「pattern space」を含む例文一覧(761)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 15 16 次へ＞- At first, a resist film by a line/space pattern of a vertical direction for layout of element separation is formed on an insulating film 1 to perform first etching.
絶縁膜１１に対して、まず素子分離のレイアウトに対して縦方向のライン／スペースパターンによるレジスト膜を形成し第１のエッチングを行う。 - 特許庁 - The deposition film exposed at the dead space is etched, and a photoresist film 30 remaining on a wafer 10 is removed, thus a desired pattern layer 40 is made.
死角部で露出した蒸着膜はエッチングされ、ウェーハ１０上に残留したフォトレジスト膜３０が除去され、所望のパターン層４０を形成する。 - 特許庁 - To enable a weighting process to be easily performed without holding a complicated weight pattern to each data which are acquired in a three-dimensional space.
三次元空間内において取得された各データに対して複雑な重みパターンを保有しておくことなく簡便に重み付け処理が行えるようにする。 - 特許庁 - This unit 60 inserts or deletes a space in a printed dot pattern by selectively inserting or deleting a little delay in the image stream by a laser beam.
レーザ走査装置は、レーザビームの画素データストリームに対しわずかな遅延を挿入または削除することにより、レーザ書込み周波数を調整する。 - 特許庁 - To provide a shutter unit arranged an electric circuit board having an exposure pattern for tool contact and arranged proximately to a motor in a small space.
工具コンタクト用の露出パターンを有しモータに近接した電気回路基板を、小さなスペースで配置することを可能にしたシャッタユニットを提供する。 - 特許庁 - A second resist layer 11 is formed so as to fill a space between the first resist patterns, being selectively exposed to light and developed to form a second resist pattern 12.
次に、第１のレジストパターン間を埋めるように第２のレジスト層１１を形成し、選択的に露光、現像して、第２のレジストパターン１２を形成する。 - 特許庁 - To provide a game machine by which a wasteful space inside of the machine formed between a see through window part and a pattern display part is reduced.
透視窓部と図柄表示手段との間に形成される機内部の無駄なスペースを少なくすることができる遊技機を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a game machine capable of reducing a wasteful space inside of the machine formed between a see through window part and a pattern display part.
透視窓部と図柄表示手段との間に形成される機内部の無駄なスペースを少なくすることができる遊技機を提供することにある。 - 特許庁 - To enable an operator to visually assign the desired space of an embroidery pattern in originating repeat embroidery data and to easily get through with its operation.
繰返し刺繍データを作成するにあたり、オペレータが所望の刺繍模様の間隔を視覚的に指定することを可能とし、その操作を簡単に済ませる。 - 特許庁 - To provide a land pattern which enables various kinds of semiconductor devices to be selectively mounted on the same printed board in a space-saving manner.
同一プリント基板上に複数種類の半導体デバイスを選択的にマウントすることを省スペースで実現可能とするランドパターンを提供する。 - 特許庁 - To reproduce an temporally irregular reflected sound pattern of a space an an object of sound field feeling simulation and a sound absorption characteristic and an air attenuation characteristic of a reflecting structure.
音場感を模擬する対象である空間の時間的に不規則な反射音パターンと反射構造物の吸音特性や空気減衰特性を再現する。 - 特許庁 - To efficiently form a plated film which is adequately embedded in a wiring pattern even having variations in the shape and has a flat surface, in narrow space.
配線パターン形状のばらつきに拘わらず、埋込み性が良好で、表面が平坦なめっき膜を、狭いスペースで効率よく形成できるようにする。 - 特許庁 - A bonding pattern 3 consisting of a land is formed around a bonding part on a printed board 1, and adhesive 8 is applied to a space surrounded by the land.
プリント基板１上の接着部の周囲にランドからなる接着パターン３を形成しておき、そのランドに囲まれた空間に接着剤８を塗布する。 - 特許庁 - The game controller 1230 including an acceleration sensor capable of detecting accelerations along three axial directions is moved to draw a figure pattern in a space.
３軸方向の加速度を検出可能な加速度センサを備えたゲームコントローラ１２３０で空間に図形パターンを描くようにして移動操作する。 - 特許庁 - To enable a verification with an allowable minimum space value without causing a pseudo error by protruding of an oblique wiring pattern in a via cell fusing part.
斜め配線図形のビアセル融合部分での突出により擬似エラーを発生することなく許容最小間隔値による検証を可能とする。 - 特許庁 - In other words, the adhesive spacers 12 adhere the reflecting plate 1 and the light guide plate 2 with a constant space kept in an island or linear pattern.
換言すると、接着スペーサ１２は、反射板１と導光板２とを、一定空間を保ちつつ、島状や線状などのパターンで接着している。 - 特許庁 - To provide an exterior approach designing method capable of speedily and easily selecting an exterior approach pattern corresponding to an arrangement space in a plot without any stain.
敷地内の配置スペースに見合った無理のない外構アプローチパターンを、素早く簡単に選び出すことができる外構アプローチの設計方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for easily manufacturing a small and light inductance element by saving a space without winding a wire or forming a conductive pattern on a printed wiring board.
線材を巻回したり、印刷配線基板に導電パターンを形成しなくても、省スペースで小型・軽量なインダクタンス素子を簡単に製造する。 - 特許庁 - The space light phase modulator 5 includes a plurality of pixels 5PX to which a phase difference is given based on a two dimensional data pattern of the image information IM.
空間光位相変調器５は、イメージ情報ＩＭの２次元データパターンに基づいて位相差が与えられる複数のピクセル５ＰＸを含む。 - 特許庁 - To perform ensemble learning by preferentially selecting a basis function effective for pattern recognition from among innumerable choices of the basis functions in feature amount space.
特徴量空間の無数の基底関数の選択肢の中からパターン認識に有効な基底関数を優先的に選び、アンサンブル学習を行うこと。 - 特許庁 - An image processing apparatus detects overlapped regions, by analyzing the positional relationship of the image according to the blank space, and performes pattern matching of the overlapped region.
画像処理装置は、余白に基づいて画像の位置関係を解析し、オーバラップ領域をパターンマッチングすることにより重複領域を検出する。 - 特許庁 - A plurality of exterior approach patterns are set by appropriately combining gates, approaches, and entrance porches each classified into a few types with one another, and a minimum basic dimension necessary for actual construction is determined for every exterior approach pattern, and an arrangement space in a plot is compared with the basic dimension of each exterior approach pattern to select an exterior approach pattern to fit within the arrangement space.
数種類のタイプに分類された門、アプローチ、玄関ポーチを適宜組み合わせて複数の外構アプローチパターンを設定するとともに、これら外構アプローチパターン別に実際の構築に最低限必要な基本寸法を決定し、敷地内の配置スペースと各外構アプローチパターンの基本寸法とを比較して、配置スペース内に収まる外構アプローチパターンを選び出すようにする。 - 特許庁 - When the information peculiar to the individual is inputted to an individual information input part 501, a modulation pattern of the phase of the reference light is prepared by a phase modulation pattern encoder 502 based on the information inputted from the individual information input part 501, the information of the generated modulation pattern is given to the phase space modulator at information recording and the phase space modulator is driven.
個人情報入力部５０１に対して、個人の固有の情報を入力すると、位相変調パターンエンコーダ５０２は、個人情報入力部５０１より入力された情報に基づいて、参照光の位相の変調パターンを作成し、情報の記録時に、位相空間変調器に対して、作成した変調パターンの情報を与えて、位相空間変調器を駆動する。 - 特許庁 - A pattern setting part 26 reads the control pattern of the air conditioning equipment, actually existing in the past, and a determination result in accordance with current operation environment, sets a new control pattern adequate to the current operation environment with reference thereto, and drives an air-conditioner 12 to condition air with the newly set control pattern during current temperature control of an air-conditioned space.
パターン設定部２６は、現在の運転環境に基づいて、過去に実在した空調設備の制御パターン及び判定結果を読み出し、それを参考にして現在の運転環境に適した新たな制御パターンを設定し、空調空間の今回の温度調節時に新たに設定した制御パターンでエアコン１２を駆動し空調調整を行う。 - 特許庁 - The image processing apparatus of the present invention then stores dither pattern data arrayed in the dither pattern and includes a threshold storage memory for storing a plurality of dither pattern data in memory regions for one word on a memory space and an address generating means for generating an address for reading out the dither pattern data stored in the threshold storage memory.
そして、本発明の画像処理装置は、ディザパターンに配列されるディザパターンデータを格納すると共に、メモリ空間上の１ワード分のメモリ領域に複数のディザパターンデータを格納可能な閾値格納メモリと、この閾値格納メモリに格納されたディザパターンデータを読み出すためのアドレスを生成するアドレス生成手段とを有している。 - 特許庁 - To provide a magnetic card writer capable of erasing a magnetizing pattern of a magnetic medium of the magnetic card without using an erase head and also capable of appropriately erasing the magnetizing pattern of the magnetic medium positioned in small space even if the small space is formed between magnetizing elements of a magnetic head, and to provide a magnetic card writing method.
消去ヘッドを用いることなく磁気カードの磁気媒体の磁化パターンを消去することができると共に、磁気ヘッドの磁化素子間に若干の隙間があっても、その隙間の部分にあたる磁気媒体の磁化パターンを好適に消去することのできる磁気カードライタおよび磁気カードライト方法を提供する。 - 特許庁 - This air conditioning control device 30 controlling air conditioners 10a-10i disposed in the air conditioning target space RM, and eliminating the uneven air conditioning in the air conditioning target space, includes a wind direction pattern storing area 35c, a first operation processing section 36c, and a wind direction pattern determining section 36f.
本発明に係る空調制御装置３０は、空調対象空間ＲＭに設置された空調機１０ａ−１０ｉを制御し、空調対象空間における空調ムラを解消させる空調制御装置であって、風向パターン記憶領域３５ｃと、第１運転処理部３６ｃと、風向パターン決定部３６ｆとを備える。 - 特許庁 - In the main control board, the whole space excluding the space for arraying electronic components is made to be a solid ground pattern, while an isolation line ISO for separating the solid ground pattern inside and outside of a circuit board is provided excepting a current exit part EXT adjacent to the power supply connector CN2, and all connectors are arranged outside the isolation line.
主制御基板は、電子部品の配置スペースを除く全てのスペースがベタアースとされる一方、電源コネクタＣＮ２に隣接する電流出口部ＥＸＴを除いて、ベアアースを回路基板の内外に分離する隔離ラインＩＳＯが設けられ、全てのコネクタが隔離ラインの外側に配置される。 - 特許庁 - The arrangement pattern and excitation pattern of transmitting coils D1 to D4 at least three places are so constituted that magnetic fields produced by the transmitting coils are intense enough at any position in the formed measuring space and the directions of the magnetic fields of at least two transmitting coils are not mutually subordinate at any position in the measuring space.
少なくとも３箇所の送信コイルにより磁場が形成された計測空間内のどの位置においても十分な強度をもち、かつ少なくとも二つの送信コイルの磁場の向きが計測空間内のどの位置でも互いに従属しないように、送信コイルの配置パターンと励磁パターンを構成する。 - 特許庁 - A near cluster detecting means 12 detects a cluster near an inputted retrieval pattern (q) among clusters in a multidimensional space according to clusters touching a ring generated almost at the distance between the center cluster C1 close to the center of the multidimensional space and inputted retrieval pattern (q) by using the retrieval dictionary.
至近クラスタ検出手段１２は、多次元空間内のクラスタに対し、多次元空間の中心に近い中心クラスタＣ１と、入力された検索パターンｑと、の距離の前後で生成される環にかかるクラスタにもとづいて、検索パターンｑと至近のクラスタを、検索辞書を利用して検出する。 - 特許庁 - The combining module 114 fuses the projected F_0 contour signal 100 and an F_0 contour pattern signal 112 by using a homeomorphism defined in the phase space, and generates the reconstructed F_0 contour in a configuration space.
組合せモジュール１１４は射影されたＦ_０輪郭信号１００とＦ_０輪郭パターン信号１１２とを、位相空間で規定される同相写像を用いて融合し、配置空間内に再構築されたＦ_０輪郭を生成する。 - 特許庁 - The average line width, an average space width and an average pitch width are calculated based on a peak interval of an own correlation value in a differential image of the line-and-space pattern, and based on a peak interval corresponding to a line edge on a projection data of the differential image.
ライン・アンド・スペースパターンの微分画像の自己相関値のピーク間隔や微分画像の投影プロジェクションデータ上のラインエッジに対応したピーク間隔から、平均ライン幅、平均スペース幅、平均ピッチ幅を算出する。 - 特許庁 - The arrangement pattern represents the positions of the first indoor units and the second indoor units that air-condition the space roughly evenly when only the first indoor units are operated, and air-condition the space roughly evenly when only the second indoor units are operated, respectively.
また、配置パターンは、第１室内機のみの運転の際に空間を略均等に空調し、かつ、第２室内機のみの運転の際に空間を略均等に空調する、第１室内機および第２室内機の位置である。 - 特許庁 - To give identification information for surely managing the type, the history and the like of a pattern forming template to the template without damaging a main pattern of the template and by ensuring a sufficient space for more detailed management.
パターン形成用テンプレートの種類、履歴などの管理を確実に行うための識別情報を、テンプレートのメインパターンにダメージを与えることなく、且つ十分なスペースを確保してテンプレートに付与することができ、より詳細な管理を行う。 - 特許庁 - Therefore, the position where the space key is arranged or a circuit pattern in the neighborhood is made relatively scarce so that the design of the circuit pattern of the keyboard substrate 2 can be made relatively easy by forming the contact 2b for leading at the position.
よって、スペースキーが配置される位置やその近傍の回路パターンは比較的に疎であるので、この位置に引出し用接点２ｂを設ければ、キーボード基板２の回路パターンの設計が比較的容易になるからである。 - 特許庁 - Since the melting temperature of a resist material 2, which is irradiated with laser beam energy, lowers, the resist material 2 melts at a relatively low temperature and the space of the resist pattern 2a becomes narrow and a fine resist pattern 2b can be formed precisely.
レーザ光エネルギが照射されたレジスト材２は、溶融温度が低下するので、比較的低温度でこのレジスト材２が溶融し、レジストパターン２ａの間隔が狭くなり、微細なレジストパターン２ｂを精度よく形成することができる。 - 特許庁 - Upon detecting this signal, the SYNC pattern selection section 34 switches a changeover switch 33 so as to output the SYNC code of a 14T mark-4T space pattern from an SYNC code generating section 32 to a DCC section 35.
ＳＹＮＣパターン選択部３４は、この信号を検出するとＳＹＮＣコード生成部３２から１４Ｔマーク−４ＴスペースパターンのＳＹＮＣコードがＤＣＣ部３５に出力されるように切り替えスイッチ３３を切り替える。 - 特許庁 - A lattice pattern arrayed with a plurality of lines L in parallel with a prescribed space is mirror-reflected on a surface of a steel sheet 200, and a lattice pattern image, reflected on the surface of the steel sheet 200, is imaged by a camera 500.
複数本の線Ｌを所定間隔で平行に並べてなる格子パターンを鋼板２００の表面で鏡面反射させて、その鋼板２００の表面に写し出される格子パターン像をカメラ５００により撮像する。 - 特許庁 - To provide a data management device of a pattern drawing apparatus capable of reducing the space for storing masks and the cost of management, as well as decreasing a burden of creating drawing data, and to provide a pattern drawing system including the data management device.
マスクの保管スペースや管理コストを低減させるとともに、描画データの作成にかかる負担も低減させることができるパターン描画装置のデータ管理装置および当該データ管理装置を含むパターン描画システムを提供する。 - 特許庁 - The semiconductor device 1 is provided with: an electrode pattern 10 formed on the substrate; the electrode film 20 located on the electrode pattern 10 via the space; and fitting patterns 11, 21 respectively provided to the electrode pattern 10 and the electrode film 20 and fitting a fuse 30 to bring the same potential to the electrode pattern 10 and the electrode film 20.
本発明は、基板上に形成される電極パターン１０と、電極パターン１０の上に空間部を介して設けられる電極膜２０と、電極パターン１０および電極膜２０に各々に設けられ、電極パターン１０と電極膜２０と間を同電位にするヒューズ３０を取り付けるための取り付けパターン１１、２１とを備える半導体装置１である。 - 特許庁 - Dust is therefore prevented from sticking onto a pattern surface of the reticle substrate and even after the pattern protection device is fitted to the reticle substrate, the air in the space surrounded with the pattern protection device and reticle substrate can be substituted with specified gas at an arbitrary point of time by opening the opening formed on the frame.
従って、レチクル基板のパターン面に塵埃が付着するのが防止され、またレチクル基板にパターン保護装置が取り付けられた後であっても、フレームに形成された開口を開状態とすることで、任意の時点でパターン保護装置とレチクル基板とで囲まれる空間内の気体を所定のガスにより置換することができる。 - 特許庁 - To provide method of manufacturing a phosphor pattern which has no phosphor being removed by the development in photo processing, which embedment property of a substrate having unevenness surface into space is excellent and which can form an uniform shape of phosphor pattern in high precision, and to provide element for forming the phosphor pattern having good workability and environment safety.
フォトプロセス等において現像等により除去される蛍光体を無くし、凹凸を有する基板の空間への埋め込み性が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体パターンの製造法、作業性、環境安全性のよい蛍光体パターン形成用エレメントを提供する。 - 特許庁 - A light-shielding film 3 is formed on the photomask to surround, without leaving a space, the region where the light-absorbing layer is disposed by drawing a pattern 2 which generates a three-dimensional distribution of the light intensity and by converting the pattern into black, or the region where the light-absorbing layer having the pattern 2 drawn and converted into black is to be disposed.
そのフォトマスクの面上に、光遮光膜３が、３次元の光強度分布をもたらすパターン２に描画、黒化された光吸収層が配置されている領域、またはパターン２に描画、黒化された光吸収層が配置されるべき領域を隙間無く取り囲んで設けられている。 - 特許庁 - A control circuit package 6 as the circuit module is provided with: two conductive circuit pattern parts 22a and 22b which are provided so as to space; a resistance 30 in which the two circuit pattern part 22a and 22b are connected to each other; a resin sealing body 19 in which the two circuit pattern parts 22a and 22b and the resistance 30 are buried.
回路モジュールとしての制御回路パッケージ６は互いの間隔をあけて設けられた導電性の二つの回路パターン部２２ａ，２２ｂと二つの回路パターン部２２ａ，２２ｂ同士を接続した抵抗３０と二つの回路パターン部２２ａ，２２ｂと抵抗３０を埋設した樹脂封止体１９を備えている。 - 特許庁 - Dummy patterns 2 having areas smaller than a main pattern 1 are formed in an empty space in addition to the main pattern 1, in which the excellent working uniformity cannot be obtained only by the pattern 1 owing to the small ratio of an area, and the areas of plasma-etched sections are expanded up to area ratios, where the excellent working uniformity is obtained.
面積の比率の小さいためにそれだけでは優れた加工均一性を得ることができない本パターン１に加えて、本パターン１より面積が小さいダミーパターン２を空いているスペースに形成し、優れた加工均一性が得られる面積比率まで、プラズマエッチングされる部分の面積を拡大する。 - 特許庁 - To allow a user to customize a recognizing dictionary by finely adapting to an original business environment in a pattern recognizing device, a method, a program, and a recording medium for recognizing a pattern on the basis of a value of a probability density function defined with every category in a characteristic vector space of the pattern.
本発明はパターンの特徴ベクトル空間においてカテゴリ毎に定義された確率密度関数の値に基づいて認識を行うパターン認識装置，方法，プログラム及び記録媒体に関し，ユーザが独自の業務環境により細やかに適応して認識辞書をカスタマイズすることを目的とする。 - 特許庁 - This reciprocating pattern type flow path selector valve, constituted by a cylinder with connection end to a plurality of pipes and a piston, internally having a flow path pattern corresponding to the concerned connection end in a plurality of steps, switches at a stroke a straight pipe and/or curved pipe flow path as a pattern step of narrow space not by rotation but by piston reciprocating motion.
複数配管の接続端付きシリンダーと、当該接続端に対応する流路パターンを複数段に内有するピストンとから構成される、回転によらないピストン往復動で、狭い間隔のパターン段として直管及び又は曲管流路を一挙に切換える往復パターン式流路切換え弁とする。 - 特許庁 - The method of generating a design layout pattern of a semiconductor aims to generate by a projection optical system a layout pattern in which wiring lines are designed in the same pitch on a wafer, and the method includes a process of making uniform wiring line end parts 101 of the layout pattern 100 and the opposition space 101a between patterns formed in this wiring line direction.
ウェハ上に配線ラインが等ピッチで設計されているレイアウトパタンを投影光学系により形成するための半導体設計レイアウトパタン生成方法であって、レイアウトパタン１００の配線ライン端部１０１とこの配線ライン方向に配置されたパタン間の対向スペース１０１ａを均一化する工程を含む。 - 特許庁 - In the calibration processing, an object printer outputs a test pattern (S501), and in the case of generating a correction table through the read of this pattern (S504-S507), a conversion parameter for converting the read result into a standard color space signal is converted by a profile corresponding to a scanner reading the pattern.
キャリブレーションの処理において、対象プリンタからテストパターンを出力し（Ｓ５０１）、このパターンを読取って補正テーブルを作成する際（Ｓ５０４〜Ｓ５０７）、読取りを行なったスキャナに対応したプロファイルで上記読取り結果を標準色空間信号に変換するときの変換パラメータを変換する。 - 特許庁 - To provide an aligner which can suppress deterioration of a pattern image projected on a substrate for the exposure conducted by filling the space between a projecting optical system and a substrate with the water.
投影光学系と基板との間を水で満たして露光する際、基板上に投影されるパターン像の劣化を抑えることができる露光装置を提供する。 - 特許庁
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