「electron microscope」を含む例文一覧(1821)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 次へ＞- The method for producing the carbon black comprises subjecting a raw material of the carbon black having 0.5-0.8 μm mode diameter in the size distribution curve drawn by using the structure lengths measured by the transmission electron microscope, and ≥1 μm half width thereof to a heat treatment in a gas flow containing hydrogen to remove an acidic functional group.
透過型電子顕微鏡によって測定されたストラクチャー長さを用いて描かれた粒度分布曲線の最大頻度径が０．５〜０．８μｍで、その半値幅が１μｍ以上であるカーボンブラック原料を、水素を含む気流中、加熱処理して酸性官能基を脱離させることを特徴とするカーボンブラックの製造方法。 - 特許庁 - This information acquiring method acquires information about material in the solvent and comprises processes to hold the material in the solvent, to make the solvent as an amorphous solid phase, and to acquire information about the material held by the amorphous solvent by using an electron microscope.
溶媒中における物質に関する情報の取得方法であって、前記物質を溶媒中で保持する工程と、前記溶媒を非晶質な固相状態にする工程と、前記非晶質の溶媒に保持された物質に関する情報を電子顕微鏡を用いて取得する工程とを有する情報取得方法。 - 特許庁 - The colloidal silica is produced by using an active silicic acid as a raw material in the presence of triazole, and contains triazole in the liquid phase and a group of non-spherical heteromorphic silica particles which has a major axis/minor axis ratio by a transmission electron microscope in the range of 1.0-5 and an average value of the major axis/minor axis ratio of 1.2-3.
トリアゾールの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、液相にトリアゾールを含有し、透過型電子顕微鏡による長径／短径比が１．０〜５の範囲にありかつ長径／短径比の平均値が１．２〜３である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。 - 特許庁 - There are provided a method for correcting magnification and position and a system for correcting magnification and position, both of which can correct measurement magnification and measurement position of a spectral image with high efficiency and with high accuracy using an electronic spectroscope and a transmission electron microscope, regarding the spectral image formed with two axes where the amount of energy loss and the measurement position information are orthogonal to each other.
電子分光器および透過型電子顕微鏡を用いて、エネルギー損失量と測定位置情報が直交する二軸で形成されるスペクトル像について、スペクトル像の測定倍率および測定位置を高効率かつ高精度に補正可能な倍率・位置補正方法および倍率・位置補正システムを提供する。 - 特許庁 - To obtain a semiconductor device, which is suitable for mass- production management and has high reliability and stable yield by improving dense distribution of holes and controllability to a hole diameter and by realizing easy inspection process for a buried plug height, using a scanning electron microscope as for the height of the buried plug in formation of a wiring contact part of a dual-damascene wiring.
デュアルダマシン配線の配線コンタクト部の形成における埋め込みプラグの高さについて、ホールの疎密分布およびホール径に対する制御性を改善し、走査型電子顕微鏡を用いた埋め込みプラグ高さの検査工程を容易にし、量産管理に適した信頼性の高い歩留の安定した半導体装置を得る。 - 特許庁 - To provide an inspection system with a scanning electron microscope for performing an inspection for the purpose of detecting a defect on a substrate with a circuit pattern of a semiconductor device, a liquid crystal, or the like formed thereon which allows the easy identification of a minute defect and a pseudo one which have been hard to identify, and an inspection method thereof.
半導体装置や液晶などの回路パターンが形成された基板上の欠陥を検出する目的で検査を行う走査電子顕微鏡を搭載した検査装置において、困難となっている微細欠陥と擬似の識別を容易に実施できる検査装置及びその検査方法を提供する。 - 特許庁 - From the observation of the structure under a scanning electron microscope, a target material for deposition of an optical recording medium protective layer has a structure which consists of, in the ratio to the whole, 4-20 mass % SiO2 constituting a network continuous phase and the balance essentially ZnS distributed as a disperse phase filling the meshes of the continuous phase.
光記録媒体保護層形成用ターゲット材が、走査型電子顕微鏡による組織観察で、全体に占める割合で４〜２０質量％のＳｉＯ_2が網目状連続相を構成し、残りが実質的に前記連続相の網目を埋めた分散相として分布するＺｎＳからなる組織を有する。 - 特許庁 - In a monochrome gray image at 256 gray levels, where black corresponds to 0 and white corresponds to 255, of a cross section intersecting the outside surface of the nickel plated layer 31 at right angles, as observed by a transmission electron microscope using 200 kV acceleration voltage, the average value in 256 gray levels of the monochrome gray image is 170 to 230, both ends inclusive.
ニッケルメッキ層３１の外表面に直交する断面を、２００ｋＶの加速電圧による透過型電子顕微鏡で観察したときの、黒を０とし、白を２５５とした２５６階調の白黒濃淡画像において、白黒濃淡画像の２５６階調での平均値が１７０以上２３０以下とされる。 - 特許庁 - In the manipulation device for the minute work of the electron microscope, the dual probe 10 comprising a main probe 11 and a sub probe 12 bonded to the main probe 11 is provided to one or two or more manipulator units driven in X-axis, Y-axis and Z-axis directions and rotatable around a T-axis and/or an R-axis independently of each other.
Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向への駆動及びＴ軸および／またはＲ軸の回転が各々独立に可能な1つ又は2つ以上のマニピュレータユニットにメインプローブ１１とそれに接合するサブプローブ１２よりなるデュアルプローブ１０を載置することを特徴とする電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置である。 - 特許庁 - This grid holder sandwiches from the upper and lower sides and fixes this grid for the transmission electron microscope having a base material 1 having at least one opening part 6, a carbon film 2 for covering a first face and the opening part of the base material, a metal later (for example, a tantalum layer) formed on the carbon film, and a ceramic layer (for example, an alumina layer).
少なくとも１つの開口部６を有する基材１と、基材の第１面および開口部を被覆するカーボン膜２と、カーボン膜上に形成された金属層（例えばタンタル層）３と、セラミック層（例えば酸化アルミニウム層）４とを有する透過型電子顕微鏡用グリッドと、それを上下から挟んで固定するホルダー。 - 特許庁 - The convex part is defined as the part protruding from outside of a polygon formed by connecting local minimum points to the inside direction of the fiber on a photograph of the cross section of the cellulose acetate fiber taken in a scanning electron microscope of 3000 magnification.
本発明でいう凸部とは、対象となるセルロースアセテート繊維の繊維軸に垂直方向の断面を、走査型電子顕微鏡を用いて３０００倍の倍率で写真撮影し、繊維の内部方向に対して極小点となる部分を結んでできる多角形の外側に突出している部分を凸部とする。 - 特許庁 - The exhaust gas cleaning catalyst is held by composite oxide particles in which particulates of a noble metal contain CeO_2 and a photograph, which is measured Pd fine particles on a support from a side face by a transmission electron microscope (TEM), exhibits trapezoidal shaped nanoparticles having smooth tips.
貴金属微粒子がＣｅＯ_２を含有する複合酸化物粒子に担持された排ガス浄化触媒であって、担体上のＰｄ微粒子を側面から透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定した写真が平坦な頂部を有する台形状のナノ粒子を示す、前記排ガス浄化触媒。 - 特許庁 - In this method, based on position coordinates of the defect detected by defect detecting means, marking is made in the vicinity of the defect by using an ion beam, etc., sample is monitored with transmission electron microscope to specify the defective section from relative positional relationship between the marking and the defect, and then sample including the target defective section will surely be prepared.
欠陥検出手段で検出した欠陥の位置座標を基準にして、その近傍にイオンビームなどによってマーキングし、試料を透過型電子顕微鏡で観察して、マーキングと欠陥との相対位置関係から、欠陥部を特定し、目的とする欠陥部を含む試料を確実に作製する。 - 特許庁 - To hold an observation desired portion stably on a sample holder, when extracting surely the observation desired portion from a large sample substrate and performing finishing process for preparing a thin-film sample, in a method for preparing the thin-film sample for performing observation by a transmission electron microscope by using a focused ion beam.
集束イオンビームを用いて透過型電子顕微鏡で観察をおこなうための薄膜試料を作製する方法において、大きな試料基板から観察所望部位を確実に抽出し、薄膜試料作製のための仕上げ加工を行なう際に、観察所望部位を試料ホルダに安定して保持することができるようにする。 - 特許庁 - The Si dispersed vitreous carbon material is provided with structural performance that a crystalline structure except graphite structure does not exist practically in the structure, the diffraction line attributed to metal Si or an Si compound is not detected in an X-ray diffraction method and granular structure is not discriminated by the observation by a transmission electron microscope(TEM).
また、その組織中には実質的に黒鉛構造以外の結晶構造が存在せず、Ｘ線回折法により金属ＳｉおよびＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁 - A plurality of point probes having sharp tips 1, 2, 3 and 4 access sample electrodes 5, 6, 7 and 8 respectively until contact currents saturate and contact with them securely, while observing through a scanning electron microscope, by the control of a point probe moving control circuit 18 by using point probe moving mechanisms 14, 15, 16 and 17.
走査型電子顕微鏡で観察しながら、探針移動制御回路１８による制御で、探針移動機構１４、１５、１６、１７により、鋭利な先端を有する複数の探針１、２、３、４を、それぞれ試料電極５、６、７、８に接触電流が飽和するまで接近させ、確実に接触させる。 - 特許庁 - The resinous structure comprises a resin composition consisting of 5-80% by volume of a polyketone resin and 95-20% by volume of a polyolefin resin and has a phase structure, as a resin phase-separating structure observed with an electron microscope, in which structure the polyolefin resin is of a continuous phase and the polyketone resin is of a beltlike dispersed structure.
（ａ）ポリケトン樹脂５〜８０容量％及び（ｂ）ポリオレフィン樹脂９５〜２０容量％からなる樹脂組成物であり、電子顕微鏡で観察される樹脂相分離構造として、ポリオレフィン樹脂が連続相、ポリケトン樹脂が帯状分散相である相構造を有する樹脂構造体とする。 - 特許庁 - The sample holding mesh 13 used for a transmission electron microscope has a separable part (a primary mesh 13-1) and this part is made to be detachable from the remaining part (a secondary mesh 13-2) after separation so that it may not break a tip of the sample during measurement and precise elemental analysis can be performed.
透過型電子顕微鏡に用いられる試料保持用のメッシュ１３において、前記メッシュの一部（第１のメッシュ１３−１）が分離し、当該一部が、分離後に残った部分（第２のメッシュ１３−２）と脱着可能な形態とすることにより、測定中、試料の先端を崩さずに、精度の高い元素分析を行なう。 - 特許庁 - The magnetic field objective lens for an electron microscope has a first magnetic field lens and a second magnetic field lens generating a magnetic field in the vicinity of a sample mounting region along an optical axis, and in the sample mounting region, the magnetic fields by the first magnetic field lens and the second magnetic field lens are canceled each other to zero.
電子顕微鏡用磁界型対物レンズは、光軸に沿う試料配置領域の近傍に磁場を発生させる第１磁界型レンズおよび第２磁界型レンズを有し、前記試料配置領域において、前記第１磁界型レンズおよび前記第２磁界型レンズによる磁場が互いに打ち消されてゼロになる。 - 特許庁 - In the piezoelectric power generating element, a pair of electrodes is arranged on a piezoelectric ceramics layer formed of a ceramics in a range of average grain size of 0.01-0.1 μm by observation using a scanning electron microscope, and the piezoelectric ceramics layer subjected to polarization processing is applied with an external force different from the polarization direction, thereby generating electric potentials.
走査型電子顕微鏡観察により平均粒径０．０１μｍ以上、０．１μｍ以下の範囲のセラミックスで形成されている圧電セラミックス層に対電極を配置し、分極処理した圧電セラミックス素子に、分極方向と異なる外力を与え電荷を発生することを特徴とする圧電発電素子。 - 特許庁 - A sample 2 is cut from a semiconductor chip to be made thin by mechanical polishing and the thin sample is attached to a single-ported mesh 6 for transmission type electron microscope observation and a Pt film 7 is formed to the part with specific depth of an end surface and irradiated with gallium ion beam 8 parallel to the main surface of the sample to make the part other than a principal part thin by etching.
半導体チップから試料２を切り出し、機械的研磨により薄くした後、透過型電子顕微鏡観察用の単孔メッシュ６に取付け、端面の特定深さの部分にＰｔ膜７を形成し、試料の主面に平行なガリウムイオンビーム８を照射して要部以外の部分をエッチングして薄膜化する。 - 特許庁 - While observing with a scanning electron microscope, a plurality of probes 1, 2, 3 and 4 each having a sharp tip are made to approach sample electrodes 5, 6, 7 and 8, respectively, and made to come into contact with them completely until a contact current saturates by the use of probe moving mechanisms 14, 15, 16 and 17 under the control of a probe movement control circuit 18.
走査型電子顕微鏡で観察しながら、探針移動制御回路１８による制御で、探針移動機構１４、１５、１６、１７により、鋭利な先端を有する複数の探針１、２、３、４を、それぞれ試料電極５、６、７、８に接触電流が飽和するまで接近させ、確実に接触させる。 - 特許庁 - To enable achievement of a tomographic image having little deteriorated image contained in brightness of an achieved image by correcting the brightness of the image with keeping variation information of the thickness of a sample in a transmission type and scan transmission type electron microscope for constructing a three-dimensional image from a transmission image achieved by inclining the sample.
試料を傾斜させて得られた透過像から３次元像を構築する透過型および走査透過型電子顕微鏡において、試料の厚さの変化情報を維持したまま、取得した画像の明るさ補正を行い、画像の明るさに含まれる情報の劣化の少ないトモグラフィ像を取得する。 - 特許庁 - This curable resin composition contains an epoxy resin, a solid polymer having a functional group reacting with the epoxy group and a curing agent for the epoxy resin, and when the cured material is dyed with a heavy metal and observed by using a transmission electron microscope, a phase separated structure is not observed in a matrix consisting of the resin.
エポキシ樹脂と、エポキシ基と反応する官能基を有する固形ポリマーと、エポキシ樹脂用硬化剤とを含有する硬化性樹脂組成物であって、硬化物を重金属により染色し、透過型電子顕微鏡により観察したときに、樹脂からなるマトリクス中に相分離構造が観察されない硬化性樹脂組成物。 - 特許庁 - This scanning electron microscope is provided with the function of computing corrected precision after coordinates compensation to be displayed by using a vector 39, the function of automatically determining scale factor during search in automatic detection of foreign materials/defects after coordinates compensation from acquired information, and the function of computing appearance ratio of foreign materials/defects and time required from search scale factor and measuring conditions.
座標補正後の補正精度を算出し、ベクトル３９を用いて表示する機能、得られた情報から座標補正後異物／欠陥を自動検出する際の探索時の倍率を自動で決定する機能、また探索倍率と測定条件から異物／欠陥の出現率とかかる時間を算出する機能を設けた。 - 特許庁 - Particularly, a preferable example is the powder having rare earth elements (Sc, Y can be treated as rare earth elements)on the particle surfaces, such as having an average long axis length of 10-200 nm when measured in the image photographed by using transmission electron microscope and a specific surface area of 30-200 m^2/g by the BET method.
特に、粒子表面に希土類元素（Ｓｃ、Ｙも希土類元素として扱う）を有するものが挙げられ、透過型電子顕微鏡写真より計測される平均長軸長が１０〜２００ｎｍ、ＢＥＴ法による比表面積が３０〜２００ｍ^2／ｇであるものが好適な対象となる。 - 特許庁 - In this method, based on position coordinate of the defect detected by defect detecting means, marking through ion beam, etc. is provided around the position coordinate, sample is observed with a transmission electron microscope to identify the defective area from relative positional relationship between the marking and the defect, reliably preparing sample which contains the target defective area.
欠陥検出手段で検出した欠陥の位置座標を基準にして、その近傍にイオンビームなどによってマーキングし、試料を透過型電子顕微鏡で観察して、マーキングと欠陥との相対位置関係から、欠陥部を特定し、目的とする欠陥部を含む試料を確実に作製する。 - 特許庁 - The conductive electroless plating powder in which a nickel film is formed by an electroless plating method on the surface of the core member powder is characterized in that grain boundaries are not admitted at the section in the thickness direction of the nickel film when the section is observed by a scanning electron microscope at magnifying power up to 100,000 times.
本発明の芯材粉体の表面に無電解めっき法によってニッケル皮膜を形成した導電性無電解めっき粉体は、前記ニッケル皮膜の厚さ方向断面を、走査型電子顕微鏡によって１０００００倍迄の拡大倍率で観察したときに、該断面に結晶粒界が認められないことを特徴とする。 - 特許庁 - The device comprises a sample chamber which enables atmosphere control, a sample holder 14 which introduces a volatile substance containing sample in the sample chamber, a scanning electron microscope for observing this sample held, a manipulator which samples the sample held in the sample holder 14, and a sample holder 15 for taking out the sample sampled to the outside of the sample chamber 2.
雰囲気制御が可能な試料チャンバー２、試料チャンバー内に揮発性物質含有試料を導入する試料ホルダー１４、この保持された試料を観察するための走査電子顕微鏡、試料ホルダー１４に保持された試料をサンプリングするマニピュレータ、サンプリングされた試料を試料チャンバー２の外部に取り出すための試料ホルダー１５を具備する。 - 特許庁 - The polishing jig for physical analysis 1 comprises at least an observing block 2 having a sample attaching surface 5a to which the sample 11 is attached and insertable to an in-lens type scanning electron microscope (SEM), a sample mount 3 having a stepped guide part 6 by which the observing block 2 is positioned, and a sample mount holder 4 to which the sample mount 3 is attached.
試料１１が貼付される試料貼付面５ａを有し、インレンズ方式の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）に挿入可能な観察用ブロック２と、観察用ブロック２が位置決めされる段差ガイド部６を有する試料マウント３と、試料マウント３が固定される試料マウントホルダ４とを少なくとも備える物理解析用研磨冶具１である。 - 特許庁 - A polishing composition comprises water sol containing zirconium oxide particles having a specific surface area value of 10 to 400 m^2/g, a particle diameter in the range of 3 to 110 nm converted from it, and the mean value of a primary particle diameter by scanning electron microscope observation in the range of 5 to 150 nm; and is used for polishing a silicon oxide film in manufacturing semiconductor devices.
１０〜４００ｍ^２／ｇの比表面積値とそれから換算される３〜１１０ｎｍの範囲の粒子径を有し、走査型電子顕微鏡観察による一次粒子径の平均値が５〜１５０ｎｍの範囲にある酸化ジルコニウム粒子を含有する水性ゾルを含み、半導体装置製造時の酸化珪素膜の研磨に使用される研磨用組成物。 - 特許庁 - To provide a method corresponding to the subject related to a sample holding stand, sample pretreatment and a sample holder for analyzing a structure, a composition and an electronic state in a device operated state by applying external voltage to a sample to be observed in a sample analyzer inclusive of a transmission electron microscope, and a sample analyzing method.
透過電子顕微鏡をはじめとする試料分析装置において、観察しようとする試料に外部電圧を印加し、デバイスが動作状態のまま構造、組成、電子状態を分析するための、試料保持台、試料の前処理および試料ホルダに関する課題に対応する方法、および、当該試料の分析を行う方法を提供する。 - 特許庁 - The resin composition foam having foam cells whose average cell diameter measured with a scanning electron microscope (SEM) is 100-3,000 nm is obtained by melt-mixing and foaming a mixture comprising an olefinic rubber (A) containing a functional group, a compound (B) having a group reactive with the functional group contained in the olefinic rubber (A), and a thermoplastic resin (C).
官能基を含有するオレフィン系ゴム（Ａ）、該オレフィン系ゴム（Ａ）に含まれる官能基と反応しうる基を有する化合物（Ｂ）、および熱可塑性樹脂（Ｃ）を含む混合物を、溶融混合および発泡することにより得られる、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で測定した平均セル径１００〜３０００ｎｍの発泡セルを有する樹脂組成物発泡体。 - 特許庁 - The composition for polishing the semiconductor wafer preferably has a 40 to 300 mol ratio of silica/urea, an average short diameter of the aspherical heteromorphic silica particles having urea fixed through a transmission electron microscope is 7 to 30 nm, and a long diameter/short diameter ratio is 1.2 to 10, an average value of the long diameter/short diameter ratio being preferably 1.2 to 5.
この半導体ウエハ研磨用組成物のシリカ／尿素のモル比は４０〜３００であることが好ましく、また、尿素が固定化された非球状の異形シリカ粒子の透過型電子顕微鏡観察による平均短径が７〜３０ｎｍであり、長径／短径比が１．２〜１０であり、かつ長径／短径比の平均値が１．２〜５であることが好ましい。 - 特許庁 - The scanning electron microscope includes: a pattern existence determining part 1012 that determines the existence of a pattern with respect to an individual frame image and sub-frame image constituting a synthesis image for inspection/length-measurement; a magnification correction part 1014; a distortion correction part 1018; an image synthesis part 1015; and a storage unit 1111 that compresses and stores those images therein in a video form.
走査電子顕微鏡において、パターンの検査・測長のための合成画像を構成する個々のフレーム画像やサブフレーム画像に対してパターンの有無を判定するパターン有無判定部１０１２や倍率補正部１０１４、歪曲補正部１０１８、画像合成部１０１５及びそれら画像を動画形式で圧縮保存する記憶部１１１１を備える。 - 特許庁 - The colloidal silica is produced by using an active silicic acid as a raw material in the presence of benzotriazole, and contains benzotriazole in the liquid phase and a group of non-spherical heteromorphic silica particles which has a major axis/minor axis ratio by a transmission electron microscope in the range of 1.2-15 and an average value of the major axis/minor axis ratio of 1.5-10.
ベンゾトリアゾールの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、液相にベンゾトリアゾールを含有し、透過型電子顕微鏡観察による長径／短径比が１．２〜１５の範囲にありかつ長径／短径比の平均値が１．５〜１０である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。 - 特許庁 - The heat-resistance resin is obtained by subjecting to a crystallization treatment a film comprising 70-30 wt.% of a polyarylketone resin having a crystal melting peak temperature of at least 260°C and 30-70 wt.% of a non- crystalline polyetherimide resin and has a maximum crystal grain size of at most 0.3 μm as observed by a transmission electron microscope.
結晶融解ピーク温度が２６０℃以上であるポリアリールケトン樹脂７０〜３０重量％と非晶性ポリエーテルイミド樹脂３０〜７０重量％とからなるフィルムを結晶化処理したフィルムであって、透過型電子顕微鏡で観察した際に、最大結晶粒径が０．３μｍ以下であることを特徴とする耐熱性フィルム。 - 特許庁 - In the evaluation method of the co-flocculation capacity of bacteria, external force is applied to a capsule 11 for submerged observation containing at least two kinds of bacteria becoming an evaluation target, the co-flocculation states of bacteria before and after external force is applied is observed by a scanning electron microscope and the co-flocculation capacity of bacteria is evaluated on the basis of the observation result.
本発明の細菌の共凝集能の評価方法は、評価対象となる二種以上の細菌を含む液中観察用カプセル１１に外力を加え、外力を加える前と加えた後の前記細菌の共凝集状態を走査型電子顕微鏡により観察し、その観察結果に基づいて前記細菌の共凝集能を評価する。 - 特許庁 - To provide an imaging device (a device according to an aberration correction device) for a charge particle beam device as an electron microscope or the like used for the inspection and measurement of a semiconductor, in which a small deviation beam with a high probe current is formed to improve the resolution and throughput in EDX analysis, WDX analysis, or defect inspection.
半導体の検査および計測に使用される電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置用の「撮像装置」（収差補正装置に準ずる装置）であって、ＥＤＸ分析、ＷＤＸ分析、欠陥検査等の分解能およびスループットを向上させるために高プローブ電流で分散の小さいビームを形成できるようにする。 - 特許庁 - In order to solve the subject matter, the scanning electron microscope is provided to measure the sample height and the sample potential using measured results obtained at the applied state of a voltage to a sample, so as not to get the charged-particle radiation of an electronic beam to the sample when it is radiated to the sample.
上記課題を解決するために、試料に向かって電子線等の荷電粒子線等を照射する際に、当該荷電粒子線が試料に到達しないように、試料に電圧を印加した状態で得られる電子等の荷電粒子の検出結果を用いて、試料高さや試料電位を測定する走査電子顕微鏡を提案する。 - 特許庁 - After the sample 10a to measure the resistance characteristics is irradiated with cation beams and charged, the sample 10a is observed with a scanning ion microscope, and the part (low resistance part) 6 where the electric resistance is different from the other area is detected from the contrast of electronic images (secondary electronic images) by a secondary electron from the sample 10a to be tested.
抵抗特性を測定すべき被検試料１０ａに陽イオンビームを照射して帯電させた後、被検試料１０ａを走査イオン顕微鏡にて観察し、被検試料１０ａから生じる二次電子による電子像（二次電子像）のコントラストから、電気抵抗値がその他の領域とは異なる箇所（低抵抗箇所）６を検出する。 - 特許庁 - This semiconductor device inspection apparatus 1 is equipped with a stage 141 disposed in a vacuum chamber 11 for setting the semiconductor device (sample S), a femto-second laser device 12 for generating a femto-second laser beam FSLB for cutting the semiconductor device, and a scanning electron microscope (SEM 17) for observing the cut face W of the semiconductor device cut by the laser beam.
半導体デバイス検査装置１は、半導体デバイス（試料Ｓ）をセットする真空チャンバー１１内に配設されたステージ１４１と、半導体デバイスを切削するフェムト秒レーザビームＦＳＬＢを生成するフェムト秒レーザ装置１２と、当該レーザビームにより切削した半導体デバイスの切削面Ｗを観察する電子顕微鏡（ＳＥＭ１７）とを備えている。 - 特許庁 - To provide an electron microscope in which control of a button and a slider or the like realizing demand of an operator from a complicated operation screen is shown to the operator in a visually comprehensive state, and in which the most effective operation can be instructed to the operator by analyzing an operation state at that time point in the case a problem occurs during observation.
本発明の目的は、複雑な操作画面からオペレータの要求を実現するボタンやスライダ等のコントロールをオペレータに視覚的にわかり易く示すと共に、観察中に問題が発生した場合には、その時点の操作状態を解析し、最も有効な操作をオペレータに指示することのできる電子顕微鏡を提供することにある。 - 特許庁 - The semiconductor test system is composed of a navigation system which makes up all conditions required for photographing/testing from design information, and a scanning electron microscope system which actually carries out photographing/testing, and then the all conditions required for photographing/testing are made up from the design information such as CAD data or the like, and the actual test is carried out in those conditions.
CADデータ等の設計情報から撮影／検査に必要な全ての条件を作成し、その条件で実際の検査を行うために、半導体検査システムを設計情報から撮影／検査に必要な全ての条件を作成するナビゲーションシステムと実際の撮影／検査を実行する走査型電子顕微鏡システムとから構成させる。 - 特許庁 - The measurement on the plurality of items is performed, in which the AMP (auto measurement parameter) registration is performed for the setting of the parameters regarding the preparation of a line profile from a SEM (scanning electron microscope) image, as the common condition to all measurement items, and in which the plurality of AMP registrations for the edge detection method and the distance measurement value calculation method are performed.
本発明においては、ＳＥＭ画像からラインプロファイルを作成するときに関わるパラメータの設定を全測定項目において共通の条件としてＡＭＰ登録を行い、また、エッジ検出方法と測長値算出方法を複数のＡＭＰ登録を行うことによって、複数項目の測定を行うようにした。 - 特許庁 - The resin structure is constituted by a resin composition substantially comprising (a) a polyester resin and (b) a polyphenylene sulfide resin(PPS resin) at a specific ratio and, simultaneously, the PPS resin layer being allowed to have a special structure such as a continuous phase and a belt-shaped dispersion phase as the resin phase separation structure to be observed in the resin composition by an electron microscope.
特定比の実質的に（ａ）ポリエステル樹脂及び（ｂ）ポリフェニレンスルフィド樹脂（ＰＰＳ樹脂）からなる樹脂組成物で構成され、かつ、該樹脂組成物中に電子顕微鏡で観察される樹脂相分離構造としてＰＰＳ樹脂層が連続相や帯状分散相等の特殊な構造を持った樹脂構造体とする。 - 特許庁 - In the method for analyzing the materials in the microcapsule of the sample for observation containing the microcapsule by the transmission electron microscope, the sample for observation is used as the sample for observation containing the microcapsule, where the microcapsule including monomer capable of photopolymerization is irradiated with light.
マイクロカプセルを含む観察用試料のマイクロカプセル内の材料を透過型電子顕微鏡により解析する方法であって、該マイクロカプセルを含む観察用試料として、光重合可能なモノマーが内包されたマイクロカプセルに光照射をした観察用試料を用いることを特徴とする、マイクロカプセル内の材料を透過型電子顕微鏡により解析する方法。 - 特許庁 - This manufacturing method of a sample for a transmission type electron microscope includes a process for forming a protective film of an amorphous structure to the observation cross section of the specific place of a semiconductor device, a process for removing the periphery of the observation cross section to which the protective film is formed and a process for forming the region containing the protective film into a thin film state.
透過型電子顕微鏡用の試料の作製方法において、半導体デバイスの特定箇所の観察断面に非晶質構造の保護膜を形成する工程と；前記保護膜が形成された観察断面の周囲を除去する工程と；少なくとも前記保護膜を含む領域を薄膜化する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - In transferring a sample held in the sample holder in the transmission electron microscope, its transmission image is obtained with the sample held by the sample holder, a statistical treatment is performed on the obtained sample and the transmission image of a grid of the sample holder, and a velocity of the sample transfer is controlled based on the statistical treatment.
透過電子顕微鏡において、試料ホルダに保持された試料を移動する場合において、試料が試料ホルダに保持された状態でその透過像を獲得し、獲得した試料と試料ホルダのグリッドの透過像に対して統計的処理を行ない、該統計的処理に基づいて試料移動の速度を制御するように構成する。 - 特許庁 - In the formation of the transmission electron microscope observation sample for a magnetic material by means of a convergent ion beam machining method, machining is carried out so that a width w1 of the thin piece machined part for observation and a sample thickness t in the part adjacent to the machined part satisfy the relation t<3×w1.
磁性材料の透過電子顕微鏡観察用試料を集束イオンビーム加工法で作製するにあたり、観察をおこなう薄片加工部の幅ｗ_1 とそれに隣接した部分の試料厚みｔとの間に、ｔ＜３×ｗ_1 なる関係が成り立つように加工することを特徴とする磁性材料の透過電子顕微鏡観察用試料作製方法。 - 特許庁
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