「pattern space」を含む例文一覧(760)

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  • An ADRC circuit 27 detects the pattern of level distribution of SD data and forms a space class.
    ＡＤＲＣ回路２７では、ＳＤデータのレベル分布のパターンが検出され、空間クラスが形成される。 - 特許庁
  • Start next cycle, but skip reading from the input if there is still data in the pattern space.
    次のサイクルを開始するが、パターンスペースにまだデータが残っていたら、入力からの読み込みをスキップする。 - JM
  • In each unit registration pattern, space between the other registration mark and the registration mark 120K is detected.
    各単位レジストパターンの各々において、レジストマーク１２０Ｋに対する他のレジストマークの間隔を検出する。 - 特許庁
  • At supplying of the adhesive, the same adhesive for die bonding is also supplied to the empty space of the pattern 3 for soldering.
    また、このときに、半田付け用パターン３間にも同じダイボンディング用接着剤を供給する。 - 特許庁
  • The space dot pattern may include two beam dot arrangements using two one-dimensional diffraction optical elements.
    空間ビームドットパターンは二つの一次元回折光学素子を用いて、二つのビームドット配列をも含み得る。 - 特許庁
  • The space light modulator 3 electrically controls the position and the modulation pattern of the reference light RL.
    空間光変調器３は、参照光ＲＬの位置および変調パターンを電気的に制御する。 - 特許庁
  • An oblique wiring verification part 30 verifies the space between the oblique wiring patterns fused by the first pattern fusing part 28 with an allowable minimum space value S.
    斜め配線検証部３０は、第１図形融合部２８で融合された斜め配線図形同士の間隔を許容最小間隔値Ｓにより検証する。 - 特許庁
  • For example, the signal pattern is recorded only by marks 9T to 11T like 9T (a mark), 4T (a space), 10T (a mark), 4T (a space), 11T (a mark),....
    例えば、信号パターンを９Ｔ（マーク）、４Ｔ（スペース）、１０Ｔ（マーク）、４Ｔ（スペース）、１１Ｔ（マーク）、・・・のように９Ｔ〜１１Ｔへのマークのみで記録する。 - 特許庁
  • Therefore, even if three-dimensional space images change in a display pattern, the player's character is moved continuously in the same direction within the three- dimensional space.
    したがって、三次元空間画像の表示形態が変化しても、プレイヤキャラクタは当該三次元空間内において引き続き同一方向に移動する。 - 特許庁
  • The peripheral region of the coil conductor pattern 7 that is a dead space is utilized for forming the subcapacitor conductor pattern 15, 16, thus preventing the upsizing.
    デッドスペースであったコイル導体パターン７の周囲領域を利用してサブのコンデンサ導体パターン１５，１６を形成することで大型化を防止できる。 - 特許庁
  • At this time, the solution 3a is applied so as to coat the pattern 2a and fill a space (part where the pattern 2a is not formed).
    その際、金属配線パターン２aを被覆すると共にスペース部分（金属配線パターン２aが形成されていない部分）に充填せしめるように塗布する。 - 特許庁
  • The mean value of the luminance data of each pattern 401 and pattern 402 obtained by reading the space 400 by a reading means is calculated.
    紙面４００上を読み取り手段により読み取ることで得られたパターン４０１とパターン４０２のそれぞれについての輝度データの平均値を求める。 - 特許庁
  • The predetermined pattern is a pattern not causing a space in the water repellent area 11 extending in the diaper longitudinal direction and piercing the water repellent area 11.
    該所定のパターンは、撥水性領域１１内に、おむつ長手方向へ延び且つ該撥水性領域１１を貫ぬく間隙が生じないようなパターンとする。 - 特許庁
  • To increase resolution in a pattern even in an end portion of a line-and-space pattern, and to suppress decrease in a lithographic margin or increase in a CAD processing time.
    ライン＆スペースのパターンの端部においてもパターンの解像性を高めることができ、且つリソグラフィマージンの低下やＣＡＤ処理時間の増大を抑制する。 - 特許庁
  • Thereafter, adhesive layers 4 are formed by curing the adhesive on the pattern 2 and in the empty space of the pattern 3 by having the adhesive irradiated with ultraviolet rays.
    その後、チップ用パターン２上の接着剤及び半田付け用パターン間の接着剤を紫外線照射により硬化して接着剤層４を形成する。 - 特許庁
  • The mesh pattern M is formed so that the average strength P_H on a space frequency zone side, in which the space frequency is higher than a predetermined space frequency BF, is larger than the average strength P_L on a space frequency zone side, in which the space frequency is lower than the predetermined space frequency BF, relative to the center of gravity spectrum Spcc of each mesh.
    各メッシュの重心スペクトルＳｐｃｃに関して、所定の空間周波数ＢＦよりも高い空間周波数帯域側における平均強度Ｐ_Hが、所定の空間周波数ＢＦよりも低い空間周波数帯域側における平均強度Ｐ_Lよりも大きくなるように、メッシュパターンＭが形成されている。 - 特許庁
  • The capacitance type touch panel is configured of a first electrode pattern (66) for contact sensation and a second electrode pattern (36) for contact sensation which cross in plan view and a dummy pattern (56) by which a space surrounded by the first electrode pattern and the second electrode pattern is embedded, and each pattern has a mesh structure of almost fixed pitches (Px, Py).
    平面視で交差する接触感知用の第１電極パターン(66)及び接触感知用の第２電極パターン(36)、並びに、第１電極パターンと第２電極パターンとで囲まれた空間を埋めるダミーパターン(56)で構成され、これら各パターンは、いずれも略一定のピッチ(Px,Py)のメッシュ構造を有している。 - 特許庁
  • A triple-seal structure of the protection wall pattern 5, seal pattern 3, and sealing pattern 6 is formed at the outer peripheral part of the couple of stuck substrates, so even if the seal pattern 3 and sealing pattern 6 have defects, the etchant is stopped by the protection wall pattern 5 from entering a space between the couple of stuck substrates.
    貼り合わせた一対の基板の外周部分に保護壁パターン５、シールパターン３および封止パターン６の三重シール構造が形成されているため、シールパターン３や封止パターン６に欠陥があっても、保護壁パターン５によって貼り合わせた一対の基板間へのエッチング液侵入が阻止される。 - 特許庁
  • A specific pattern 74 is stereoscopically displayed at least temporarily on the pattern display device, and such a pattern fluctuation is displayed that the specific pattern 74 and its background 80 are changed as time elapses as though the view point in the virtual space seeing the specific pattern 74 is moved.
    図柄表示装置には、少なくとも一時的に特定図柄７４が立体的に表示されるとともに、該特定図柄７４を見る仮想空間内における視点が移動しているように該特定図柄７４及びその背景８０が経時的に変化する図柄変動が表示される。 - 特許庁
  • The resist is exposed/developed using an evaluation mask pattern arranged opposedly to a line and space pattern with pitches different each other, and the line end retreat amount of the pattern is found using an overlapping inspection device.
    互いにピッチの異なるラインアンドスペースパターンが対向して配置される評価用マスクパターンを用いてレジストの露光／現像をし、重ね合わせ検査装置を利用してパターンのライン端後退量を求める。 - 特許庁
  • A buttonhole cam 18 is not provided on a pattern camshaft 21 provided with a needle swing cam group 22 but is arranged in a free space on a pattern choice cam shaft 12 which has a small pattern choice cam 13.
    ボタンホールカム１８は、針振りカム群２２を設けた模様カム軸２１上に設けるのではなく、小型の模様選択カム１３を設けた模様選択カム軸１２上の空きスペースに配設されている。 - 特許庁
  • An inspection pattern 400 is arranged in, for example, the pattern transfer area 110, other than the pattern massed area 112, which has no problem regarding device characteristics and design and its space can be secured.
    検査パターン４００は，デバイス特性および設計上問題がなく，また検査パターン４００のスペースが確保できる，例えばパターン密集領域１１２以外のパターン転写領域１１０に配置する。 - 特許庁
  • The protective system is in contact with the mask at the location other than the pattern surface, and is connected to a holder 110 to have a space SP between the pattern surface and itself via the contact, and has a cover 120 for protecting the pattern surface.
    保護機構はパターン面以外でマスクと接触し、接触部を介してパターン面との間で空間ＳＰを有するように保持部１１０と接続し、パターン面を保護するカバー部１２０を有する。 - 特許庁
  • A lower limit of an interval between the auxiliary pattern 13 and the isolated line pattern 11c corresponds to a minimum space of a design rule and an upper limit is three times the width of the isolated line pattern 11c.
    また、上記補助パターン１３と上記孤立ラインパターン１１ｃとの間隔は、その下限がデザインルールの最小スペース分であり、その上限が該孤立ラインパターン１１ｃの幅の３倍である。 - 特許庁
  • Accordingly a free space is effectively utilized because the pattern electrode 21 at the tip of cable 16 is arranged at the free space of the stage part 14, and a width of control panel can be made narrower by a width share of pattern electrode 21.
    したがって段部１４の空きスペースにケーブル１６の先端のパターン電極２１を配したので、空きスペースが有効に活用され、パターン電極２１の巾分だけコントロールパネルの巾を狭くすることができる。 - 特許庁
  • A Nyquist space frequency ladder pattern is read at an initial image forming position in a main scanning direction is read in a 1st scanning, the optical flat glass plate 4 is tilted in a 2nd scanning to read the same Nyquist space frequency ladder pattern.
    第１の走査で主走査方向のイニシャル結像位置でのナイキスト空間周波数ラダーパターンを読み込み、第２の走査で光学平板ガラス４を傾けて、同じナイキスト空間周波数ラダーパターンを読み込む。 - 特許庁
  • Further, a component space measurement means 16 calculates a clearance for the insertion component set, and a component space tolerance selection means 15 selects a component space tolerance from a component space tolerance table 14, according to the layout pattern index value.
    さらに部品間隔測定手段１６が挿入部品組みについてクリアランスを算出し、部品間隔許容値選択手段１５が、部品間隔許容値テーブル１４から配置パターン指標値に応じて部品間隔許容値を選択する。 - 特許庁
  • To provide conveying equipment for casting mold which enables the initial cost of a surface plate truck traverser and a lifter or the like to be reduced, and can effectively use a space on a counter-molding machine side as a core placement space by separating a pattern placement space (a setup space) on a molding machine side.
    定盤台車トラバーサやリフタなどのイニシャルコストを低減するとともに、造型機側での模型置き場（段取り場）と分離し、反造型機側のスペースを中子置き場として有効活用することができる鋳型搬送設備を提供する。 - 特許庁
  • An additional item excluded from the first item space is added to any first closed pattern to generate an additional pattern, and a set of transactions including the entire additional pattern is compared with a set of transactions including the entire first closed pattern.
    そして、何れかの第１閉パターンに、第１アイテム空間に含まれていない追加アイテムを追加して追加パターンを生成し、追加パターン全体を含むトランザクションの集合と、何れかの第１閉パターン全体を含むトランザクションの集合とを比較する。 - 特許庁
  • To provide a method for realizing a fine pattern between a wire/space using a high resolution photosensitive material.
    高解像度感光材料を用いて配線／空間の間に微細パターンを具現する方法を提供する。 - 特許庁
  • To accurately transfer a pattern having a line of minute dimensions which exceed the resolution of a projection aligner or space.
    露光装置の解像度を上回る微細な寸法のラインまたはスペースを有するパターンを高精度に転写する。 - 特許庁
  • The sales proceeds depositing machine is comprised of charge storages sectioned for each money exchange pattern installed at a lower cabinet space.
    売上金入金機の下段の保管庫スペースに両替パターン別に区切られた両替金保管庫を設ける。 - 特許庁
  • The light distribution which is a brightness distribution in directions within a space caused by the reflection depends on a pattern form.
    この反射による空間内の各方向への光度分布である配光はパターンの形状に依存する。 - 特許庁
  • To extract a fine space part between proximate large area patterns at high speed and to highly accurately form a pattern.
    近接した大面積パターン間の微細スペース部を高速に抽出すると共に、高精度にパターンを形成する。 - 特許庁
  • To form a line-and-space pattern having a fine pitch smaller than the resolution limit of exposure technology.
    露光技術の解像度の限界よりも微細なピッチを有するラインアンドスペースパターンを形成可能なようにする。 - 特許庁
  • A pattern by arranging square pieces of gold leaf so that a same-sized square space is generated between adjacent square pieces of gold leaf.
    正方形の截箔を素地の部分も同じ大きさの正方形になるように互い違いに施した文様 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A pattern masking device 39 switches patterns for space coding synchronized with the light emission of light source 38.
    このストロボ光源３８の発光に同期して、パターンマスク装置３９は空間コード化のためのパターンを切り替える。 - 特許庁
  • To accurately transfer a pattern having lines of minute dimensions which exceed the resolution of a projection aligner or a space.
    露光装置の解像度を上回る微細な寸法のラインまたはスペースを有するパターンを高精度に転写する。 - 特許庁
  • A scaling parameter is prepared as a parameter for determining a pattern generation space to be cut, and a plurality of cross-sections whose width is different on a pattern generation space are acquired by using the scaling parameter, and the density patterns of cloud to be acquired from the respective cross-sections are combined, so that one composite pattern can be searched.
    パターン生成空間のどこを切り取るかを決めるパラメータとしてスケーリングパラメータが用意されており、スケーリングパラメータを利用してパターン生成空間上での広さが異なる複数の断面を取得して、各断面から得られる雲の濃さパターンを合成して１の合成パターンを求めている。 - 特許庁
  • To provide a parking frame partition space provided with a pattern, which performs a parking guide for an automobile to a parking frame partition line space by appealing to a human sensitivity of a user of a parking and by physical vibration.
    駐車場の利用者の感性に訴えて、また、物理的な振動によって、駐車枠区画線スペースに、自動車の駐車誘導を可能にする。 - 特許庁
  • To provide a solid-state image pickup apparatus for neatly forming an operation check land at a position where a dead space has been before so as to enhance a space efficiency of the entire circuit pattern and facilitating checking.
    動作チェック用ランドを従来デッドスペースであった位置に整然と形成し、回路パターン全体のスペース効率を向上しかつチェック作業の容易化を図る。 - 特許庁
  • An example includes a system and a method provided with a correlation prevention space-time dither pattern which displays high-pass properties in a space region and time region.
    本発明の実施例は空間領域および時間領域においてハイパス特性を呈する、相関化防止空間−時間ディザーパターンを備えるシステムおよび方法を含む。 - 特許庁
  • A gray scale image is rendered for a color component in the RGB color space or another color space and through the process of pattern recognition, the inspection object is detected.
    ＲＧＢ色空間の色成分または他の色空間の色成分のグレースケール画像を作成し、パターン認識の手法によって検査対象物を検出する。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a resist pattern with which a space or a hole pattern finer than an optical image can be formed, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.
    光学像よりも微細なスペースあるいはホールパターンを形成することができるレジストパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • In the pattern magnetic recording medium, the boundary layer is provided in a lattice pattern shape in the front view so that a space is not produced between the magnetic poles adjacent to each other.
    このパターン磁気記録媒体では、境界層は、隣接する磁性柱の間に空間が生じないように、上面視において格子模様状に設けられている。 - 特許庁
  • Since the line-and-space pattern P is a periodical pattern, it has high visibility for visual check with an optical microscope, and the region for inspection of defects can be defined.
    さらに、ラインアンドスペースパターンＰは、周期パターンであるため、光学顕微鏡を使って目視した場合に視認性が高く、欠陥検査領域を明確にすることができる。 - 特許庁
  • The space is divided into a designated number, and an image pickup pattern representing to which dividing position the dot is assigned is created by an image pickup pattern creating processing part 32.
    また、この空間は、所定個数に分割されており、どの分割位置に点が割り当てられたかを示す撮像パターンが撮像パターン作成処理部３２によって作成される。 - 特許庁
  • To provide a device and method for providing a pattern for calibration, which reduces a space occupied when a pattern for calibration is imaged by an imaging apparatus.
    撮像装置による校正用パターンの撮像における占有空間を縮小することができる校正用パターン提供装置、校正用パターン提供方法を提供する。 - 特許庁
  • A silicon oxide film 22 as a first film is formed on an amorphous silicon film 21 (a), and is processed into a predetermined line and space pattern to form an intermediate pattern 23 (b).
    非晶質シリコン膜２１上に第１膜のシリコン酸化膜２２を形成し（ａ）、所定のラインアンドスペースのパターンに加工して中間パターン２３を形成する（ｂ）。 - 特許庁
  • To form a pattern on a workpiece film on a substrate with a space ratio of 1:1 by accurately measuring the dimension of the pattern of a sacrificial film or the workpiece film on the substrate.
    基板上の犠牲膜又は被処理膜のパターンの寸法を正確に測定し、基板上の被処理膜にスペース比率が１：１となるパターンを形成する。 - 特許庁
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