにした走査電子顕微鏡を実現する。 - 特許庁 - To provide an electron microscope capable of always positioning a sample in a visual field of a camera, and of preventing the number of installation of various types of apparatuses in a sample chamber from being restricted by the camera.
本発明は、常に試料をカメラに視野内に位置させることができると共に、カメラによる試料室内への各種機器の設置数を制限させることがない電子顕微鏡を提供することにある。 - 特許庁
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