「pattern space」を含む例文一覧(761)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 15 16 次へ＞- The circumscribed rectangle represents a positional range in which all of the learning samples belonging to the pattern category appear in a multidimensional space in each dimension and the recognition range of the pattern.
この外接長方形は多次元空間に該パターンカテゴリに属しているすべての学習サンプルが各次元毎に現れる位置範囲を表し，該パターンの認識範囲である。 - 特許庁 - Thus, a retrieval space is reduced which is necessary for the selection of the MC/DC pattern, and to efficiently and quickly search the MC/DC pattern.
このようにすることで、ＭＣ／ＤＣパターンの選定に必要な探索空間を削減することができ、ＭＣ／ＤＣパターンを効率的かつ迅速に求めることが可能となる。 - 特許庁 - A pattern switching valve 49 is disposed while utilizing a large space in an engine room 43, so that even a small hydraulic backhoe can accommodate the pattern switching valve 49.
パターン切換弁４９はエンジン室４３内の広いスペースを利用して配設しているから、小型な油圧ショベルでもパターン切換弁４９を収容することができる。 - 特許庁 - With the arrangement pattern and excitation pattern, the intensity and directions of the magnetic fields are measured by three-axial magnetic sensors U, V, and W and the coordinates and directions in the measuring space are accurately calculated.
この配置パターンと励磁パターンにおいて、磁場の強度と向きを３軸磁気センサにより計測し、計測空間内における座標と向きを精度よく算出する。 - 特許庁 - First, a photomask 3 to be used for exposure is subjected to the correction of the mask pattern form according to the space between adjacent mask patterns and to the mask pattern form.
まず、露光時に使用されるフォトマスク３が、隣接するマスクパターン間のスペースと前記マスクパターンの形状に応じて、前記マスクパターンの形状を補正する補正方法を行う。 - 特許庁 - The device includes pattern areas defined on a semiconductor substrate and many linear patterns arranged parallel to a first space in each pattern area.
本発明によるこの素子は、半導体基板に定義されたパターン領域及び各パターン領域に第１間隔に平行に配置された多数のライン型パターンを含む。 - 特許庁 - The space is filled up with the resin film 54B by the flowing thereof, and the surface of the wiring pattern 32 is coated with the resin film 54B which has reached the wiring pattern 32.
この樹脂膜５４Ｂの流動によって前記隙間が埋められ、更に配線パターン３２に達した樹脂膜５４Ｂによって配線パターン３２の表面が覆われる。 - 特許庁 - Once a partner terminal 14 is connected to the managing server 11, a table pattern image showing the layout of page space to be produced is sent, so a table pattern is selected from it.
パートナー端末１４を管理サーバ１１に接続すると、作製する紙面のレイアウトを示すテーブルパターイメージが送られてくるので、その中からテーブルパターンを選択する。 - 特許庁 - The parking frame partition line space 2 is formed by applying a coating material on the whole surface of the parking frame partition space 2 provided on a parking paved surface 1 or nearly the whole surface thereof, in which the pattern and the like are provided in the parking frame partition line space.
駐車舗装面１に設ける駐車枠区画スペース２全面、もしくは、ほぼ全面に、塗料を塗布して駐車枠区画線スペースとし、その駐車枠区画線スペースに図案等を設ける。 - 特許庁 - A pattern identification device not only analyzes structure characteristics of a pattern sample to be identified but also performs linear embedding analysis of the pattern sample to be identified in a kernel space, by a semi-supervised learning mechanism.
パターン識別装置は、半教師あり学習メカニズムによって、識別対象パターンサンプルの構造特性を解析すると共に、核空間内で識別対象パターンサンプルに対し線形埋め込み解析を行う。 - 特許庁 - The dimension of the monitor pattern is converted to the dimension of a pattern of the workpiece film having a space ratio of 1:1 (S10), and processing conditions of the predetermined processing are corrected (S11) based on the dimension of the converted pattern of the workpiece film.
モニターパターンの寸法を１：１のスペース比率の被処理膜のパターンの寸法に変換し（Ｓ１０）、変換された被処理膜のパターンの寸法に基づいて所定の処理の処理条件を補正する（Ｓ１１）。 - 特許庁 - The best pattern for projection can be generated by simulating a space to be output by the pattern, comparing the simulation with an expected pattern and using a repetitive processing process adjusting the OPC features.
パターンにより出力されるであろう空間像をシミュレートし、シミュレーションを所望のパターンと比較し、ＯＰＣフィーチャを調整する反復処理工程を使用して、投影に最適なパターンを生成することができる。 - 特許庁 - To provide a resist pattern measuring method capable of determining automatically and measuring correctly a remaining part (line pattern) and a cut-out part (space pattern) as to a measuring-objective pattern in an image, and capable of measuring a true resist pattern corrected in a shrinkage amount, when measuring a resist pattern by a CD-SEM.
ＣＤ−ＳＥＭによるレジストパターンの測定において、画像中の測定対象パターンが残し部（Ｌｉｎｅパターン）と抜き部（Ｓｐａｃｅパターン）を自動的に判定して正しく測定すると共に、レジストのシュリンク量を補正した真のレジストパターン寸法を測定することを可能にするレジストパターン測定方法及びレジストパターン測定装置を提供する。 - 特許庁 - In S108 and S116, the parameter space consisting of a pattern parameter set in S102 and the illumination shape parameter set in S106 are constituted, and the pattern parameter and the illumination shape parameter are optimized in the parameter space.
Ｓ１０８乃至Ｓ１１６では、Ｓ１０２で設定したパターンパラメータとＳ１０６で設定した照明形状パラメータとからなるパラメータ空間を構成し、かかるパラメータ空間においてパターンパラメータ及び照明形状パラメータを最適化する。 - 特許庁 - The TEG pattern includes a plurality of element isolation film patterns 123 with a predetermined space between; an active region pattern 125 formed between these element isolation film patterns 123; and a metal 1 contact pattern 127 formed in the active region pattern 125.
テグパターンは、所定の間隔を置いて複数で形成される素子分離膜パターン１２３と、該素子分離膜パターン１２３の間に形成されたアクティブ領域パターン１２５と、及びアクティブ領域パターン１２５内に形成されたメタル１コンタクトパターン１２７とを含む。 - 特許庁 - A made characteristic vector is checked with a standard pattern stored in a pattern dictionary, the standard pattern, having a distance near an input pattern in a characteristic quantity space is selected, only a character corresponding to the designated recognizing object character set among the selected standard pattern is selected, and is used as a recognizing result.
作成された特徴ベクトルを、パターン辞書に格納されている標準パターンと照合して、特徴量空間において入力パターンと近い距離を持つ標準パターンを選択し、当該選択された標準パターンのうち上記指定された認識対象文字集合に該当する文字のみを選択して認識結果とする。 - 特許庁 - The photomask comprises a mask substrate, a device pattern arranged on the mask substrate, and one or more focus monitoring patterns arranged in a different position from the device pattern on the mask pattern, wherein the focus monitoring pattern has a sawtooth pattern comprising nearly triangular patterns continuously arranged without a space in one direction in a plan view.
マスク基板と、このマスク基板上に配置されたデバイスパターンと、マスク基板上のデバイスパターンとは異なる位置に配置された１または２以上のフォーカスモニタパターンとを備え、このフォーカスモニタパターンが、平面で見て略三角形が同一方向に隙間なく連続して配置された鋸歯形状のパターンを有するフォトマスクを用いる。 - 特許庁 - The conspicuity map indicates a pattern which is important for performing the task and existing in an input space of the sensor means.
顕著性マップは、タスクを実施するのに重要な、センサ手段の入力空間におけるパターンをロボット・デバイスに示す。 - 特許庁 - Therefore, a spray pattern suitable for the size of a use space is selected to effectively spray the aerosol contents liquid.
よって、使用空間の広さに適した噴射パターンを選択して、エアゾール内溶液を有効に噴射することができる。 - 特許庁 - The slit 3 is composed of a line-and-space pattern P having a pitch smaller than the resolution limit of the reducing stepper.
スリット３を、縮小投影露光装置の解像限界以下のピッチを有するラインアンドスペースパターンＰにより構成する。 - 特許庁 - To accurately verify whether L/S (line and space widths) of each line pattern on a mask data agrees with the specification of a mask layout design.
マスクデータ上の各線パターンのＬ／Ｓがマスクレイアウト設計仕様と合致するかどうかを正確に検証する。 - 特許庁 - To form a favorable line pattern when microfabricating width dimensions of a line and a space using a sidewall imprint technology.
側壁転写技術を用いてライン及びスペースの各幅寸法を微細化した場合に、良好なラインパターンを形成する。 - 特許庁 - The semiconductor integrated circuit comprises predetermined functional regions and a dummy pattern DMP1 formed on a space area SP1.
半導体集積回路は、所定の機能領域と、空き領域ＳＰ１に形成されたダミーパターンＤＭＰ１とを備える。 - 特許庁 - To form a line and space structure where pattern collapse does not occur in a drying process after liquid cleaning.
液体洗浄後の乾燥工程においてにパターン倒壊が発生しないラインアンドスペース構造を形成することができる。 - 特許庁 - Then the silicon oxide film 15 is peeled through hydrogen fluoride processing, so that a shrink pattern of 15 nm in line and space pitch is formed.
この後、シリコン酸化膜１５を弗酸処理で剥離するとラインアンドスペースが１５ｎｍのシュリンクパターンを形成できる。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING SHUFFLING PATTERN BASED ON MINIMUM SIGNAL-TO-NOISE RATIO IN DOUBLE SPACE-TIME TRANSMIT DIVERSITY SYSTEM
二重時空間送信ダイバシティシステムで最小信号対雑音比を用いたシャッフリングパターン決定方法及び装置 - 特許庁 - A liquid crystal cell 11 is formed by pasting a pair of substrates 12 together on a prescribed seal pattern 14 to form a liquid crystal filling space 15.
液晶セル11は、一対の基板12を所定のシールパターン14で貼り合わせ、液晶注入空間15を形成する。 - 特許庁 - The second alignment mark 2 includes a space pattern 2S containing gaps 2S_1, 2S_2, ..., 2S_9, the width of which increase in one direction.
第２アライメントマーク２は、幅が一方向に増大する間隙２Ｓ_１，２Ｓ_２，…，２Ｓ_９を含むスペースパターン２Ｓを有している。 - 特許庁 - Furthermore, the core material film 31 is slimmed, to form a line-and-space-like pattern of a second width smaller than the first width.
さらに、芯材膜３１をスリミングして第１の幅より小さい第２の幅のラインアンドスペース状のパターンを形成する。 - 特許庁 - Next, a nitrogen gas is introduced into a space between the substrate 9 and a mold 8 facing the substrate 9 and provided with a minute pattern.
次に、基板９と、基板９に相対し、微小パターンが形成されたモールド８との間に窒素ガスを導入する。 - 特許庁 - A computer 7 is provided with a document reader 5, a document structure index data space 9, and a document structural pattern data base 11.
コンピュータ７には文書読取装置５、文書構造インデクスデータベース９、文書構造パターンデータベース１１が設けられる。 - 特許庁 - Furthermore, a bit line pattern 13B provided with projections and connected to the memory cells is provided, separating from the bit line pattern 13A by a prescribed space on the same wiring layer with the bit line pattern 13A.
さらに、ビット線パターン１３Ａと同じ配線層には、メモリセルに接続され、ビット線パターン１３Ａが有する凹凸形状に沿って所定の間隔を保持するように凹凸形状を有する／ビット線パターン１３Ｂが形成されている。 - 特許庁 - To provide a resist pattern thickening material, which can utilize ArF laser light, which can thicken a resist pattern regardless of the size by only applying the material on the ArF resist pattern or the like, which is excellent in etching durability and capable of easily and inexpensively forming a fine resist space pattern or the like exceeding an exposure limit.
ＡｒＦレーザー光を利用でき、ＡｒＦレジストパターン等上に塗布等するだけで、そのサイズ依存性なく厚肉化可能で、エッチング耐性に優れ、露光限界を超えて微細なレジスト抜きパターン等を低コストで簡便に形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。 - 特許庁 - The first and second auxiliary pattern parts 6 each include an auxiliary pattern, which is formed of a repetitive pattern of space patterns which have large line width enough not to be dissolved in the photosensitive film and formed by being bored in the light shield film, or a repetitive pattern of line patterns which are formed by leaving the light shield film.
第１、第２の補助パターン部６は各々補助パターンを含み、補助パターンは感光性膜に解像しない線幅を有する、遮光膜を開孔したスペースパターンの繰り返しパターン、又は遮光膜を残したラインパターンの繰り返しパターンのいずれか一方で構成する。 - 特許庁 - The main control board 21 is a both-sided board where wiring pattern exists only on both the front and back surfaces of a printed board, and all space except the disposition space for electronic parts is a ground surface.
主制御基板２１は、プリント基板の表裏両面にしか配線パターンが存在しない両面基板について、電子部品の配置スペースを除く全てのスペースがグランド面とされる。 - 特許庁 - The relocation detecting device body 1 places a subject disk 30 on the surface of which a pattern is drawn in a space 13 and a space 14 of a case 10 and seals transparent liquid into the spaces.
移設検知装置本体１は、表面に図柄が描かれた被写体円板３０をケース１０の空間１３と空間１４に配置して透明な液体を封入する。 - 特許庁 - A cavity 20 for molding having a space 21 for molding a disk part and a space 22 for molding a rim pattern part is formed on a mold 10 used in the high pressure casting stage.
この高圧鋳造工程で用いられる鋳型１０には、ディスク部成形用空間２１とリム原形部成形用空間２２とを有する成形用キャビティ２０が形成される。 - 特許庁 - To provide a planar coil that can maintain a space factor even when a fine pattern is formed by improving the ratio of the occupying area of the coil per unit area, namely, the space factor.
本発明は、単位面積当りのコイルの占める面積の割合すなわち占積率の向上を図り、かつファインパターンを形成しても占積率を維持できる平面コイルを提供する。 - 特許庁 - The face identifying part 102 utilizes a partial space stretched in a space defined by nonlinear transformation with efficient learning to identify a face pattern with high accuracy.
この顔識別部１０２においては、非線形変換で定義される空間内に効率良い学習により張られた部分空間を利用して、顔パターンの識別を高精度に行う。 - 特許庁 - To provide a positive type photoresist composition capable of forming a space pattern excellent in heat resistance with good acid generation efficiency under a thick film condition of ≥3.0 μm and capable of forming a space pattern having ≤0.8 μm width and a high aspect ratio with good perpendicularity and to provide a board with a photosensitive film and a resist pattern forming method.
３．０μｍ以上の厚膜条件下で、耐熱性に優れ、酸の発生効率がよいスペースパターンの形成が可能で、幅０．８μｍ以下の高アスペクト比のスペースパターンを垂直性よく形成することが可能なポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板およびレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The vehicle speed transmission device 10 includes a vehicle speed sensor 7 detecting the speed of a vehicle, a pattern movement producing device 20 producing the movement of a low space frequency pattern 50 corresponding to vehicle speed, and liquid crystal displays 31, 32 indicating the movement of the low space frequency pattern in a view field peripheral portion of a driver 60.
車速伝達装置１０は、車両の速度を検出する車速センサ７と、車速に対応した低空間周波数パターン５０の運動を生成するパターン運動生成装置２０と、低空間周波数パターンの運動を運転者６０の視野周辺部に呈示する液晶ディスプレイ３１，３２と、を備えている。 - 特許庁 - This elastic pipe 4 expands to regulate the spacing between the pattern mask 1A and the vacuum frame 3, thereby suppressing the deformation and strain of the pattern mask 1A and the vacuum frame 3 when the pressure in the space M is reduced.
この弾性管４は、空間Ｍ内が減圧される際に膨張し、パターンマスク１Ａと真空枠３との間隔を規制し、パターンマスク１Ａや真空枠３の変形や歪を抑える。 - 特許庁 - As a result, even if a step between a line pattern and a space pattern in a mark image imaged in the focus state is small, the position of a mark can be detected accurately.
この結果、フォーカス状態において撮像されたマーク像におけるラインパターンとスペースパターンとの段差が小さい場合であっても精度良くマークの位置を検出することができる。 - 特許庁 - To provide revolving construction equipment which can reduce the installation space of a pattern changeover valve and can improve working efficiency at the time of inspection and maintenance of a control valve etc., by setting the pattern changeover valve at a high location by using a simple structure.
簡素な構造でパターン切換弁を高い位置に固定することにより、設置スペースを小さくし、また制御弁等を点検、整備するときの作業性を向上する。 - 特許庁 - The respective non-parallel pattern wiring parts 25 to 27 are extended from the rear end parts of the parallel pattern wiring parts 22 to 24 toward the base end parts of the films 4 to be increased in space and separated from each other.
非平行パターン配線部２５〜２７は平行パターン配線部２２〜２４の後端部からフィルム４の基端部方向に向けて互いに間隔が広くなるよう離間して延在する。 - 特許庁 - To provide a pattern molding board fixing device for molding which is simple in structure and reduced in occupancy space without providing a carrier plate, to/from which a pattern molding boardan is attached/detached, with an attaching/detaching actuator.
模型定盤が着脱されるキャリアプレートに着脱用アクチュエータを設けることなく、構造が簡単で省スペースの鋳型造型用模型定盤固定装置を提供する。 - 特許庁 - Since the line- and-space pattern P is smaller than the resolution limit of the reducing stepper, an image can not be focused through the pattern P onto a wafer, and thereby no problem is caused for exposure.
ラインアンドスペースパターンＰは、縮小投影露光装置の解像限界以下のピッチであるため、そのパターンＰを通してウェハ上に結像することがなく、露光に支障を与えることがない。 - 特許庁 - A photomask 16A for forming a nozzle pattern and a photomask 16B for forming a rear face opening pattern are prepared, and are registered beforehand in an up-down relationship with a space in which the substrate can be inserted being provided.
ノズルパターン形成用フォトマスク１６Ａと裏面開口パターン形成用フォトマスク１６Ｂを用意し、基板を挿入できる間隔を空けて予め上下関係を合わせておく。 - 特許庁 - A space between the ground pattern and the stab or the coupling electrode has a small relative dielectric constant, thereby preventing electrostatic coupling or field coupling even when the ground pattern is formed on the surface.
グランドパターンとスタブ若しくは結合用電極との間は、比誘電率が小さい空間となるので、グランドパターンを表面に形成しても静電結合若しくは電界結合しない。 - 特許庁 - Furthermore, the image processing apparatus of the present invention stores the dither pattern data arrayed on the front column of each row of the dither pattern while matching the data with a word boundary on the memory space of the threshold storage memory.
更に、本発明の画像処理装置によれば、ディザパターンの各行の最前列に配置されるディザパターンデータを閾値格納メモリのメモリ空間上のワードバウンダリに合わせて格納する。 - 特許庁
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