「etching」を含む例文一覧(19972)
＜前へ 1 2 .... 42 43 44 45 46 47 48 49 50 .... 399 400 次へ＞- Then, a trench is formed in the substrate 10 by etching.
次に基板中にエッチングによってトレンチを形成する。 - 特許庁 - COMPOSITE BODY FOR DRY ETCHING, METHOD FOR FORMING DRY ETCHING PRODUCT, AND METHOD FOR PRODUCING NOZZLE PLATE FOR LIQUID DISCHARGE HEAD
ドライエッチング用複合体、ドライエッチング製品の形成方法及び液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法 - 特許庁 - PLASMA ETCHING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR PHOTONIC CRYSTAL
プラズマエッチング方法及びフォトニック結晶製造方法 - 特許庁 - A part of a sputtered layer 21 is eliminated by etching.
次に、エッチングにより、スパッタ層２１の一部を除去する。 - 特許庁 - ETCHING APPARATUS WITH SHOWER PLATE INCORPORATED WITH POROUS CERAMICS
ポーラスセラミックスを組み込んだシャワープレートを持つエッチング装置 - 特許庁 - DRY ETCHING METHOD, FABRICATING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER
ドライエッチング方法、及び半導体基体の作製方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND INSPECTION METHOD OF SILICON WAFER
シリコンウェーハのエッチング方法およびシリコンウェーハの検査方法 - 特許庁 - SUBSTRATE HOLDER AND DRY ETCHING APPARATUS EQUIPPED WITH THIS SUBSTRATE HOLDER
基板ホルダ及び該基板ホルダを備えたドライエッチング装置 - 特許庁 - DRY ETCHING APPARATUS AND BULKHEAD COVER PART USED THEREIN
ドライエッチング装置及びそれに使用される隔壁カバー部 - 特許庁 - The etching liquid injection opening 72B is made and anisotropic etching liquid is injected thus forming a thermal isolation space 4B.
エッチング液注入口７２Ｂを形成し異方性エッチング液を注入して、熱分離空間４Ｂを形成する。 - 特許庁 - To provide an etching processor which can simplify maintenance operations to enhance the efficiency of an etching process.
保守作業を簡易化してエッチング処理の効率を向上させることが可能なエッチング処理装置を提供する。 - 特許庁 - To relatively easily form a fine pattern in etching.
エッチングにおけるパターンの微細化を比較的容易に図る。 - 特許庁 - ETCHING TREATMENT EQUIPMENT OF SUBSTRATE FOR PRINTED WIRING BOARD AND ETCHING TREATMENT METHOD USING THE EQUIPMENT
プリント配線板用基板のエッチング処理装置とその装置を用いたプリント配線板用基板のエッチング処理方法 - 特許庁 - An etching pattern 2a is formed from the lower layer film by etching the lower layer film 2 using the intermediate layer patterns as a mask.
中間層パターンをマスクとして下層膜２をエッチングし、下層膜からエッチングパターン２ａを形成する。 - 特許庁 - To perform minute etching at high etching rate.
エッチングレートが高く、しかも微細なエッチング加工が可能な局所エッチング装置及び局所エッチング方法を提供する。 - 特許庁 - Alternatively, peeling is performed while the etching gas is blown to the peeling layer in the atmosphere of the etching gas for the peeling layer.
或いは、剥離層のエッチングガス雰囲気において、剥離層にエッチングガスを吹きつけながら、剥離を行う。 - 特許庁 - MULTISTAGE LOCAL DRY ETCHING METHOD FOR SOI (SILICON ON INSULATOR) WAFER
ＳＯＩウェハーのための多段局所ドライエッチング方法 - 特許庁 - To provide a metallic pattern forming method capable of suppressing both the side etching and the over-etching.
サイドエッチングおよびオーバーエッチングの双方を抑制することができる金属パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR DRY ETCHING FERROELECTRIC SUBSTANCE CAPACITOR STRUCTURAL BODY
強誘電体キャパシタ構造体の乾式蝕刻方法 - 特許庁 - A photochemical etching silicon 1 produced by a photochemical etching method has characteristics of maintaining the polarized state of light.
フォトケミカルエッチング法で作成したフォトケミカルエッチングシリコン１は、光の偏光状態を保存するという特性を持つ。 - 特許庁 - To provide an apparatus and method for etching a substrate.
基板をエッチングする装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING METALLIC THIN PLATE AND ETCHED ARTICLE
金属薄板のエッチング加工方法及びエッチング加工品 - 特許庁 - To realize a selective etching of a heat oxide film/(PSG film, TEOS oxide film) which improves the etching shape.
エッチング形状の改善を図れる熱酸化膜／（ＰＳＧ膜、ＴＥＯＳ酸化膜）の選択エッチングを実現すること。 - 特許庁 - Pt/PGO ETCHING PROCESS FOR USE IN FeRAM
ＦｅＲＡＭ用途のためのＰｔ／ＰＧＯエッチングプロセス - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR TREATMENT OF ETCHING WASTE GAS
エッチング排ガス処理装置及びエッチング排ガス処理方法 - 特許庁 - To provide an etching technique of a wiring film of a transistor, capable of preventing undercut in etching a copper laminate film.
銅積層膜をエッチングする際のアンダーカットを防止するトランジスタの配線膜エッチング技術を提供する。 - 特許庁 - After etching, the photoresist material is removed by a solvent.
エッチング後、フォトレジスト材料を溶媒により除去する。 - 特許庁 - An etching liquid 24 is added to the dielectric layers 14, 16.
エッチング液２４を誘電体層１４、１６に加える。 - 特許庁 - The body to be treated is etched by applying light to the etching liquid and chemically activating the etching liquid.
エッチング液に光を照射し当該エッチング液を化学的に活性化させることで被処理体がエッチングされる。 - 特許庁 - To remove a high dielectric constant film, especially, HfO_2 without any etching residue when carrying out etching by using HF water solution.
高誘電率膜、特にＨｆＯ_２を、ＨＦ水溶液を用いたエッチングの際にエッチング残渣なく除去する。 - 特許庁 - MULTIPLE FREQUENCY PLASMA ETCHING REACTION APPARATUS AND METHOD
多重周波数プラズマ・エッチング反応装置及び方法 - 特許庁 - TREATMENT PROCESSING OF THERMAL INK JET PRINT HEAD BY SILICON ETCHING
シリコンエッチングによるサーマルインクジェットプリントヘッドの処理加工 - 特許庁 - In order to raise accuracy of the dimension of the beam by vertical etching, a guiding hole for etching is opened by a laser or the like.
また垂直エッチによりハリ寸法の精度を上げるため、レーザー等によるエッチング先導孔を開ける。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF METAL ETCHING PRODUCT WITH INSULATING TREATMENT APPLIED AND METAL ETCHING PRODUCT WITH INSULATING TREATMENT APPLIED
絶縁処理を施した金属エッチング製品の製造方法および絶縁処理を施した金属エッチング製品 - 特許庁 - To enhance the etching uniformity over a wafer surface by preventing drifting of plasma ions through utilization of magnetic coil blocks in a magnetron plasma etching apparatus.
マグネチックコイルブロックを利用してプラズマイオンのドリフティングを防止してウエハー面内均一性を向上する。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PLASMA ETCHING DEVICE
半導体装置の製造方法およびプラズマエッチング装置 - 特許庁 - In etching in the case of forming a contact hole, the etching is performed while leaving an upper layer metal film of a wiring pattern.
コンタクトホール形成の際のエッチングにおいて、配線パターンの上層金属膜を残したままエッチングをする。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR DRY ETCHING OF SOI SUBSTRATE
ＳＯＩ基板のドライエッチング方法およびドライエッチング装置 - 特許庁 - The etching of the guard bands may be easily incorporated during the etching of the integrated circuit patterns of a manufacturing protocol.
ガード・バンドのエッチングは、製造プロトコルの集積回路パターンのエッチング中に容易に組み込むことができる。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND ETCHING DEVICE
半導体装置を製造する方法及びエッチング装置 - 特許庁 - POST-ETCHING CLEANING METHOD FOR POROUS LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL
多孔質低誘電率材料のエッチング後のクリーニング法 - 特許庁 - Fe-Ni-BASED ALLOY SHEET SUPERIOR IN PERFORATION PROPERTY BY ETCHING
エッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金板 - 特許庁 - TAPE FOR JOINING BOARD AND ETCHING METHOD USING THE TAPE
基板接続用テープおよびそれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR IMPROVING UNIFORMITY OF ETCHING RATE
エッチング速度の均一性を改善する装置及び方法 - 特許庁 - SURFACE TREATMENT METHOD FOR ALUMINUM WHEEL AND ALKALI ETCHING LIQUID
アルミホイールの表面処理方法及びアルカリエッチング液 - 特許庁 - To provide an etching solution for removing molybdenum residues from a copper molybdenum film and an etching method therefore.
本発明は銅モリブデン膜でモリブデンの残渣を除去するエッチング溶液及びそのエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING CHROMIUM FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK
クロム膜のエッチング方法、及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - ELECTRODE FOR ELECTROLYTIC ETCHING, ELECTROLYTIC ETCHING METHOD, PRODUCTION METHOD FOR PHOTOVOLATIC ELEMENT AND PRODUCTION METHOD FOR THE ELECTRODE
電解エッチング用電極、電解エッチング方法、光起電力素子の製造方法及び電極の製造方法 - 特許庁 - The organic film is subjected to selective anisotropic etching by using a mixed gas of nitrogen and CxHy as an etching gas.
エッチングガスとして窒素とＣｘＨｙとの混合ガスを用い、有機膜を選択的に異方性エッチングする。 - 特許庁 - To realize a plasma etching device for photomask excellent in controllability of in-plane etching speed of a photomask substrate.
フォトマスク基板の面内のエッチング速度の制御性に優れたフォトマスク用プラズマエッチング装置を実現すること。 - 特許庁
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