「pattern space」を含む例文一覧(761)

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  • To provide a fixing device for a pattern molding board of a mold, which is simple in structure and reduced in occupancy space without providing a carrier plate, to/from which a pattern molding board is attached/detached, with an attaching/detaching actuator.
    模型定盤が着脱されるキャリアプレートに着脱用アクチュエータを設けることなく、構造が簡単で省スペースの鋳型造型用模型定盤固定装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern molding board fixing device for molding which is simple in structure and reduced in occupancy space without providing a carrier plate, to/from which a pattern molding boardan is attached/detached, with an attaching/detaching actuator.
    模型定盤が着脱されるキャリアプレートに着脱用アクチュエータを設けることなく、構造が簡単で省スペースの鋳型造型用模型定盤固定装置を提供する。 - 特許庁
  • The main body mark part 5 is formed of a space pattern which has small line width enough to be resolved in a photosensitive film and formed by being bored in a light shield film, or a line pattern which is formed by leaving the light shield film.
    本体マーク部５は感光性膜に解像する線幅を有する、遮光膜を開孔したスペースパターン、又は遮光膜を残したラインパターンのいずれか一方で構成する。 - 特許庁
  • To provide revolving construction equipment which can reduce the installation space of a pattern changeover valve and can improve working efficiency at the time of inspection and maintenance of a control valve etc., by setting the pattern changeover valve at a high location by using a simple structure.
    簡素な構造でパターン切換弁を高い位置に固定することにより、設置スペースを小さくし、また制御弁等を点検、整備するときの作業性を向上する。 - 特許庁
  • The respective non-parallel pattern wiring parts 25 to 27 are extended from the rear end parts of the parallel pattern wiring parts 22 to 24 toward the base end parts of the films 4 to be increased in space and separated from each other.
    非平行パターン配線部２５〜２７は平行パターン配線部２２〜２４の後端部からフィルム４の基端部方向に向けて互いに間隔が広くなるよう離間して延在する。 - 特許庁
  • A type of kosode prevailing in the Kanbun era (from 1661 to 1672) includes a large streamlined and dyed pattern from shoulder to hem, and large blank space is left, and it is said a characteristic of Kanbun kosode is that letters are used as a pattern.
    寛文年間に流行したタイプの小袖で、肩から裾の方に大胆に流れるような模様をとり余白が大きく、また文字を模様として使うのも特徴とされる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The electromagnetic-shielding plate is equipped with a conductive geometrical pattern on a transparent board, where the pattern is formed of lines which are 10 to 80 μm in width and have a space of 50 to 250 meshes between them.
    線幅が１０〜８０μｍであり線間隔が５０〜２５０メッシュである導電性の幾何学パターンを透明基板の表面に有することを特徴とする電磁波シールド板。 - 特許庁
  • To provide a fine-pattern drawing method for drawing while uniformly keeping a coating space of drops even in not only a straight line but also a complex pattern profile mixed with a curve, and to provide its apparatus.
    直線のみならず曲線を交えた複雑なパターン形状においても、液滴の塗布間隔を均一にして描画する微細パターンの描画方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
  • To securely bring a ground pattern and a shield case into contact with each other with a simple structure without requiring any special space.
    簡単な構造で、特別なスペースを要することなく、又確実にグランドパターンとシールドケースとの接触が得られる様にする。 - 特許庁
  • The inspection pattern 24 has the same thickness as that of the wiring 23 and line to space ratios different at a plurality of points in the surface.
    検査パターン２４は、配線２３と同じ厚みを有し、面内の複数箇所でライン／スペース比を異ならせたパターンとする。 - 特許庁
  • To easily and quickly measure an average line width of a line-and-space pattern, without conducting measurement in a large number of positions.
    多数位置での計測を行うことなく、簡便にかつ高速にライン・アンド・スペースパターンの平均的な線幅計測を行う。 - 特許庁
  • To provide a kaleidoscope with which a visionary pattern can be observed by sufficiently securing the movement space of small pieces.
    小片の移動スペースを充分に確保することによって幻想的な模様を見ることができる万華鏡を提供する。 - 特許庁
  • To form the pattern of a film to be processed having a space between minute patterns exceeding resolution limit of a mask layer such as a resist.
    レジストなどマスク層の解像限界を超えた微細なパターン間スペースを有する被加工膜のパターンを形成可能にする。 - 特許庁
  • The photomask where a mask pattern is formed is provided as it is kept separate from the substrate as an object of exposure by a certain space.
    被露光基板支持ステージに支持させた被露光基板に対してマスクパターンが形成されたフォトマスクを間隔をあけて配設する。 - 特許庁
  • A thin and long space pattern 5 is formed to part of the aluminum sheet 4 on a lower side of the package to provide an island region 6 acting like an antenna.
    パッケージ下面のアルミシート４の一部に細長いスペースパターン５を形成してアンテナとなる島状領域６を設ける。 - 特許庁
  • The L/S pattern is arrayed with the line parts 12 with a width narrower than the escape depth at a prescribed interval, with the space part 14 therebetween.
    Ｌ／Ｓパターンはスペース部１４を挟んで、脱出深度より小さい幅のライン部１２を一定の間隔で配列している。 - 特許庁
  • The pattern forming material (ink) 90 is dripped into a space partitioned by partition walls 100 of an ink-pad 30, as shown in the figure (a).
    図２（ａ）のように、インキパッド３０の隔壁１００で仕切られた空間内にパターン形成材料（インキ）９０を滴下する。 - 特許庁
  • Consequently, the pattern is hardly bent even when the solution contacts to the space between the patterns and the surface tension force acts.
    これにより、前記パターンの間に前記溶液が接触して表面張力が作用しても、前記パターンは殆ど曲がらない。 - 特許庁
  • Now, using this pattern, I can fill in the blank space with the only number of blocks left out, which is three, thus solving the puzzle, creating a sort of threepronged arch.
    このパターンを使用して 空白を埋めることができる 3個のブロックの数だけ 取り残されてる このようにパズルを解く - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same.
    本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁
  • A user of an information processing system arranges a plurality of pattern images 2520 obtained by modeling objects existing in an immediate space along a lattice-like scene 2510 obtained by modeling the immediate space, and combination information of the arrangement of the pattern images is defined as the code data.
    情報処理システムの使用者が身近な空間をモデル化した格子状の場面２５１０に、その身近な空間内に存在するような物体をモデル化した複数の図柄イメージ２５２０を格子に沿って配置し、その配置の組み合わせ情報を暗証データとする。 - 特許庁
  • A receiving device which is arranged apart from the transmitting device with insufficient resolution reads the two-dimensional blink pattern of the low resolution space, and a receiving device with sufficient resolution reads the two-dimensional blink pattern which is mapped to the space with higher resolution.
    送信装置から離れて解像度が十分でない受信装置は低解像度空間の２次元点滅パターンを読み取り、また、解像度が十分な受信装置はより高解像度の空間にマッピングされた２次元点滅パターンを読み取ることができる。 - 特許庁
  • A signal light pattern and a reference light pattern are simultaneously displayed at the center of the space optical modulator and its surroundings respectively to apply a laser beam, and a direct light and a diffracted from the space optimal modulator are stacked by the converging lens to be recorded in the recording medium.
    空間光変調器の中央に信号光用パターンを、その周囲に参照光用パターンを同時に表示させてレーザ光を照射し、空間光変調器からの直接光と回折光を集光レンズで重ね合わせて記録媒体に記録する。 - 特許庁
  • A dither threshold indicated by the dot pattern table on the dither space corresponding to the coordinates obtained by rounding the address coordinates of the pixel under consideration on the dither space obtained by the addition and the pixel value of the pixel under consideration on the pixel space are compared.
    加算により得られたディザ空間上の注目画素のアドレス座標を丸め込んで得られた座標に対応するディザ空間上の網点パターンテーブルにより表されるディザ閾値と、画素空間上の注目画素の画素値とを比較する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can easily form a contact connected to a pattern of a processing film on an upper layer of the pattern of the processing film serving as a line-and-space pattern less than an exposure resolution limit of the photolithography method.
    フォトリソグラフィ法の露光解像限界未満のラインアンドスペースパターンとなる被加工膜のパターンの上層に、その被加工膜のパターンと接続するコンタクトを容易に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive composition having excellent roughness characteristics such as LWR (line width roughness), DOF (depth of focus) for an isolated space pattern (trench pattern) and exposure latitude, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
    ＬＷＲ等のラフネス特性、孤立スペースパターン（トレンチパターン）のＤＯＦ、及び露光ラチチュードに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an exposure system capable of exposing a mask pattern over the entire surface of a substrate to be exposed with a relatively small occupancy space.
    比較的小さい占有スペースで被露光基板の表面全体にマスクパターンを露光することのできる露光装置を提供する。 - 特許庁
  • To prevent a stripe pattern from occurring on a printed image due to a temperature difference between the guiding ribs of a paper guide and space between the respective guiding ribs.
    用紙ガイドの案内リブと各案内リブ間の空間との温度差によって印刷画像に縞模様が発生するのを防止する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a semiconductor device preventing an increase of manufacturing process time and capable of forming a fine line and space pattern.
    製造工程時間の増加を抑制して、微細なラインアンドスペースパターンを形成可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Therefore, there is no need of increasing space of installation of lamp devices even if the number of functions of light distribution pattern is increased, the number of lamp devices remaining the same.
    このために、配光パターンの機能が増えても、ランプ装置の数はそのままであり、ランプ装置の設置スペースを増やす必要がない。 - 特許庁
  • To provide electron beam transfer equipment which can reduce defocusing due to space charge effect and can form a pattern with higher accuracy and high throughput.
    空間電荷効果によるボケを低減でき、より高精度・高スループットでパターン形成できる電子ビーム転写装置を提供する。 - 特許庁
  • A silicon oxynitride film 12 is formed as a space control film on an aluminum wiring layer 13 to form a resist pattern 11 thereon.
    アルミニウム配線層１３上に配線のスペース制御膜としてシリコン酸窒化膜１２を形成し、その上にレジストパターン１１を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method and apparatus for determining a shuffling pattern based on a minimum signal-to-noise ratio in a double space-time transmit diversity system.
    二重時空間送信ダイバシティシステムで最小信号対雑音比を用いたシャッフリングパターン決定方法及び装置を提供する。 - 特許庁
  • An abnormal structure-determining means is constituted of the space frequency analyzing part 252 (pattern recognizing means) and the normality/abnormality-determining part 253.
    空間周波数解析部２５２（パターン認識手段）及び正常／異常判定部２５３は、異常構造判定手段を構成する。 - 特許庁
  • To provide a camera that can obtain a signal output necessary for a duty drive by a space-saving pattern shape, and also prevent an erroneous signal due to chattering, etc.
    省スペースなパターン形状にてデューティー駆動に必要な信号出力を得ると共に、チャタリング等による誤信号を防止する。 - 特許庁
  • After the second resist pattern 203 is removed, the sacrificial layer 9 is selectively removed to form a space part (a) below the movable part 15.
    第２レジストパターン２０３を除去した後、犠牲層９を選択的に除去して可動部１５の下部に空間部ａを形成する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing semiconductor apparatus having a pattern where the minimum width thereof is formed of isolated narrow space as small as possible.
    最小幅が可及的に小さい孤立した狭いスペースからなるパターンを有する半導体装置を製造することを可能にする。 - 特許庁
  • In one embodiment, invertible transformation from original mosaic pattern pixels to four new color channel space is enabled by using integer arithmetic.
    一実施形態では、元のモザイクパターンピクセルから新しい４チャネル色空間への変換を、整数演算で可逆にすることができる。 - 特許庁
  • The Pachinko game machine determines pattern objects as objects arranged in a virtual space from the variable showing patterns of discriminating information.
    パチンコ遊技機は、識別情報の可変表示パターンに基づいて、仮想空間内に配置するオブジェクトとして図柄オブジェクトを決定する。 - 特許庁
  • To provide a multilayer wiring board which can reduce warpage on reflow soldering even when no sufficient space for forming a dummy pattern is prepared.
    ダミーパターンを形成するスペースが充分にない場合でも、リフローはんだ付け時の反りが低減できる多層配線基板を提供する。 - 特許庁
  • An inlet 16 communicating the inside and the outside of the liquid crystal filling space 15 with the outside is formed through the seal pattern 14, and also atmospheric pressure sealing space parts 18 are formed on both sides of the inlet 16.
    シールパターン14を貫通して、液晶注入空間15の内側と外側とを連通する注入口16を形成するとともに、注入口16の両側に、大気圧の密閉空間部18を形成する。 - 特許庁
  • The second wiring pattern 26 has a first wire connection part 26b and a second wire connection part 26d which form a first element installation space and a second element installation space at both sides of the wire connection part 25b.
    第２配線パターン２６は、ワイヤ接続部２５ｂの両側に第１素子配設スペースと第２素子配設スペースを形成する第１ワイヤ接続部２６ｂと第２ワイヤ接続部２６ｄを有する。 - 特許庁
  • Since copper foil 36 is arranged in a part in which a through-hole 26 and a circuit pattern 20 are not formed, thereby a space portion is formed between the through-hole 26 and circuit pattern 20, and the lead frame 16.
    銅箔３６は、スルーホール２６及び回路パターン２０が形成されていない部位に配置さており、これにより、スルーホール２６及び回路パターン２０とリードフレーム１６の間に隙が形成される。 - 特許庁
  • The dictionary storage section stores a dictionary for pattern recognition in which the category of an original pattern to be recognized and the subspace of a feature vector space for each category are stored in association with each other.
    前記辞書記憶部には認識対象の本来のパターンのカテゴリと各カテゴリ毎に特徴ベクトル空間の部分空間とを対応付けて記憶したパターン認識用の辞書が記憶されている。 - 特許庁
  • For example, the acceptance pattern is the pattern at which the bags X_1 to X_10 are held concentratedly on the central side, with the bags X_2, X_9 held in the article holding space of the frontmost side and the rearmost side.
    例えばこの受入パターンは、最前方側及び最後方側の物品保持空間に袋Ｘ_１，Ｘ_１０が保持された上で、中央側に集中して袋Ｘ_２〜Ｘ_９が保持されるパターンである。 - 特許庁
  • To provide a pattern matching method for realizing high-speed pattern matching processing by using potential space data where a score value is set in accordance with a relative position relation from a figure template.
    図形テンプレートからの相対的な位置関係に応じてスコア値を設定したポテンシャル空間データを利用することにより、高速なパターンマッチング処理を実現したパターンマッチング方法を提供する。 - 特許庁
  • After the wiring pattern comprising light-shielding data is arranged in a second chip- forming region comprising transmissive data, the wiring pattern in enlarged, in both X and Y-directions, by at least the corresponding minimum space of a design rule.
    透光データからなる第２のチップ形成領域に、遮光データからなる配線パターンを配置した後、配線パターンを、Ｘ方向とＹ方向ともにデザインルールの最小スペース分以上拡大する。 - 特許庁
  • The conductor pattern 48 of the first conductive inductor and the conductor pattern 49 of the second conductive inductor are arranged face-to-face in the laminating direction separated from each other at a predetermined space by which they mutually induction-coupled to each other.
    第１のインダクタ導体の導体パターン４８と、第２のインダクタ導体の導体パターン４９は、互いに誘導結合する所定の間隔を隔てて積層方向に対向配置される。 - 特許庁
  • A minimum depth dimension D and the dimension of the longest horizontal displacement Y necessary for actual construction are determined for every exterior approach pattern, and the dimensions D and Y are compared with an arrangement space to select an optimum pattern.
    外構アプローチパターン別に、実際の構築に最低限必要な奥行き寸法(Ｄ)及び最長横ずれ寸法(Ｙ)を決定し、それらの寸法と配置スペースとを比較して最適パターンを選び出す。 - 特許庁
  • Conductive particles 42 moving to the wiring pattern gap 46 by thermocompression bonding are allowed to escape to the space 33c to prevent the conductive particles 42 from being too dense, thereby avoiding a wiring pattern short circuit.
    熱圧着により配線パターン間隙４６に移動する導電粒子４２を滞留空間３３ｃに逃がすことにより、導電粒子４２の過密化を防ぎ、配線パターンショートを回避する。 - 特許庁
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