「electron microscope」を含む例文一覧(1821)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 次へ＞- To provide metal nickel particle powder made of fine metal nanonickel particle which has a mean particle diameter obtained according to TEM (Transmission Electron Microscope) of ≤30 nm, and which has satisfactory dispersibility in a solvent, and has sintering temperature suppressed to low.
ＴＥＭにより求まる平均粒子径が３０ｎｍ以下の微細な金属ナノニッケル粒子からなる粉末であって、溶媒中での分散性が良好であり、かつ焼結温度を低く抑えることが可能な金属ニッケル粒子粉末を提供する。 - 特許庁 - By setting a required contour line on the observation object having a variety of shapes, and arranging the filed of vision, an image of the electron microscope can be selectively obtained based on the required field of vision set along the shape of the observation object.
種々の形状を有する観察対象に対し、必要な輪郭線を設定した上で、視野を配列することで、観察対象の形状に沿った必要な視野設定に基づく電子顕微鏡像を選択的に取得することが可能となる。 - 特許庁 - To provide a scanning electron microscope capable of controlling quantity of electrons emitted from a sample generated by collision of electrons with other members, and to provide a method of static charge control for the sample by controlling quantity of electrons.
本発明は、試料から放出された電子が、他部材に衝突した結果、生じる電子量を制御可能とすることを目的とした走査電子顕微鏡、及び電子量の制御による試料帯電制御方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - A scanning electron microscope 1 having an automatic focusing function is provided with a coordinate navigation function which allows setting measurement points arbitrarily and an output function for plotting thickness distribution based on the measured data, for measuring flatness of a wafer.
オートフォーカス機能を有する走査型電子顕微鏡１に測定箇所を任意に設定可能な座標ナビゲーション機能と、計測したデータに基づいて厚さ分布を描画する出力機能を搭載することによりウェーハの平坦度の測定する。 - 特許庁 - To provide a preparation method of a specimen for observing a defective part of a semiconductor device substrate, which enables the fine defective part of the semiconductor device substrate to be easily specified in a short time, so that a thin specimen suitable for transmission electron microscope observation can be made.
短時間で容易に、半導体デバイス基板の微小な欠陥部を特定でき、透過形電子顕微鏡観察に適した薄片試料とすることが可能な半導体デバイス基板の欠陥部観察用試料の作製方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an electron microscope of which, the problem of deterioration of vacuum in a mirror body caused by gas, and drift of sample resulting from the elongation of a heater by heating, which occurs in real-time observation of a reaction process of the sample with the gas in heating are solved, capable of observing with high resolution.
電子顕微鏡で試料の加熱時のガスとの反応過程をリアルタイムで観察する際に起こる、ガスによる鏡体内の真空の悪化や、加熱によるヒーターの伸びからくる試料ドリフトを解決し、高分解能観察を可能にする。 - 特許庁 - To provide a sample support stage for observing a three-dimensional structure of high versatility with a sample constitution while adopting a constitution capable of always holding a sample in the visual field center of an electron microscope, a protractor and a three-dimensional structure observing method.
試料を常に電子顕微鏡の視野中心で保持可能な構成を採用しながら、簡素な構成で汎用性の高い３次元構造観察用の試料支持台及び分度器、並びに３次元構造観察方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a transmission electron microscope having an analysis system with high adaptability, which has an incident image surface and an incident pupil surface and can perform one or more kinds of analysis methods as an analysis method for electrons passing through samples.
入射像面および入射瞳面を有し、試料を通過した電子の分析方法として１種類またはそれ以上の種類の分析方法を実施可能とする、適応性の高い分析系を備える透過電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁 - In the piezoelectric power generating element formed by arranging a piezoelectric ceramics layer on a substrate, the piezoelectric ceramics layer is formed of ceramics in the range of a grain diameter of ≥0.01 μm and ≤0.1 μm by scanning electron microscope observation.
基板上に圧電セラミックス層を配置してなる圧電発電素子において、前記圧電セラミックス層が走査型電子顕微鏡観察により粒径０．０１μｍ以上、０．１μｍ以下の範囲のセラミックスで形成されていることを特徴とする。 - 特許庁 - This sampling apparatus used in preparing samples for transmission electron microscope observation by a focused ion beam processing apparatus includes a probe which can rotate which its shaft being as an axis of rotation and a rotating means for rotating the probe.
また、集束イオンビーム加工装置による透過電子顕微鏡観察用試料作製に用いるサンプリング装置は、プローブの軸を回転軸とする回転が可能なプローブと、その回転を行うための回転手段とを備えることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide an electron microscope allowing anyone to easily set a beam shower mode with optimum conditions and return each parameter to an original analysis mode or observation mode correctly in a short time after a beam shower operation finishes.
ビームシャワーモードの設定を誰もが最適な条件で簡単に行なうことができ、また、ビームシャワー動作が終了した後には、電子顕微鏡の各パラメータを元の分析や観察のモードに短時間に正確に戻すことができる電子顕微鏡を実現する。 - 特許庁 - An atomic force microscope with a probe in its light condensing system is installed in the cathode luminescence composite device which detects light from a sample irradiated by a electron beam.
試料に電子線を照射して、その電子線照射により試料から発生した光を検出するカソードルミネッセンス装置において、集光システムとして探針をプローブとする原子間力顕微鏡を設けたことを特徴とするカソードルミネッセンス複合装置。 - 特許庁 - Diffraction lines attributed to metallic Si and Si compound cannot be detected in the texture structure by the pattern analysis by X-ray diffraction method and granular texture is unrecognizable by the observation with a transmission electron microscope(TEM).
また、その組織構造は、Ｘ線回折法によるパターン解析により金属Ｓｉ及びＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM)の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁 - When coating osmium on a metal plate 16, such as an iris plate of an electron microscope as a metal plate in which micropores are made, hydrogen gas is added in addition to sublimation gas, consisting of osmium oxide using the plasma excitation chemical vapor phase deposition method.
例えば微小な孔を空けた金属板である電子顕微鏡の絞りプレート等の金属板１６にオスミウムのコーティングを施す際に、プラズマ励起化学気相堆積法において、酸化オスミウムからなる昇華ガスに加えて水素ガスを添加する。 - 特許庁 - As shown in an electron microscope photograph (A), in this state, columnar crystals of small column diameters are mixed among columnar crystals of large column diameters, and the columnar crystals of small column diameters are filled into gaps among the columnar crystals of large column diameters.
電子顕微鏡写真（Ａ）に見られるように、大きな柱径の柱状結晶の間に小さい柱径の柱状結晶を混在させ、大きな柱径の柱状結晶の間を柱径の小さい柱状結晶が埋めたような状態とする。 - 特許庁 - In this case, it is set that the area occupancy of the alumina to be calculated from a visual field image by observing the surface of the magnetic layer by a scanning electron microscope is 0.3 to 1.0% and the standard deviation of the spatial distribution of alumina is three or less.
その場合に、磁性層の表面を走査型電子顕微鏡により観察した視野像から求められる、アルミナの面積占有率が０．３〜１．０％で、かつその空間分布の標準偏差が３以下となるように設定する。 - 特許庁 - This mesh for the transmission electron microscope has a sample supporting surface, and includes a support having one or a plurality of opening parts, and a protecting member disposed on the sample supporting surface side of the support, and equipped with one or a plurality of opening parts.
試料支持面を有し、１つまたは複数の開口部を有する支持体と；該支持体の試料支持面側に配置され、１つまたは複数の開口部を有する保護部材とを含むことを特徴とする透過電子顕微鏡用メッシュ。 - 特許庁 - The X-ray detected by the method described above is discharged mostly from the region within the diffusion range of the incident electron in the observation sample support member, and if the diffusion range of the incident electron is controlled to about a few nm, the resolution of the scanning X-ray microscope can be not more than 10 nm which has been considered to be the theoretical limit by the conventional method.
上述の手法で検知されるＸ線は、概ね、観察試料支持部材内での入射電子の拡散範囲内の領域から放出されることとなり、当該入射電子の拡散範囲を数ｎｍ程度に制御すれば、得られる走査型Ｘ線顕微鏡像の分解能は、従来の手法の理論的限界とされていた１０ｎｍ以下とすることが可能となる。 - 特許庁 - In addition to a basic electron microscope, this device comprises means for inputting a required space resolution in a holography observation, a calculating device for calculating an electron beam bi-prism and a specimen position for realizing a required space resolution from an input value and a parameter unique to the device, and a mechanism for moving these two positions for realizing the found calculation results.
基本的な電子顕微鏡本体に加え、ホログラフィ観察において要求する空間分解能を入力する手段と、入力された値及び装置固有のパラメータから要求された空間分解能を実現する電子線バイプリズム及び試料位置を算出するための計算装置及び、得られた計算結果を実現するためのこれら二つの位置を移動させる機構を設ける。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a sample which can form at once a large quantity of thin piece samples for a crystal defect observing transmission electron microscope in the silicon crystal and which can be simply manufactured in a wide area and to provide the thin piece sample.
シリコン結晶中の結晶欠陥観察用透過型電子顕微鏡用の薄片試料を、一度に大量に作成することができるとともに簡便に広い面積で作製することを可能とした試料作製方法及び薄片試料を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron microscope device in which analysis of spacial configuration is made possible by applying a CT method (computerized tomography method) without segmentizing the test piece and application of the CT method is possible in a general case.
ＣＴ法を応用することにより試料を切片化することなしに立体構造の解析を可能とし、電子顕微鏡装置に特有の問題を解決して、一般的なケースにおいてＣＴ法の応用が可能である電子顕微鏡装置を提供する - 特許庁 - To provide an edge detecting method and a device, wherein the edge can be detected stably by suppressing an effect of noises even in the case of an image having an inferior S/N ratio obtained by a charged particle beam device such as a scanning electron microscope or the like.
本発明は、走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置によって得られたＳ／Ｎ比の悪い画像であっても、ノイズの影響を抑えて安定してエッジを検出することが可能なエッジ検出方法、及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - In this method, the creep damage is estimated accurately by observing the metallographic structure of a sample tube extracted from an actual machine by a transmission electron microscope, and by measuring the density of black spots on a strain field generated by deposition of a Cu-enriched phase by the following methods.
実機から抜管したサンプル管の金属組織を透過型電子顕微鏡で観察し、Ｃｕ富化相の析出によって生じる歪場の黒点の密度を次のような方法で計測することにより、クリープ損傷を精度よく推定する方法。 - 特許庁 - The titanium dioxide particles, in which crystal structure is an anatase type, the primary particle diameter by the measurement of the diameter in a fixed direction with an electron microscope is 0.5 to 5.0 μm, and the particle size distribution thereof is ≤3.0 by D90/D10, and the method for producing the titanium dioxide particles are provided.
結晶構造がアナタース型であり、電子顕微鏡にて定方向径を計測することによる一次粒子径が０．５μｍ〜５．０μｍであり、その粒度分布はＤ９０／Ｄ１０で３．０以下である二酸化チタン粒子、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A β-type iron silicate has a fluorine content of 400 ppm or less relative to the dry weight and has all or part of iron contained in a β-skeleton structure, provided that crystalline particles of the β-type iron silicate have a dual truncated quadrangle pyramid under a scanning electron microscope.
乾燥重量に対するフッ素の含有率が４００ｐｐｍ以下、走査型電子顕微鏡観察において結晶粒子が双四角錐台形状である鉄の全部又は一部をβ骨格構造中に含有するβ型鉄シリケートを用いる。 - 特許庁 - To sample an outermost-layer from the plane direction extending over a wide range, having no dirt, no damage and excellent reproducibility, at the time of forming a thin film sample for a transmission electron microscope, thereby evaluates structure and deposit of the outermost layer.
透過型電子顕微鏡用薄膜試料の作成にあたり、汚れや破損のない、広範囲にわたる、再現性の良い、平面方向からの最表層サンプリングを可能にすることであり、また、これによって最表層の組織、析出物評価を可能にすることである。 - 特許庁 - To obtain a pretreating device and method with a processing function for preventing a partially or wholly non-conductive sample from being charged up and contaminated at the time of applying a conductive paste on the surfaces of the sample and obtaining satisfactory images through an electron microscope.
試料表面に導電性ペーストを塗布する際に、試料の一部またはすべてが非導電性である試料のチャージアップや汚染を防ぎ、良好な電子顕微鏡像が得られるための処理機能を有した前処理装置、ならびに前処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a small plasma generator hardly affected by noise and preventing bad effect on an image detecting system by light in plasma generation and to provide a scanning electron microscope.
本発明はプラズマ発生装置及び低真空走査電子顕微鏡に関し、小型で雑音の影響を受けにくく、プラズマ発生による光が画像検出系に悪影響を与えないプラズマ発生装置及び走査電子顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁 - To provide a scanning probe microscope suitably adapted to the study of the observation of the lattice of lines of magnetic induction or an electron state in a magnetic flux inlusive of the study of a nanoscale non-uniform superconductive state and the observation of the uneven image on the surface of a sample, and its using method.
ナノ・スケール不均一超伝導状態の研究を始めとして、磁束線格子の観測や磁束内電子状態の研究、さらには試料表面の凹凸像の観測に適用して好適な走査プローブ顕微鏡およびその使用方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a system such that when a shape of a shot during exposure is distorted as a circuit pattern becomes finer, a decrease in throughput during wafer inspection with an electron microscope and a decrease in automation rate are recognized, and a position correcting operation for the shot distortion is carried out.
回路パターンの微細化に伴い、露光の際のショットの形状の歪みがある場合には、電子顕微鏡によるウェーハ検査時のスループットの低下や自動化率の低下が認められ、ショット歪みに対する位置補正動作を実行する方式を提供する。 - 特許庁 - The method for detecting the polyphenol adsorbed on the microbial cells is provided by reacting the specimen containing the polyphenol with the microbial cells, then effecting a cerium compound with the reaction liquid, and then observing the crystalline materials of the cerium formed on the surface layer part of the microbial cells by an electron microscope.
ポリフェノールを含有する試料と菌体とを反応させた後、該反応液にセリウム化合物を作用させ、次いで菌体表層部に形成されたセリウムの結晶物を電子顕微鏡により観察する菌体に吸着したポリフェノールの検出法。 - 特許庁 - The colloidal silica produced using activated silicic acid as a raw material in the presence of potassium ions contains potassium ions and contains a group of nonspherical deformed silica particles having a major to minor axis ratio of 1.2-10 as observed with a transmission electron microscope.
カリウムイオンの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、カリウムイオンを含有し且つ透過型電子顕微鏡観察による長径／短径比が１．２〜１０である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。 - 特許庁 - To provide an examining method and a scanning electron microscope capable of improving a fading (decoloring) characteristic of a fluorescent colored substance in a test sample, especially a test sample excitable in an ultraviolet spectrum area, for carrying out simultaneous multicolor detection.
被検試料中の蛍光着色物質の褪色（脱色）特性を改善し、更に、とりわけ紫外スペクトル領域で励起可能な被検試料において、同時的多色的検出を可能とする検査方法及び走査型顕微鏡を提供すること。 - 特許庁 - The electron microscope is provided with a sample room for sample placement accommodating a heating system to be able to heat the internal space of the sample room including the samples for observation.
本発明は上記目的を達成するために、観察対象試料を配置するための試料室を備えた電子顕微鏡において、前記観察対象試料を含む試料室内空間を加熱する加熱機構を備えたことを特徴とする電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁 - To effectively remove an amorphous layer without generating deposits again in relation to a sample-forming apparatus for a transmission type electron microscope which removes the amorphous layer generated to the side face of an observation part when forming the thin-filmed observation part by a convergent ion beam apparatus.
本発明は、集束イオンビーム装置により薄膜化した観察部を作製する際にその側面に生成される非晶質層を除去する透過型電子顕微鏡用試料作製装置に関し、再デポを生じさせないで有効に非晶質層を除去する。 - 特許庁 - To provide a plasma generator and a low-vacuum scanning electron microscope which are compact, seldom affected by noises and not influenced by light due to plasma generation on an image detecting system.
本発明はプラズマ発生装置及び低真空走査電子顕微鏡に関し、小型で雑音の影響を受けにくく、プラズマ発生による光が画像検出系に悪影響を与えないプラズマ発生装置及び低真空走査電子顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁 - The length of a known pattern provided, in advance, in a specified region on a sample is measured with a scanning electron microscope (S101-S104), and the length-measurement result is compared with the pattern design value to provide a magnification correction factor (S105 and S108).
予め試料上の所定の領域に設けられた既知のパターンを走査形電子顕微鏡によって測長し（Ｓ１０１〜Ｓ１０４）、その測長結果を前記パターンの設計値と比較することにより倍率補正係数を導出する（Ｓ１０５，Ｓ１０８）。 - 特許庁 - This sample holding member 30 for an electron microscope used for holding a sample is composed by stacking a grid mesh thin piece 25 provided with a grid mesh 25a at its distal end, and a member provided with a plurality of reinforcing ribs 26 of thin pieces for reinforcing the grid mesh 25a.
試料を保持する電子顕微鏡用試料保持部材３０であって、その先端部にグリッドメッシュ２５ａを設けたグリッドメッシュ薄片２５と、前記グリッドメッシュ２５ａを補強するための薄片の補強用リブ２６を複数枚設けたものとを積層構成とした。 - 特許庁 - The scanning electron microscope according to the present invention scans a sample along one or more straight lines and adds, to a detection signal for each scan line, information for identifying a start position and an end position of the scan line as address information indicating a scan position on the sample.
本発明に係る走査型電子顕微鏡は、試料を１以上の直線状に走査し、走査線の開始位置と終了位置を特定する情報を、試料上の走査位置を示すアドレス情報として、１走査線毎の検出信号に付与する。 - 特許庁 - In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.
電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁 - To provide an electron microscope device using a short focus objective lens that enables acquiring a good image of high resolution without any distortion in a wide range from low magnification to high magnification at the observation in low acceleration voltage condition.
短焦点の対物レンズを用いた電子顕微鏡装置において、低加速電圧条件での観察時に、低倍率から高倍率までの広い倍率範囲において高解像度で歪みのない良好な画像の取得を可能とする電子顕微鏡装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron microscope which forms an enlarged image of almost the same magnification on a monitor screen before and after switching-over when supplying to the monitor a high resolution TV camera output signal replaced with a wide view TV camera output signal.
広視野ＴＶカメラの出力信号に代わって高分解能ＴＶカメラの出力信号をモニターへ切替えて供給しても、その切替えの前後において、モニター画面上の試料拡大像倍率がほぼ同じになるような電子顕微鏡を提供すること。 - 特許庁 - To provide a scanning X-ray electron microscope capable of detecting photoelectrons under a wide range of a vacuum condition from a low vacuum to a high vacuum when photoelectrons generated from a sample by the scanning of X-rays are detected.
本発明は、Ｘ線の走査により試料から発生した光電子を検出する際、低真空から高真空までの広範囲の真空条件において光電子を検出することが可能な走査Ｘ線電子顕微鏡を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The microscope is provided with a means for detecting the presence or absence of positional deviation in matching tips of fingers, the manipulator 10 is provided with a charge increase prevention means due to electron beams, and an electromagnetic shield for shielding an electric field generated from actuators 20, 21 is provided in the actuators of the manipulator.
指片同士の先端合わせの位置ずれの有無を検出する手段を備え、マニュピレータ１０には、電子線によるチャージアップ防止手段を設けたり、マニュピレータのアクチュエータ２０，２１には、該アクチュエータから生じる電界をシールドするための電磁シールドを設けた。 - 特許庁 - To provide an inspection system by which investigation or the like of the causes of defects of a semiconductor sample can be easily performed by making the work for observing defects detected by a SEM (scanning electron microscope)-aided appearance inspection apparatus is surely performable with the use of a review apparatus with high definition.
ＳＥＭ式外観検査装置で検出した欠陥をレビュー装置で高分解能観察する作業を容易、且つ確実に行えるようにし、半導体試料の欠陥に対する原因究明等が容易に行える検査システムを提供する。 - 特許庁 - The durability predicting apparatus 100 comprises a deterioration promoting apparatus 10 (a deterioration promoting means), an electron microscope 12, an energy dispersing X-ray analyzing apparatus 1206, a film thickness measuring instrument 14, a gloss measuring instrument 16, a contact angle measuring instrument 18 and a color measuring instrument 20.
耐久性予測装置１００は、劣化促進装置１０（劣化促進手段）、電子顕微鏡１２、エネルギー分散形Ｘ線分析装置１２０６、膜厚測定器１４、光沢測定器１６、接触角測定器１８、色測定器２０を備えて構成されている。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a sample for cross-section observation by a scanning electron microscope that is appropriate to smooth cross-section formation of 10-100 μm order, does not require a skilled technique of a worker, has high processing position accuracy, and accurately forms a cross section at a desired specific position.
１０μｍ〜１００μｍオーダーの平滑な断面形成に適し、作業者の熟練の技術を必要とせず、かつ加工位置精度に優れ、所望の特定位置に正確に断面を形成できる、走査電子顕微鏡による断面観察用サンプルの作製方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method which enables the making of a sample for a transmission electron microscope simply and in a shorter time without damaging it by eliminating any troublesome preliminary working for a material with a metal thin film or a chemical thin film formed on at least one end face of a glass base material.
ガラス基材の少なくとも片端面に金属薄膜あるいは化合物薄膜を成膜した材料について、面倒な前加工を施すことなく簡便、かつ短時間に、試料損傷を与えずに透過電子顕微鏡用試料を作製できる方法の提供。 - 特許庁 - To provide a device capable of evaluating nano-level thermoelectric material tissues and thermoelectric characteristics at the same time, a method of observing a thermoelectric material using the same, by generating a thermoelectric effect in an electron microscope, and visualizing an ensuing magnetic field.
本発明は、電子顕微鏡内で熱電効果を発生させ、それに伴う発生磁場を可視化することにより、ナノレベルの熱電材料組織と熱電特性を同時に評価できる装置およびそれを用いた熱電材料を観察する方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - To provide a method capable of easily fabricating a sample for a transmission electron microscope in a short time without requiring troublesome pretreatments nor causing sample damage, for an organic material with a thin film of a metal or compound formed on at least one end surface thereof.
有機材料表面の少なくとも片端面に金属薄膜あるいは化合物薄膜を成膜した材料について、面倒な前加工を施すことなく簡便、かつ短時間に、試料損傷を与えずに透過電子顕微鏡用試料を作製できる方法の提供。 - 特許庁
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