「etching」を含む例文一覧(19972)
＜前へ 1 2 .... 18 19 20 21 22 23 24 25 26 .... 399 400 次へ＞- ETCHING AGENT AND METHOD FOR MANUFACTURING BASE MATERIAL FOR ELECTRONIC EQUIPMENT BY USING THE ETCHING AGENT
エッチング剤及びこのエッチング剤を用いた電子機器用基板の製造方法 - 特許庁 - Further, the process to carry out the hole etching or the trench etching is carried out once again.
さらに、前述のホールエッチング又はトレンチエッチングをする工程を再度行う。 - 特許庁 - ACID ETCHING METHOD, ACID ETCHING TREATMENT DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING ALUMINUM-BASED MEMBER
酸エッチング方法、酸エッチング処理装置及びアルミニウム系部材の製造方法 - 特許庁 - GAS FLOW CONTROLLER FOR LOCAL DRY ETCHING, AND ETCHING METHOD USING SAME
局所ドライエッチングのためのガス流コントローラ及びこれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - ETCHANT COMPOSITION AND ETCHING METHOD
エッチング液組成物およびエッチング方法 - 特許庁 - PAA SYSTEM ETCHING LIQUID, ETCHING METHOD UTILIZING IT, AND STRUCTURE OF RESULTANT MATERIAL
ＰＡＡ系のエッチング液、それを利用するエッチング方法及び結果物の構造 - 特許庁 - METHOD FOR SELECTIVELY ETCHING SAM SUBSTRATE
ＳＡＭ基板の選択的エッチング方法 - 特許庁 - To perform etching by varying an etching rate according to a thickness of a film to be etched.
被エッチング膜の膜厚に応じて、エッチングレートを変動してエッチングを行う。 - 特許庁 - PRODUCTION OF ETCHING PRODUCT UNIT FRAME
エッチング製品ユニットフレームの製造方法 - 特許庁 - PLASMA ETCHING METHOD ACCOMPANIED WITH PATTERN MASK
パターンマスクを伴うプラズマエッチングの方法 - 特許庁 - DRY ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
ドライエッチング方法および半導体装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND DEVICE FOR SILICON WAFER
シリコンウエーハのエッチング方法及び装置 - 特許庁 - DRY-ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
ドライエッチング方法および半導体素子 - 特許庁 - FABRICATION PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE, WET-ETCHING TREATMENT APPARATUS, AND WET-ETCHING METHOD
半導体装置の製造方法、ウエットエッチング処理装置及び、ウエットエッチング方法 - 特許庁 - MASK FOR ETCHING AND ITS FORMING METHOD
エッチング用マスク及びその形成方法 - 特許庁 - Contact holes are formed by etching the insulating film with such dry etching.
このようなドライエッチングにより絶縁膜をエッチングしてコンタクトホールを形成する。 - 特許庁 - ANISOTROPIC ETCHING METHOD AND APPARATUS THEREOF
異方性エッチング方法およびその装置 - 特許庁 - WET ETCHING TREATMENT APPARATUS AND WET ETCHING EVALUATION METHOD USING THE TREATMENT APPARATUS
ウェットエッチング処理装置及び該処理装置を用いたウェットエッチング評価方法 - 特許庁 - DRY ETCHING METHOD OF SILICON COMPOUND FILM
シリコン化合物膜のドライエッチング方法 - 特許庁 - A silicon wafer W is immersed in etching liquid poured into an etching vessel 11 and etching on both front and rear surfaces is made.
エッチング槽１１に注入されたエッチング液中にシリコンウェーハＷを浸し、その表裏両面にエッチングを施す。 - 特許庁 - MULTILAYER SILICON ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING
プラズマエッチング用多層シリコン電極板 - 特許庁 - HIGH PURITY ALKALI ETCHING LIQUID FOR SILICON WAFER AND SILICON WAFER ALKALI ETCHING METHOD
シリコンウエーハ用の高純度アルカリエッチング液およびシリコンウエーハアルカリエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD FOR TITANIUM OR TITANIUM ALLOY
チタンまたはチタン合金のエッチング方法 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING SILICON SUBSTRATE, ETCHANT FOR SILICON SUBSTRATE AND ETCHING DEVICE OF SILICON SUBSTRATE
シリコン基板のエッチング方法、シリコン基板のエッチング液、シリコン基板のエッチング装置 - 特許庁 - To provide a method for performing the detoxification treatment of a ruthenium etching composition after etching treatment to safely discard the ruthenium etching composition.
エッチング処理した後のルテニウムのエッチング用組成物を除害処理し、安全に廃棄できる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide silicon anisotropic etching liquid for selectively etching only silicon without etching aluminum.
アルミニウムをエッチングすることなくシリコンのみを選択的にエッチングすることができるシリコン異方性エッチング液を提供すること。 - 特許庁 - And then, etching is performed by chlorine gas.
次に、塩素ガスを用いてエッチングする。 - 特許庁 - METHOD FOR RECOVERING ALKALI FROM ALKALI ETCHING LIQUID
アルカリエッチング液のアルカリ回収方法 - 特許庁 - Kokan SHIBA: "Mimeguri Kei-zu" (Landscape of Mimeguri), in which the technique of etching was used
司馬江漢：『三囲景図』--エッチング - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - TEMPERATURE MEASURING DEVICE FOR ETCHING TREATMENT APPARATUS
エッチング処理装置の温度測定装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD, VIBRATOR, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
エッチング方法、振動子および電子機器 - 特許庁 - To provide an etching device capable of improving the workability and quality of the etching.
エッチングの作業性と品質とを向上できるエッチング装置を提供する。 - 特許庁 - To suppress abnormality in the etching process or changes in the etching rate in RIE.
ＲＩＥにおいて、エッチング加工の異常や、エッチング速度の変化を抑制する。 - 特許庁 - PLASMA ETCHING SYSTEM AND METHOD
プラズマエッチング処理装置及び処理方法。 - 特許庁 - To provide a vertical carrying type etching apparatus in which the leakage of an etching liquid to the outside of a case is reduced and etching quality is increased.
エッチング液がケース外に漏れるのを減らし、エッチング品質を高める垂直搬送式エッチング装置を提供する。 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR DRY ETCHING
ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 - 特許庁 - ELECTRIC DISCHARGE PROCESSING HEAD FOR CHEMICAL ETCHING SUPPORT SYSTEM
化学エッチング支援放電加工ヘッド - 特許庁 - To provide an etching solution supply unit, an etching apparatus, and an etching method that allow a glass substrate to be etched uniformly.
ガラス基板を均一にエッチングすることができるエッチング液供給装置、エッチング装置及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR DRY ETCHING
ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR DRY ETCHING
ドライエッチング方法及びドライエッチング装置 - 特許庁 - BEVEL-ETCHING APPARATUS AND METHOD
ベベルエッチング装置およびベベルエッチング方法 - 特許庁 - COMBINED WET-ETCHING METHOD OF LAMINATED FILM
積層膜の複合ウェットエッチング方法 - 特許庁 - Only HF is used as an etching gas.
エッチングガスとしてHFのみが使用される。 - 特許庁 - The etching allowance is 1-100 μm.
エッチングしろが１〜１００μｍである。 - 特許庁 - ETCHING METHOD, VIBRATOR AND ELECTRONIC EQUIPMENT
エッチング方法、振動子および電子機器 - 特許庁 - PLASMA ETCHING METHOD AND DEVICE
プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 - 特許庁 - PLASMA ETCHING DEVICE AND METHOD
プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法 - 特許庁 - PLASMA ETCHING DEVICE AND METHOD
プラズマエッチング装置およびエッチングの方法 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR DRY ETCHING
ドライエッチング方法及びドライエッチング装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD, ETCHING MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE EMPLOYING THE SAME
エッチング方法、エッチングマスクおよびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
- Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
- 本サービスで使用している「Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス」はWikipediaの日本語文を独立行政法人情報通信研究機構が英訳したものを、Creative Comons Attribution-Share-Alike License 3.0による利用許諾のもと使用しております。詳細はhttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/ および http://alaginrc.nict.go.jp/WikiCorpus/ をご覧下さい。
