「electron microscope」を含む例文一覧(1821)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 次へ＞- To provide an object positioning apparatus that improves spatial resolution of a charged particle beam apparatus such as an electron microscope by suppressing minute vibration of an object such as a sample by a simple means.
試料等の物体の微小な振動を簡便な手段によって抑制し、以って電子顕微鏡等の荷電粒子線装置の空間分解能を向上させる物体位置決め装置の提供する。 - 特許庁 - To provide a scanning electron microscope capable of providing a high-resolution image even if a sample is tilted when a surface of the sample is observed by a retarding method for applying a negative voltage to the sample.
試料に負電圧を印加するリターディング法により試料表面の観察を行う際に、試料を傾斜させても高分解能像を得ることを可能にする走査電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁 - To provide a magnetic field applying device of an electron microscope wherein the application correcting angle of a sample can be increased without enlarging the device.
本発明は電子顕微鏡の磁場印加装置に関し、装置を大型化することなく試料の印加補正角を大きくとることができる電子顕微鏡の磁場印加装置を提供することを目的としている。 - 特許庁 - To enable to change control contents described in memories of a microprocessor, an FPGA and a CPLD that are used as component elements of a scanning electron microscope, without moving from the development base of a manufacturer or a service center.
走査電子顕微鏡の構成要素として用いられるマイクロプロセッサ，ＦＰＧＡ，ＣＰＬＤのメモリに記述されている制御内容を、メーカの開発拠点・サービスセンタに居ながらにして変更する。 - 特許庁 - A thin-film sample 2 thinned down to allow for observation by a transmission type electron microscope is made from a model alloy 1 to be observed, and a mark 3 is manufactured on the thin-film sample 2.
観察対象となるモデル合金１から、透過型電子顕微鏡で観察可能な厚さまで薄膜化された薄膜試料２が作製され、薄膜試料２にマーク３の作製が行なわれる。 - 特許庁 - This abrasive is characterized by including manganese dioxide particles having a non-acicular form at 3.0 or less of a fraction of a vertical axis to a lateral axis of a particle observed by a scanning electron microscope.
走査電子顕微鏡により観察された粒子の縦軸と横軸との比が３．０以下である非針状形態を有する二酸化マンガン粒子からなることを特徴とする研摩材である。 - 特許庁 - To provide a method for construction and processing of a three dimensional image in a transmission electron microscope TEM, which is simpler than before, concerning a technology associated with alignment of the method for construction and processing of the three dimensional image in the TEM.
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）三次元像構築画像処理方法のアライメントに関する技術において、従来よりも簡便なＴＥＭ三次元像構築画像処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a confocal scanning transmission type electron microscope device and a three-dimensional tomographic observation method such that atom arrays of a thin-layer sample at different depths are observed through one image.
共焦点走査透過型電子顕微鏡装置及び３次元断層像観察方法に関し、薄層状試料における異なった深さにおける原子配列を一画像で観察可能にする。 - 特許庁 - It is preferable to apply the external force to the capsule 11 for submerged observation in the scanning electron microscope and the external force is preferably applied to the capsule 11 for submerged observation while vibrating the capsule.
前記走査型電子顕微鏡内で前記液中観察用カプセルに外力を加えることが好ましく、前記液中観察用カプセルを振動させて外力を加えることが好ましい。 - 特許庁 - The particle suitably has an average primary particle diameter of from 20 nm to 1 μm measured by a transmission electron microscope method, and average particle diameter of from 20 nm to 3 μm measured by a dynamic light scattering method.
その中空粒子としては透過型電子顕微鏡法による平均一次粒子径が２０ｎｍ〜１μｍ、動的光散乱法による平均粒子径が２０ｎｍ〜３μｍが好適である。 - 特許庁 - In this configuration, the vibration of this frequency, which is transmitted from a floor face A through the second vibration resistant mount 3 to the intermediate frame 1, is absorbed by the dynamic vibration absorber, and not transmitted to the electron microscope E.
この構成では、床面Ａから第２除振マウント３を通って中間フレーム１に伝わってきた当該周波数の振動は動吸振器によって吸収され、電子顕微鏡Ｅには伝わらない。 - 特許庁 - To provide a mapping type electron microscope in where a projection imaging optical system is provided with a zooming transfer lens system for improving the geometrical aberrations in low-magnification imaging and space-charge effect in the zooming range.
投影結像光学系にズーム型トランスファー・レンズ系を用いて、低倍結像の幾何収差とズーム範囲での空間電荷効果とを改善する写像型電子顕微鏡を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pair of tweezers capable of holding a sample for observation by an electron microscope and easily detecting the holding force with high accuracy, and a holding force control device.
電子顕微鏡観察用の試料を挟持可能なものであって、挟持する力（挟持力）を容易且つ高精度に検出することができるピンセット及びその挟持力制御装置を提供する。 - 特許庁 - The ratio D_top/D_50 of the maximum particle diameter D_top to the average particle diameter D_50 of the primary particle of the titanium dioxide observed with a field emission scanning electron microscope is 1 or greater and 3 or less.
電界放射型走査電子顕微鏡で観察した一次粒子の最大粒子径Ｄ_topと平均粒子径Ｄ_50の比Ｄ_top／Ｄ_50が１以上３以下であることを特徴とする二酸化チタン。 - 特許庁 - To provide a device capable of improving throughput of wafer inspection by further reducing a time required for replacement of a wafer, in a scanning electron microscope for inspecting a semiconductor wafer.
本発明は、半導体ウェーハを検査する走査型電子顕微鏡において、ウェーハの交換に要する時間をさらに短縮することにより、ウェーハ検査のスループットを向上させる装置の提供を課題にする。 - 特許庁 - To provide a scanning electron microscope capable of executing inspection of a sample with high accuracy while suppressing decomposition of the sample without decreasing the inspection speed of the sample.
本発明は、試料の分解を抑えつつ、試料の検査を高精度で行うことができ、しかも試料の検査速度を低下させることがない走査電子顕微鏡を提供することを課題とする。 - 特許庁 - In morphological observation of the membrane cross-section by an electron microscope, the width of the lamella structure composed of the polymer segment (B) to form the micro-phase separation structure shows that it is in the range of 5-200 nm.
膜断面の電子顕微鏡によるモルフォロジー観察において、ミクロ相分離構造を形成するポリマーセグメント（Ｂ）からなるラメラ構造の幅が、５〜２００ｎｍの範囲にあることを示す。 - 特許庁 - To provide a sample holder capable of continuously observing a sample even if the sample is heated and reducing a temperature difference between the sample and a heater, in a transmission electron microscope, and a sample observation method.
透過型電子顕微鏡において、加熱しても試料を連続観察することができ、かつ試料とヒーターの温度差を減らすことができる試料ホルダーおよび試料観察方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an observation method of intercellular microstructure of stratum corneum using a transmission electron microscope enabling a whole detail of intercellular microstructure of stratum corneum being easily and clearly observed.
透過型電子顕微鏡を用いて角層細胞間の微細構造の全体の詳細を簡便かつ明瞭に観察することができる角層細胞間の微細構造の観察方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a process of reviewing failure using electronic microscope and to provide a failure reviewing device which can reduce a man-hour of user required for setting automatic focus by electron beam and to facilitate the observation of a sample.
電子顕微鏡を用いた欠陥のレビュー方法、および欠陥のレビュー装置において、電子ビームの自動焦点合わせの設定に要するユーザの工数を低減し、試料の観察を容易化する。 - 特許庁 - The cerium oxide comprises cubic polygonal particles having a length of one side of 5-200 nm, wherein images of the polygonal particles observed with a transmission electron microscope are cubic.
透過型電子顕微鏡による多角形粒子の観察像が矩形であり、一辺の長さが５ｎｍ〜２００ｎｍである立方体状の多角形粒子を含むことを特徴する酸化セリウムに関する。 - 特許庁 - The (a) and (b) can be obtained by EDS measurement in which an electronic beam is applied to a minute region in terms of pinpoint using a transmission electron microscope.
０.３≦ａ／ｂ≦１.０ ……(1) ｂ／ｃ≧１.０ ……(2) ０.１≦ａ／ｃ≦１.０ ……(3) 前記ａおよびｂは、透過型電子顕微鏡を用いて電子ビームを微小領域にピンポイント的に当てたＥＤＳ測定によって求めることができる。 - 特許庁 - This etching dispersion estimation device has a length-measuring scanning electron microscope 10 for respectively measuring the line widths of a resist pattern used as a measuring object at a plurality of positions with first and second threshold values.
複数の位置で、測定対象となるレジストパターンの線幅を、第１および第２の閾値でそれぞれ測定する測長用走査型電子顕微鏡１０を持つエッチングばらつき予測装置である。 - 特許庁 - To provide a test piece observation method capable of allocating an observation field of vision selectively to a portion required for observation of the test piece that is an observation object, and to provide an electron microscope.
本発明は、観察対象となる試料の観察に要する個所に対し、選択的に観察視野を割り当てることが可能な試料観察方法、及び電子顕微鏡の提供を目的とする。 - 特許庁 - To provide a method capable of performing observation of an arbitrary sample or detection of charge-up at a measuring section in a scanning electron microscope without requiring modification of a hardware.
走査型電子顕微鏡において任意のサンプルの観察あるいは測定部位におけるチャージアップの検出を、ハードウェアの改造を必要とせずに、実施できる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To enable a scanning capacitance microscope dopant profile measurement or an electron beam holography dopant profile measurement for a cross section of a thin piece cut from a desired region in a semiconductor device by a focused ion beam apparatus.
半導体デバイスの所望領域から集束イオンビーム装置で切り出した薄片の断面の、走査キャパシタンス顕微鏡ドーパントプロファイル測定もしくは電子線ホログラフィードーパントプロファイル測定を可能にする。 - 特許庁 - To provide a method appropriate for wafer edge observation using an electron microscope for investigating generation factors of foreign substances or the like, when these foreign substances or defects are discovered in wafer inspection.
ウェハ検査において異物や欠陥を見つけた場合に、これら異物等の発生原因を探求するための電子顕微鏡を用いたウェハエッジ観察に関する好適な方法を提供する。 - 特許庁 - To apply thin film processing by the other pre-processing method on a sample processed by a focused ion beam processing method or the like, and to observe and analyze it as it is by an electron microscope.
本発明の目的は、集束イオンビーム加工法などにより加工した試料をさらに他の前処理法で薄膜加工し、そのまま電子顕微鏡により観察および分析することにある。 - 特許庁 - When the hydrophilic group are aggregated, the nitric acid group bonded thereto are also aggregated and when the nitric acid group is stained by ruthenium, the ruthenium also aggregates and can be observed by an electron microscope.
親水基が凝集しているとこれに結合した硝酸基も凝集し、当該硝酸基をルテニウムで染色すると、ルテニウムも凝集してこれを電子顕微鏡で観察可能となる。 - 特許庁 - From the microstructure of a FePt thin film observed by an electron microscope, the island shapes of FePt particulate is confirmed, and the islands are completely isolated from one another.
電子顕微鏡により観察されたＦｅＰｔ薄膜の微細構造からは、ＦｅＰｔ微粒子の形状が島状になっていることが確認され、個々の島は互いに完全に孤立している。 - 特許庁 - To provide a scanning electron microscope by which lowering in the sensitivity and the reduction of the scanning range caused, when a detector leaves a specimen is eliminated, and an impact on secondary electrons that are detected by a magnetic field generated by scanning coils is eliminated.
検出器が試料から遠ざかることによる感度低下、走査範囲の減少を解消し、走査コイルが発生する磁場により検出される２次電子に対する影響を除くこと。 - 特許庁 - To provide an observation method for a microstructure of a polymeric material capable of analyzing a phase separation structure, a lamellar structure and an oriented state of a crystal of the polymeric material by a scanning electron microscope.
走査型電子顕微鏡により高分子材料の相分離構造、ラメラ構造および結晶の配向状態を解析することが可能な高分子材料の微細構造の観察方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a mechanism for applying high-voltage to a sample for scanning electron microscope and capable of reducing a load to be applied to a sample stage and capable of eliminating the generation of accidents such as disconnection of a high-voltage cable.
走査電子顕微鏡等用の試料に高電圧を印加する機構に関して、試料ステージへの負荷を軽減し、高電圧ケーブル断線等の事故をなくす機構を提供すること。 - 特許庁 - To provide a stabilized direct-current power supply used for an electron microscope of which the output is stabilized in a short time by the compensation of resistance value fluctuation caused by the temperature drift of a direct-current load.
本発明の目的は、直流負荷の温度ドリフトによる抵抗値変動を補償し、短時間で出力が安定する電子顕微鏡に用いられる直流安定化電源を提供することにある。 - 特許庁 - To provide an apparatus for preventing an image distortion indicating a width and a dimension of a gap of a circuit formed by an SEM (scanning electron microscope) under the influence of an external electromagnetic radiation emitted from an adjacent manufacturing apparatus.
隣接する製造装置から放出された外部電磁放射の影響下でＳＥＭにより形成された回路の幅及び間隔の寸法を示す画像の歪みを防止する装置を提供する。 - 特許庁 - In the energy dispersion type microanalyzer equipped with an electron microscope 11, an energy dispersion type X-ray analyzer 22 and computers 13 and 24 for controlling them, memory media 13a and 24a storing the analyzing condition set with respect to the electron microscope 11 and the analyzing condition set with respect to the energy dispersion type X-ray analyzer 22 on the basis of the condition corresponding to the set analyzing condition are provided.
電子顕微鏡１１とエネルギー分散型Ｘ線分析装置２２とこれらを制御するコンピュータ１３，２４とを備えたエネルギー分散型マイクロアナライザにおいて、電子顕微鏡１１について設定する分析条件と、その条件に対応する条件でエネルギー分散型Ｘ線分析装置２２について設定する分析条件とを記憶した記憶媒体１３ａ，２４ａを設けている。 - 特許庁 - Then, only when the recognized defect part which is determined that there are no defects therein by the electron microscope unit 2, is review carried out by an optical microscope unit 4, is the information based on the reviewed result as to whether defects exist in the recognized defect part, output to the defect information classifying section 6 by a second determining section 5.
続いて、電子顕微鏡ユニット２で欠陥が無いと判定された認定欠陥部位のみについて、光学顕微鏡ユニット４によりレビューし、その結果に基づき、第２の判定部５により認定欠陥部位における欠陥の有無の情報が欠陥情報分類部６に出力される。 - 特許庁 - To reduce the measuring error of film thickness and to suppress width irregularity at every work, in setting a cross section by a frozen section method when the cross section of a sheet-like sample is observed or the thickness thereof is measured by an electron microscope or an optical microscope, by enhancing the workability at time of the vertical setting of the sample.
電子顕微鏡および光学顕微鏡でのシート状試料の断面観察や膜厚を測定する際の凍結切片法により断面出しを行う場合において、試料を垂直にセットする際の作業性を向上させることにより、膜厚測定の誤差を小さくすると共に、作業毎のバラツキ幅を抑えること。 - 特許庁 - To realize a method of manufacturing a membrane sample for a scanning transmission electron microscope which is suitable for being used in the inspection of a multilayer structure in a semiconductor device and which is handled easily, and to realize an observation method for the membrane sam ple.
半導体デバイスの多層構造の検査に用いて好適であり、取り扱いが容易な走査透過電子顕微鏡用薄膜試料作製方法および薄膜試料の観察方法を実現する。 - 特許庁 - The cryogenic energy storing means is disposed under the specimen holding means, whereby the cryogenic energy can be continuously supplied to the specimen, and the observation time for the specimen in an electron microscope can be thus extended.
冷却エネルギー蓄積手段は、試料載置手段の下方に配置されることで、試料に持続的に冷却エネルギーを供給し、ひいては電子顕微鏡を用いて試料を観察する時間を延長できる。 - 特許庁 - To provide a micro-grid structure for holding specimens of an electron microscope which can reduce the possibility of breakage of a specimen holding film as well as easily discriminable between such as the front and back surfaces of a specimen, and to provide a manufacturing method of the specimens.
マイクログリッドが有する試料を載置するための支持膜の破損の可能性を低減し、また、試料の表裏等の区別を容易にできるマイクログリッド及び電子顕微鏡用試料の作製方法を提供する。 - 特許庁 - The silver particle is provided, wherein the shape by electron microscope observation is nongranular; the central particle diameter (D50) is 0.05 to 3.0 μm, and also, the content of carbon is 0.03 to 3 mass%.
電子顕微鏡観察による形状が非粒状であり、中心粒径（Ｄ５０）が０．０５μｍ〜３．０μｍであり、且つ、カーボン含有量が０．０３〜３質量％であることを特徴とする銀粒子を提案する。 - 特許庁 - To provide a specimen holder for an electron microscope, to which the present invention relates, and which permits a field of view to be obtained at a tilt angle that is made as close as possible to 90° and can be manipulated easily.
本発明は電子顕微鏡用試料ホルダーに関し、可能な限り９０°に近い傾斜角度で視野を得ることができ、また操作性のよい電子顕微鏡用試料ホルダーを提供することを目的としている。 - 特許庁 - To provide a scanning electron microscope, allowing an image satisfactory for observing of the irregular shapes of an object of observation to be observed correctly and accurately three-directionally, and to provide a three-dimensional image display method that uses it.
被観察対象物の凹凸形状を観察するに十分な画像を正確に精度よく立体観察可能とする走査型電子顕微鏡装置およびこれを用いた三次元画像表示方法を提供する。 - 特許庁 - When performing alignment, an optical positive image, which is an image of observing the end face different from the observation face of the electron microscope from an oblique direction, is photographed at an observation-target portion arbitrarily selected from among a plurality of the observation target portions.
アライメントの際には、複数ある観察対象部位から任意に選択した観察対象部位で、電子顕微鏡の観察面とは異なる端面を斜めから観察した光顕画像を撮影する。 - 特許庁 - This is the manufacturing method of a microgrid 1 which is used for a test piece support at the time of observation by an electron microscope and has a grid mesh 10 and a thin film 20 having a pore installed on the grid mesh.
電子顕微鏡による観察の際に試料支持用として用いられる、グリッドメッシュ１０と、グリッドメッシュ上に設けられた、孔部を有する薄膜２０と、を備えたマイクログリッド１の製造方法である。 - 特許庁 - To provide a charged particle beam device of a critical-dimension measuring scanning electron microscope (CD-SEM) or the like, measuring accurately a pattern dimension on a photomask for nanoimprint by a retarding voltage application system.
リターディング電圧印加方式によってナノインプリント用フォトマスク上のパターン寸法を正確に測定することができる微小寸法測定走査電子顕微鏡（CD-SEM）等の荷電粒子線装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide an inexpensive electrolytic polishing device having a wide observation visual field of a sample by a transmission electron microscope, requiring an extremely small amount of electrolytic solution to be used, and reducing dramatically a load on an environment.
使用する電解液が極めて少量であり、環境への負荷が劇的に減少すると共に、透過型電子顕微鏡による試料の観察視野も広く且つ安価な電解研磨装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a device for recognition of a thin-film sample position in an electron microscope, allowing multi-axial stage movement to bring easily an objective thin film sample piece within an observation visual field.
本発明は簡単に目的の薄膜試料片が観察視野に入るように多軸ステージ移動することができる電子顕微鏡における薄膜試料位置認識装置を提供することを目的としている。 - 特許庁 - To provide a template matching method by which erroneous determination is prevented even when a ground pattern appears in extracting a pattern matched with a template from the images using a design pattern as the template, and to provide a scanning electron microscope.
設計パターンをテンプレートとし、画像からテンプレートと一致するパターンを抽出するときに、画像に下地パターンが現れていても誤判断のないテンプレートマッチング方法、および走査電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁
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