「pattern space」を含む例文一覧(761)

＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 15 16 次へ＞
  • To establish a constituting method for the installation pattern and excitation pattern of a transmitting coil which produces a magnetic field so as to expand the range and shape of a space wherein measurement is possible.
    磁気式モーションキャプチャ装置において、測定可能な空間の範囲と空間形状を拡大するために、磁場を発生する送信コイルの設置パターンと励磁パターンの構成方法を確立する。 - 特許庁
  • Further, on the second glass plate 2, the common electrode wiring 5_c which is part of the common electrode pattern 5 is formed in a space between the segment electrode wirings 4_b(segment electrode pattern 4 in the area 32) which are a part of the segment electrode pattern 4 disposed without overlapping the common electrode pattern 5.
    また、第２のガラス基板２には、セグメント電極パターン４のうちコモン電極パターン５と重ならないように配置される部分であるセグメント電極引き廻し配線４_ｂ（領域３２内のセグメント電極パターン４）間の隙間領域に、コモン電極パターン５の一部であるコモン電極引き廻しダミー配線５_ｃが形成されている。 - 特許庁
  • To provide a thickening material of a resist pattern, the material allowing ArF laser light to be used, capable of thickening a resist pattern without depending on the size only by applying the material on a resist pattern such as lines of an ArF resist or the like, and capable of efficiently and easily forming a fine space pattern beyond the exposure limit at a low cost.
    ＡｒＦレーザー光を利用でき、ＡｒＦレジスト等のライン系等のレジストパターン上に塗布等するだけで、そのサイズ依存性なく厚肉化可能で、露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターン等を低コストで簡便に効率良く形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。 - 特許庁
  • In a step S2, etching time corresponding to an etching shift amount for obtaining expected sizes of the sparse pattern and dense pattern using the exposure amount determined by the first correlation is determined using second correlation, pre-obtained, between etching times of the space pattern and dense pattern and the etching shift amount.
    ステップＳ２では、予め取得された、疎パターン及び密パターンにおけるエッチング時間とエッチングシフト量との第２の相関関係を用いて、第１の相関関係により決定された露光量による疎パターン及び密パターンをそれぞれ所期の寸法とするためのエッチングシフト量に対応したエッチング時間を決定する。 - 特許庁
  • A standard sample 1 for an electric force microscope has known values of potential and shape and includes a substrate 2 made from a dielectric and a conductive electrode pattern 4 formed on the substrate 2, the electrode pattern 4 having a potential pattern whose potential distribution is known and a space pattern whose shape is known.
    電気力顕微鏡用標準試料１は、電位及び形状について既知の値を備える構成として、誘電体からなる基板２と、基板２上に形成される導電性の電極パターン４とを備え、電極パターン４は電位分布を既知とする電位パターン及び形状を既知とする空間パターンとを備える。 - 特許庁
  • A mask case that accommodates a mask on which a cylindrical pattern face is formed around a certain center axis includes a case body that forms a storage space for storing the mask and includes a window facing the pattern face of the mask stored in the storage space, and a regulation part that regulates a movement of the mask to prevent the pattern face from contacting the case body.
    所定の中心軸線周りに円筒面状にパターン面が設けられたマスクを収容するマスクケースであって、マスクを収容する収容空間を形成し、収容空間に収容されたマスクのパターン面に対向する窓部が設けられたケース本体と、パターン面がケース本体に接触しないようにマスクの移動を制限する制限部と、を備える。 - 特許庁
  • Since a heating pattern 12 in a heater pattern 10 is formed to avoid an area overlapped with a detection space 230 on a layered face, an electrode faced to at least the detection space 230, i.e. one electrode 22 in a sensor cell 20 is formed into structure not overlapped with the heating pattern 12 on the layered face.
    ヒータパターン１０における発熱パターン１２が、積層面において検出空間２３０と重なる領域を避けるように形成されているため、少なくとも検出空間２３０に面する電極，つまりセンサセル２０における一方の電極２２が積層面において発熱パターン１２と重ならない構造になっていることになる。 - 特許庁
  • A pattern recognition device for recognizing an input pattern is provided with: a pseudo-orthogonalization conversion data generating and storing part 303; a pseudo-orthogonalization converting part 304; a dictionary partial space generating part 306; an input partial space generating part 305; a similarity calculating part 308; and a discrimination part 309.
    入力パターンを認識するパターン認識装置は、擬似直交化変換データ生成格納部３０３と擬似直交化変換部３０４と辞書部分空間生成部３０６と入力部分空間生成部３０５と類似度算出部３０８と識別部３０９とからなる。 - 特許庁
  • The media recognition system comprises: an object management space; an object processing module; and a media object space for storing media objects produced by object processing, and a pattern definition list includes a plurality of action descriptions for defining script programs to be executed, attached to pattern formulae for designating the attribute of the object.
    オブジェクト管理スペースと、オブジェクト処理モジュールと、オブジェクト処理で生成されたメディアオブジェクトを記憶するためのメディアオブジェクトスペースとからなり、パターン定義リストが、オブジェクトの属性を指定するパターン式に付随して、実行すべきスクリプトプログラムを定義した複数のアクション記述を含む。 - 特許庁
  • A bottom surface 111, a front surface 112, a back surface 113, and side surfaces 114 in the drawer body 110 forming a storage space S are given a fine pattern by embossing on the sides of the storage space S, and the fine pattern is given before bending.
    その場合、収納空間Ｓを形成する引き出し本体１１０における底面１１１、前面１１２、背面１１３、及び側面１１４，１１４の収納空間Ｓ側に、エンボス加工による微細凹凸加工が施されており、かつ、この微細凹凸加工は、折曲加工前に施されている。 - 特許庁
  • In the defect inspection apparatus for determining an inconsistency part as the defect by comparing the image of a pattern formed to be the same pattern, the amount of the characteristics of the image of a region where a plurality of the optical conditions are dealing is plotted to the characteristic space and an aberrant value in the characteristic space is detected as a defect.
    同一パターンとなるように形成されたパターンの画像を比較して不一致部を欠陥と判定する欠陥検査装置を複数の光学条件の対応する領域の画像の特徴量を特徴空間にプロットし、特徴空間上のはずれ値を欠陥として検出。 - 特許庁
  • A belt-like admixture 31 is passed in turn through pattern forming portions 15-17 comprising calender rolls 11-14 to thereby be formed into a sheet 32 having even thickness; which then it is transferred to a form-patterned roll 20 in order to simultaneously form space patterns 34 for punching operation by space pattern forming projections 25 along with patterning operation.
    ベルト状の混和物３１を、カレンダーロール１１〜１４からなる絞り成形部１５〜１７に順に通して、厚みを均一化したシート３２に成形し、型入れ紋付けロール２０に移して、紋付けとともに、予備紋形成型２５により穿孔するための予備紋３４を同時に形成する。 - 特許庁
  • A first insulating film 2 and a second insulating film 3 are formed on a semiconductor substrate 1, a second insulating film pattern 7 is formed by a first resist pattern 6 with space width F, and then spacer processing is performed to form a third insulating film pattern 8 with spacer width F/2.
    半導体基板１上に第１の絶縁膜２及び第２の絶縁膜３を形成し、スペース幅Ｆの第１のレジストパターン６により第２の絶縁膜パターン７を形成した後、スペーサ加工を施しスペース幅Ｆ／２の第３の絶縁膜パターン８を形成する。 - 特許庁
  • The fine pattern with a pitch a half of that of the lithography is formed by forming a resist pattern using a lithography technology (a), making small the line width of the resist pattern using a sliming technology (b), forming a new mask pattern in a space widen by sliming by anisotropic etching under a low pressure environment (c), and carrying out etching of the under layer film using the mask pattern (d).
    リソグラフィ技術によりレジストパターン７を形成し（ａ）、スリミング技術によりレジストパターン７のライン幅を細くし（ｂ）、低圧環境下で異方性エッチング処理を行うことによってスリミングにより広くなったスペースに新たなマスクパターンを形成し（ｃ）、そのマスクパターンを利用して下層の膜のエッチングを行って（ｄ）、リソグラフィパターンの１／２倍のピッチの微細パターンを形成する。 - 特許庁
  • To carry out patterning without requiring an additional investment even when a line-and-space pattern with a fine pitch is formed on an object to be processed.
    被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行う。 - 特許庁
  • Subsequently, the wafer is subjected to the predetermined processing under the corrected conditions to form a pattern having a space ratio of 1:1 in the workpiece film (S12 to S17).
    その後、補正された条件でウェハに所定の処理を行い、被処理膜に１：１のスペース比率のパターンを形成する（Ｓ１２〜Ｓ１７）。 - 特許庁
  • In the method for recoding data on an optical recording medium, a mark or a space is formed by using a recording waveform which has an erasure pattern including a multipulse.
    光記録媒体へのデータ記録方法は、マルチパルスを含む消去パターンを有する記録波形を用いてマークまたはスペースを形成する。 - 特許庁
  • To provide method and device especially suitable for determining irregularity of line & space pattern formed on sample.
    本発明の目的は、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供することにある。 - 特許庁
  • The image of the image pickup object, on which the pattern is projected, is fetched by image pickup parts 2s and 23 and dispatched to a 3D space information acquiring part 24.
    パターンが投影された撮像対象の画像は撮像部２２，２３によって取り込まれ、３次元空間情報取得部２４に渡される。 - 特許庁
  • The conductive pattern layer 6 is formed in a plane-view belt shape so as to make a fixed interval space in one direction as an axis direction.
    導電パターン層６は平面視帯状に形成され、一方向を軸方向として一定の間隔をあけるように形成されている。 - 特許庁
  • A space 33c where conductive particles 42 stay is formed at a wiring pattern gap 46 of a conductive wire formed on the base surface.
    支持体表面に形成された導電配線の配線パターン間隙４６に、導電粒子４２の滞留空間３３ｃを形成する。 - 特許庁
  • If the input image is, for example, a cyan image pattern, the converted RGB signals are distributed in an ellipsoid on a G-B space.
    入力画像が例えばシアンの画像パターンの場合は、上記変換されたＲＧＢ信号はＧ−Ｂ空間上に楕円体状に分布する。 - 特許庁
  • The method for recording data on the optical recording medium forms a mark or a space by using a recording waveform having an erase pattern containing a multi-pulse.
    光記憶媒体へのデータ記録方法は、マルチパルスを含む消去パターンを有する記録波形を用いてマークまたはスペースを形成する。 - 特許庁
  • Next, by allotting the obtained distribution information of the fiber diving angles to a supposed columnar space, the wood grain pattern is defined at the step (S2).
    次に、取得した繊維潜り角の分布情報を樹木を想定した円柱空間に割り当てることにより木理パターンを定義する（Ｓ２）。 - 特許庁
  • A pattern that originates in that it resembles scales of fishes by arranging triangle pieces of gold leaf so that a same-sized triangle space is generated between adjacent triangle pieces of gold leaf.
    魚の鱗に似ることに由来し、三角形の截箔を素地の部分が同じ大きさの三角形になるよう互い違い並べた文様 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A plurality of test patterns prepared by varying the layout area of line-and-space pattern in different levels of factors are formed on a mask substrate by lithographic processes (S1, S2).
    リソグラフィー処理により、ラインアンドスペースパターンの展開面積を水準振りした複数のテストパターンをマスク基板上に形成する（Ｓ１，Ｓ２）。 - 特許庁
  • To provide a plasma processing method capable of reducing sparse and dense micro-loading in a pattern where the dense space width is 20 nm or less.
    本発明は、密部スペース幅２０ｎｍ以下のパターンにおいて、疎密マイクロローディングの低減を可能とするプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To improve a processing rate to a pattern in which a read processing request to access areas continuous in an LBA space and write processing request to access areas non-continuous in the LBA space are repeated alternately.
    LBA空間で連続する領域にアクセスするリード処理要求とLBA空間で連続または非連続な領域にアクセスするライト処理要求が交互に繰り返されるパタンに対する処理速度の向上を図る。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device with a structure of including a space between an electrode pattern and an electrode film on a substrate that prevents storage of static electricity to the space so as to avoid a defect due to sticking of the electrode film.
    基板上の電極パターンと電極膜との間に空間部を有する構造の半導体装置において、空間部への静電気蓄積を防止して電極膜のスティッキングによる不良を防止する。 - 特許庁
  • A method reduces dimensions of a feature space by selecting a partial space storing a major component of a quadratic function by leaning the quadratic function through a polynomial neural network by using a feature pattern group for generating a dictionary.
    辞書生成用特徴パターン群を用いて、多項式ニューラルネットワークにより二次関数を学習し、二次関数の主要成分を保存する部分空間を選択することにより、特徴空間の次元を削減する。 - 特許庁
  • A reflection layer 8A is provided on the downside of a liquid crystal layer 38 and a surface on the side of the liquid crystal layer of the reflection layer is provided with a rugged pattern to orient reflected light to a space outside of a light source reflecting surface (external space).
    反射層８Ａが液晶層３８の下側に設けられており、反射層は液晶層側の面が反射光を光源映り込み面外の空間（外部空間）に向ける凹凸パターンを有している。 - 特許庁
  • When the feature is a shell, the space between the pattern element located in the shortest distance from the designated point and the other pattern element located on the opposite side across the designated point is taken as the distance dimension showing the thickness of the shell.
    また、フィーチャがシェルであるときには、指定された点（指定点）から最短距離にある図形要素と指定点を挟んで反対側にある他の図形要素との間隔が、シェルの厚さを示す距離寸法とされる。 - 特許庁
  • To provide an address pattern generation device capable of generating an address pattern for accessing a part of a memory space without forcing an excessive load on user for preparing a device program and to provide a device for testing a semiconductor integrated circuit.
    デバイスプログラムを作成する過度の負担をユーザに強いることなくメモリ空間の一部をアクセスするアドレスパターンを発生させることができるアドレスパターン発生装置及び半導体集積回路試験装置を提供する。 - 特許庁
  • After these multivalued signals are used for the watermark pattern, an original signal pattern is restored when it is transformed to the frequency space through discrete Fourier transform, and each restored signal however can be identified each other.
    これら多値化した信号は、透かしパターンとした後、これを離散フーリエ変換して周波数空間に変換すると、元の信号パターンが復元されるが、復元した個々の信号は相互に識別することが可能である。 - 特許庁
  • To provide a mask pattern correction method which can conduct high speed simulation for a mask pattern including both hole patterns and space patterns even when making OPC considering the mask 3D effects, and also provide an exposure mask thereof.
    ホールパターンやスペースパターンが混在したマスクパターンに対して、マスク３Ｄ効果を考慮したＯＰＣを行う場合にも、シミュレーションを高速で行うことができるマスクパターン補正方法及び露光用マスクを提供する。 - 特許庁
  • The first terminal 103 is provided with a space from the conductive pattern 107, and the second terminal 105 is provided to be separated from the conductive pattern 107 and the first terminal 103, on the substrate 101.
    また、基板１０１上に、導電性パターン１０７から離間して設けられた第一の端子１０３と、導電性パターン１０７および第一の端子１０３から離間して設けられた第二の端子１０５とを設ける。 - 特許庁
  • A display part 205 reduces inter-character spaces in the line, to which the attribute of inter-character space reduction is given, and acquires a corresponding character pattern stored in a character pattern storage part 207 so as to display it in the end of the line.
    表示部２０５は、文字間短縮の属性が付加されている行の文字間を短縮し、行末に文字パタン記憶部２０７に記憶されている対応する文字パタンを取得して表示することにより実行する。 - 特許庁
  • The composition for coating a photoresist pattern which contains water and a compound of formula (1) is coated on a previously formed photoresist pattern, thereby reducing a size of a contact hole or a blank space of the photoresist effectively.
    下記式（１）の化合物と水を含むフォトレジストパターンコーティング用組成物を既に形成されたフォトレジストパターン上にコーティングさせることにより、フォトレジストコンタクトホールや余白の大きさを効果的に縮小させる。 - 特許庁
  • To provide a center component capable of eliminating the intruding space route of electromagnetic noise from a board surface side of a game board to the display surface of a pattern display device and preventing the destruction of the pattern display device.
    本発明は遊技盤の盤面側から図柄表示装置の表示面への電磁ノイズの侵入空間経路をなくし、図柄表示装置の破壊を防止できるセンター部品を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The self-aligned field-effect transistor structure includes: an active region arranged on a substrate; an uneven gate insulating pattern arranged on the active region; and a gate electrode self aligned by the gate insulating pattern and arranged on the inner space of the gate insulating pattern.
    本発明の実施形態による自己整列電界効果トランジスタ構造体は、基板上に配置された活性領域と、活性領域上に配置された凹凸型のゲート絶縁パターンと、ゲート絶縁パターンによって自己整列されてゲート絶縁パターンの内部空間に配置されたゲート電極と、を含む。 - 特許庁
  • It is preferable that the height ratio (H/R) of the microlens 4 is 5/8-1, a space ratio (S/D) is ≤1/2, a filling rate is ≥40%, the refractive index of a stock material is 1.3-1.8, and a distribution pattern is an equilateral triangle grating pattern or a random pattern.
    上記マイクロレンズ４の高さ比（Ｈ／Ｒ）としては５／８以上１以下、間隔比（Ｓ／Ｄ）としては１／２以下、充填率としては４０％以上、素材の屈折率としては１．３以上１．８以下、配設パターンとしては正三角形格子パターン又はランダムパターンが好ましい。 - 特許庁
  • Further, the small-area dummy pattern of a lower layer and the small area dummy pattern Ds2 of an upper layer are arranged to a region with a wide inter-pattern space in patterns (active regions L1, L2, L3, and a gate electrode 17 or the like) that act as elements in a product region PR and the scribe region SR.
    また、製品領域ＰＲおよびスクライブ領域ＳＲの素子として機能するパターン（活性領域Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３、ゲート電極１７等）のパターン間スペースが広い領域に下層の小面積ダミーパターンと上層の小面積ダミーパターンＤｓ２を配置する。 - 特許庁
  • The dress simulation device sets a calculation lattice on a paper pattern based on paper pattern data which specify the shape of a pattern of the clothes with plural border lines; and by using the resulting calculation lattice, a clothes-wearing human body whose shape changes according to the motion in a virtual space, is displayed.
    本服飾シミュレーション装置は、複数の輪郭線により衣服の１つの型紙の形状を特定する型紙データに基づき型紙上に計算格子を設定し、設定された計算格子を用いつつ、仮想空間内の動作に応じて変形する衣服の着せ付けられた人体を表示する。 - 特許庁
  • To provide a light control device by which light having a desired beam section is obtained in a technology for presenting a phase pattern formed by superposing a phased grating pattern and a phase pattern having predetermined phase modulation distribution to a space light modulator of a phase modulation type.
    ブレーズドグレーティングパターンと所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなる位相パターンを位相変調型の空間光変調器に呈示させる技術において所望のビーム断面を有する光を得ることができる光制御装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a light control device by which light having a desired beam section is obtained in a technology for presenting a phase pattern formed by superposing a blazed grating pattern and a phase pattern having predetermined phase modulation distribution on a phase modulation type space light modulator.
    ブレーズドグレーティングパターンと所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなる位相パターンを位相変調型の空間光変調器に呈示させる技術において所望のビーム断面を有する光を得ることができる光制御装置を提供する。 - 特許庁
  • To enable molding sand to fill into a high density state in a sand filling space, even when a pattern part on a pattern plate has a complicate shape without causing the so-called a bridging phenomenon, in a molding device for a mold provided with the pattern plate, a molding flask, an upper supplemental flask and a sand filling means.
    模型板と、鋳枠と、盛枠と、砂充填手段とを備えた鋳型造型装置において、いわゆる棚吊現象を起こしたりすることがない上に、模型板の模型部が複雑形状の場合にも鋳物砂を砂充填空間に高密度状態に充填することができるようにする。 - 特許庁
  • To provide an image processing device capable of obtaining the decoding result of sprite compressed encoded data per line while suppressing the generation of blank space in a sprite pattern memory.
    スプライトパターンメモリにおけるブランク空間の発生を抑えつつ、スプライトの圧縮符号化データのデコード結果をライン単位で得ることを可能にする。 - 特許庁
  • In addition, there is no need to prepare a conveyance route for the mask M outside the pattern drawing apparatus 1, thereby the work space for the total process flow can be decreased.
    また、パターン描画装置１の外部にマスクＭの搬送経路を確保する必要がないため、工程全体の作業スペースを低減させることができる。 - 特許庁
  • To provide an inkjet printing apparatus capable of stably printing a uniform dot pattern at any location without providing a preliminary discharge space or the like on a substrate.
    基板に予備吐出スペースなど設けずに、どのような場所でも安定して均一なドットパターンを印刷できるインクジェット印刷装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a judgement method and a device suitable for judgement of roughness of a line and a space pattern formed on a test piece.
    本発明の目的は、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供することにある。 - 特許庁
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 15 16 次へ＞

例文データの著作権について