「pattern space」を含む例文一覧(761)

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  • d Delete pattern space.
    dパターンスペースを削除する。 - JM
  • h H Copy/append pattern space to hold space.
    h Hパターンスペースをホールドスペースにコピー/追加する。 - JM
  • g G Copy/append hold space to pattern space.
    g Gホールドスペースをパターンスペースにコピー/追加する。 - JM
  • METHOD FOR MANUFACTURING LINE/SPACE PATTERN
    ライン／スペースパターンの製造方法 - 特許庁
  • w filename Write the current pattern space to filename .
    w\\ filename現在のパターンスペースをfilenameに書く。 - JM
  • The relationship between the pattern space (H: mm) of the electric wiring or electrodes and the voltage difference (Vh: V) meets a formula: 0.05 Vh+19>H>0.0016 Vh+0.01.
    式：０．０５Ｖｈ＋１９＞Ｈ＞０．００１６Ｖｈ＋０．０１ - 特許庁
  • p Print the current pattern space.
    p現在のパターンスペースを出力する。 - JM
  • The dense line pattern 11a, 11b is a pattern whose pattern to space ratio does not exceed 1/3 and the isolated line pattern 11c is a pattern whose pattern to space ratio exceeds 1/3.
    また、密集ラインパターン１１ａ，１１ｂがパターン／スペースの比が１／３を越えないパターンであり、孤立ラインパターン１１ｃがパターン／スペースの比が１／３を越えるパターンである。 - 特許庁
  • s/ regexp / replacement / Attempt to match regexp against the pattern space.
    s/ regexp / replacement /パターンスペースに対してregexpのマッチを試みる。 - JM
  • The pattern of this shape living in eightdimensional charge space
    8次元チャージ空間に存在するこのパターンは - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • To miniaturize an isolated space pattern and an isolated line pattern or a dense pattern at a time.
    孤立スペースパターンと孤立ラインパターン又は密集パターンとを同時に微細化できるようにする。 - 特許庁
  • To simultaneously micronize an isolated space pattern and an isolated line pattern or a dense pattern.
    孤立スペースパターンと孤立ラインパターン又は密集パターンとを同時に微細化できるようにする。 - 特許庁
  • D Delete up to the first embedded newline in the pattern space.
    Dパターンスペースの最初の改行までを削除する。 - JM
  • The driving pattern arrangement part 103 arranges a driving pattern to a space based on the driving pattern information.
    運転パターン配置部１０３は、運転パターン情報に基づいて空間に運転パターンを配置する。 - 特許庁
  • A space pattern memory 233 memorizes the space pattern Ps including a plurality of element values each corresponding to pixels.
    空間パターンメモリ２３３は、各々が画素に対応する複数の要素値を含む空間パターンＰsを記憶する。 - 特許庁
  • This first wiring pattern 5 is roughly wired with wide pattern space.
    この第１の配線パターン５は、パターン間隔を広く取って、粗く配線されている。 - 特許庁
  • First, an isolated mark pattern and an isolated space pattern are recorded in a prescribed region.
    まず、媒体の所定の領域に孤立マークパターンと孤立スペースパターンを記録する。 - 特許庁
  • The relationship of the dictionary images is positional relationship on a characteristic space used for pattern identification or a positional relationship on a projection space on which the characteristic amount used for pattern identification is projected.
    もしくは、パターンの識別に用いる特徴量を射影した射影空間上での位置関係である。 - 特許庁
  • Also, the space between the signal-line pattern 13 and the guard pattern 22 adjacent thereto may be narrowed more than the width of each guard pattern.
    また、隣接する信号線パターン１３とのガードパターン２２との間隔を該ガードパターンより狭くしてもよい。 - 特許庁
  • The space pattern 2S of the second alignment mark 2 is a reversal pattern of the line pattern 1L of the first alignment mark 1.
    第２アライメントマーク２のスペースパターン２Ｓは、第１アライメントマーク１のラインパターン１Ｌの反転パターンとなっている。 - 特許庁
  • To provide a method of forming a resist pattern, by which an isolated space pattern or hole pattern can be formed with high resolution.
    孤立スペースパターンやホールパターンを高い解像性で形成できるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • In this second wiring pattern 17, the pattern space is narrowed, and is wired finely.
    この第２の配線パターン１７は、パターンの間隔が狭く取られ、細かく配線されている。 - 特許庁
  • A pattern 401 and a pattern 402 being the same gray scale pattern are arranged on a space 400 so as to be point-symmetrical to a central point 403 on the space.
    紙面４００上に同一の階調パターンであるパターン４０１とパターン４０２を紙面の中心点４０３に対して点対称に配置する。 - 特許庁
  • TIME SPACE PATTERN DETECTION METHOD/DEVICE AND RECORDING MEDIUM
    時空間パターン検出方法及び装置ならびに記録媒体 - 特許庁
  • Space and width of the inspection image pattern are changed as necessary.
    必要に応じて、検査画像パターンの間隔や幅を変更する。 - 特許庁
  • n N Read/append the next line of input into the pattern space.
    n N入力の次の行をパターンスペースに読み込む/追加する。 - JM
  • P Print up to the first embedded newline of the current pattern space.
    P現在のパターンスペースの最初の改行までを出力する。 - JM
  • To provide a pattern measurement device and a pattern measurement method that easily discriminate between a line pattern and a space pattern without being affected by luminance of a pattern.
    パターンの輝度の影響を受けることなく、ラインパターンとスペースパターンを容易に識別することのできるパターン測定装置及びパターン測定方法を提供すること。 - 特許庁
  • We illustrate the theory by a three-class problem, where the pattern space is the two-dimensional Euclidean space.
    我々は,この理論を,パターン空間が2次元のユークリッド空間である3クラス問題で例証する． - コンピューター用語辞典
  • A cell culture space is formed by the uneven pattern of the uneven pattern region 302.
    凹凸パターン領域３０２において、凹凸パターンによって、細胞培養空間が形成されている。 - 特許庁
  • The resist pattern measuring method measures the true resist pattern with a shrinkage taken into consideration, after determining correctly the line pattern/space pattern, based on the shrinkage amount.
    このシュリンク量により、レジストパターンのＬｉｎｅ／Ｓｐａｃｅを正しく判別した上でシュリンクを考慮した真の寸法を測定することが可能となる。 - 特許庁
  • Between a land 3 and a wiring pattern 4, a space 5 is formed.
    ランド３と配線パターン４との間に、空隙部５を形成する。 - 特許庁
  • MEASURING METHOD FOR LINE-AND-SPACE PATTERN USING SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
    走査電子顕微鏡を用いたライン・アンド・スペースパターンの測定方法 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method without causing a misregistration of a pair space pattern in a trench gate forming.
    トレンチゲート形成において、ペアスペースパターンの位置ずれの生じないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • A corrected pattern adding position deciding part 3 reads a wiring pattern and a contact pattern from a wiring pattern storage device 2 and decides a correcting pattern adding position, and a pattern correction processing part 4 processes a wiring pattern in a predetermined range into a wiring pattern subjected to space generation in each decided correcting pattern adding position, and decides a space by using the subject wiring pattern.
    補正図形付加場所決定部３で配線図形記憶装置２から配線図形及びコンタクト図形を読み込んで補正図形付加場所を決定し、決定された補正図形付加場所毎に図形補正処理部４で所定の範囲内の配線図形を間隔発生対象の配線図形とし、その対象とされる配線図形を用いて間隔を決定する。 - 特許庁
  • The entire sections of reciprocal space can be visualized in a diffraction pattern.
    逆空間の断面全体は、電子回折図形の中で視覚化される。 - 科学技術論文動詞集
  • By employing a line pattern and a space pattern as the resist pattern for measuring a focus value, the direction of the focus deviation can also be found.
    フォーカス測定用レジストパターンとして、ラインパターンとスペースパターンとを採用することにより、フォーカスずれの方向も求めることができる。 - 特許庁
  • Two kinds; a line pattern and a space pattern formed by a negative-to-positive reversal thereof are used as a dimensional inspection pattern to be used in a wafer process.
    ウェハプロセスで用いる寸法検査パタンとして、ラインパタンとこれをネガポジ反転したスペースパタンの２種類を用いるようにする。 - 特許庁
  • A pattern 44, with which the fine space part is inverted, is provided by extracting a pattern narrower than a width L th2 (0.2 μm, for example), out of this pattern (d).
    この中から幅Ｌｔｈ２（例えば０．２μｍ）以下のパターンを抽出して微細スペース部を反転したパターン４４を得る（ｄ）。 - 特許庁
  • Within such a pattern space 62, the magnetoresistance effect film is laminated and formed.
    このパターン空間６２内で磁気抵抗効果膜は積層形成される。 - 特許庁
  • The line-and- space pattern P which constitutes the slit 3 is formed in stripes.
    スリット３を構成するラインアンドスペースパターンＰは縞模様に形成している。 - 特許庁
  • The optical space modulation section flexibly changes the color pattern of an irradiation light by space modulation of the spectrum light.
    光空間変調部は、スペクトル光の空間変調により、照明光の色パターンを柔軟に変更する。 - 特許庁
  • This linear pattern layout method designs the linear pattern of each pattern area edge such that it is arranged, with a second space, parallel to the linear pattern of an adjacent pattern area edge, and that the linear pattern of each pattern area edge has an expanded overhang at its edge part.
    このライン型パターンのレイアウト方法は各パターン領域エッジのラインパターンは隣り合うパターン領域エッジのラインパターンと第２間隔を置いて平行に配置し、各パターン領域エッジのラインパターンはその端部に拡張されたオーバーハングを有するようにデザインする。 - 特許庁
  • An azimuth detector 2 sweeps light of a two-dimensional pattern in a predetermined space.
    方位検出器２は、２次元パターンの光を所定の空間内で掃引する。 - 特許庁
  • For example, a servo pattern 2, a guard space 4, a data burst 3, the guard space 4, the servo pattern 2, the guard space 4, the data burst 3, ... are arranged on a plurality of data bands b0 to b3 provided in a width direction of the magnetic tape 1.
    磁気テープ１の幅方向に複数設けられるデータバンドｂ０〜ｂ３上に、サーボパターン２、ガードスペース４、データバースト３、ガードスペース４、サーボパターン２、ガードスペース４、データバースト３、・・・のように配置されている。 - 特許庁
  • If the pattern in the die is, for example, a line-and-space pattern, both of end lines of a flat and long face in a projecting part act as boundaries of the pattern.
    型のパターンが例えばラインアンドスペースであれば、凸部の細長く延在する平坦な面における両端の線が、パターンの境界部となる。 - 特許庁
  • A patch antenna includes: a thin plate like ground pattern 20 and a thin plate like patch pattern 10 supported so as to have a predetermined space from the ground pattern 20.
    パッチアンテナは、薄板状のグランドパターン２０と、グランドパターン２０に対して所定の間隔をもって支持された薄板状のパッチパターン１０とを備える。 - 特許庁
  • A new three-dimensional Bayer pattern is generated in which a partial pattern of the three-dimensional Bayer pattern is rotated by 180 degrees, and space-time dithering is performed using this pattern, thereby suppressing variations in brightness.
    ３次元ベイヤパターンの一部パターンを１８０度回転させた新たな３次元ベイヤパターンを生成し、このパターンを用いて時空間ディザを行うため、輝度ばらつきを抑制できる。 - 特許庁
  • The arrangement pattern derivation part derives the positional information as an arrangement pattern based on the indoor unit information and the space information.
    配置パターン導出部は、室内機情報と空間情報とに基づいて位置情報を配置パターンとして導出する。 - 特許庁
  • To provide an exposure device capable of reducing the space between a pattern for TEG which belongs to a reticle, and to provide a pattern for chip.
    レチクルが有するＴＥＧ用パターンとチップ用パターンの間隔を小さくすることができる露光装置を提供する。 - 特許庁
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