「second-layer」を含む例文一覧(21457)

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  • The gas diffusion layer 32 is provided with a cathode gas diffusion base material, and a first porous layer 33a, as well as, a second porous layer 33b coated on the cathode gas diffusion layer in that order from a side of the catalyst layer 30.
    ガス拡散層32は、カソードガス拡散基材、およびカソードガス拡散基材に塗布された第1の微細孔層33aおよび第2の微細孔層33bを触媒層30の側からこの順で有する。 - 特許庁
  • The method of producing an MTJ film includes a step for forming a first ferromagnetic layer, a step for forming a tunnel barrier layer on the first ferromagnetic layer, and a step for forming a second ferromagnetic layer on the tunnel barrier layer.
    MTJ膜の製造方法は、第1強磁性層を形成する工程と、第1強磁性層の上にトンネルバリア層を形成する工程と、トンネルバリア層の上に第2強磁性層を形成する工程と、を含む。 - 特許庁
  • The semiconductor laser element 1 has a first conductivity clad layer 13, a second conductivity clad layer 17, and a quantum well active layer 15 sandwitched by the layer 13 and the layer 17.
    半導体レーザ素子1は、第1導電型クラッド層13と、第2導電型クラッド層17と、第1導電型クラッド層13と第2導電型クラッド層17とに挟まれた量子井戸活性層15とを有している。 - 特許庁
  • The coated carrier includes: a core particle containing a magnetic material; a first resin layer coating the core particle; a resin particle layer comprising resin particles fixed as a single layer to the first resin layer; and a second resin layer.
    コートキャリアは、磁性体を含むコア粒子と、前記コア粒子を被覆する第1樹脂層と、前記第1樹脂層に単層で固定される樹脂粒子からなる樹脂粒子層と、第2樹脂層とで構成される。 - 特許庁
  • A micro retarder film comprises: a first homogeneous layer 56; a microstructure phase layer 58 including a plurality of retardation patterns formed alternately on the first homogeneous layer; and a second homogeneous layer 59 formed on the microstructure phase layer.
    マイクロリターダフィルムは第1均質層56、第1均質上に交互に形成される複数の遅延パターンを備えるマイクロ構造フェーズ層58、およびマイクロ構造層上に形成される第2均質層59からなる。 - 特許庁
  • The semiconductor optical element according to one embodiment is provided with a first conductive type lower cladding layer, a second conductive type upper cladding layer and an active layer provided between the lower cladding layer and the upper cladding layer.
    本発明の一実施形態に係る半導体光素子は、第1導電型の下部クラッド層と、第2導電型の上部クラッド層と、下部クラッド層と上部クラッド層の間に設けられた活性層とを備えている。 - 特許庁
  • The composite plating layers consist of three layers: a first layer comprising an electroless nickel plating layer, a second layer obtained by dispersing ceramics particles in electroless nickel plating, and a third layer comprising an electroless nickel plating layer.
    複合メッキ層は、無電解ニッケルメッキ層から成る第一層、無電解ニッケルメッキ中にセラミックス粒子を分散させた第二層、および無電解ニッケルメッキ層から成る第三層を有する三層構成を成す。 - 特許庁
  • A lower protective layer 2, a second lower protective layer 3, a recording layer 4 making reversible phase change between amorphous and crystalline phases, a upper protective layer 5, and a reflection layer 6 mainly composed of Al are sequentially laminated on a transparent plate 1.
    透明基板1上に、下部保護層2、第2の下部保護層3、非晶質相と結晶相の可逆的相変化をする記録層4、上部保護層5、Alを主要元素とする反射層6の順に積層する。 - 特許庁
  • To transit a third optical transmission layer deposited on a stripping layer of a substrate for transfer via a second optical transmission layer by a transparent adhesive agent on a first optical transmission layer deposited on a signal layer of a disk substrate.
    ディスク基板の信号層上に成膜した第1光透過層上に、透明接着剤による第2光透過層を介して転写用基板の剥離層上に成膜した第3光透過層を移行させる。 - 特許庁
  • In the p-type channel FET region 3, a buffer layer 15 being in contact with a bottom surface of a channel layer 16 has a single-layer structure which is constituted of only a second buffer layer 15B having a wider bandgap than the channel layer 16.
    p型チャネルFET領域3において、チャネル層16の下面に接するバッファ層15が、チャネル層16よりも広いバンドギャップを有する第2バッファ層15Bだけで構成された単層構造となっている。 - 特許庁
  • The nonmagnetic layer 27 composed of Ru or the like is formed on a free magnetic layer 26, and a ferromagnetic layer 28 and a second antiferromagnetic layer 29 are arranged on both side ends 27a of the nonmagnetic layer 27.
    フリー磁性層26上にはRuなどで形成された非磁性層27が形成され、前記非磁性層27の両側端部27a上には強磁性層28及び第2反強磁性層29が設けられている。 - 特許庁
  • An optical conductive layer including a first electric charge generation layer and a second electric charge generation layer which are a pair of electric charge generation layers, and an electric charge transportation layer sandwhiched between the electric charge generation layers is laminated with a display layer having storage nature.
    一対の電荷発生層である第1電荷発生層及び第2電荷発生層並びにこれらに挟まれた電荷輸送層を含む光導電層と、記憶性を有する表示層とを積層する。 - 特許庁
  • A magnetic memory comprises: a magnetic recording layer 10; a reference layer 12 which is connected to the magnetic recording layer 10 via a non-magnetic layer 11; and first and second magnetization fixing layers 19 and 20 which are arranged under the magnetic recording layer 10.
    磁気メモリは、磁気記録層10と、非磁性層11を介して磁気記録層10に接続された参照層12と、磁気記録層10より下方に設置された第1、2磁化固定層19、20とを具備する。 - 特許庁
  • A p-type contact layer 16 is formed of a three-layered structure stacked from the side of a p-type clad layer 15 in the order of a first p-type contact layer 16a, a second p-type contact layer 16b, and a third p-type contact layer 16c.
    p型コンタクト層16は、p型クラッド層15側から第1p型コンタクト層16a、第2p型コンタクト層16b、第3p型コンタクト層16cの順に積層された3層構造である。 - 特許庁
  • This memory element has: a first conductive layer including a plurality of insulators; an organic compound layer over the first conductive layer including the insulators; and a second conductive layer over the organic compound layer.
    本発明の記憶装置の一は、複数の絶縁物を含む第1の導電層と、複数の絶縁物を含む第1の導電層上に有機化合物層と、有機化合物層上に第2の導電層とを有する。 - 特許庁
  • The coating layer 3 is constituted of a first resin layer 31 and a second resin layer 32 located on the distal end side of the first resin layer 31 and made of a material more flexible than the material constituting the first resin layer 31.
    被覆層3は、第1樹脂層31と、第1樹脂層31の先端側に位置し、第1樹脂層31の構成材料より柔軟性に富む材料で構成された第2樹脂層32とで構成されている。 - 特許庁
  • The electrode layer 7 is provided with a 1st layer 7a arranged so as to overlap with a part of upper surface of the MR element 5 through a protecting layer and a second layer 7b arranged so as to partially overlap with this first layer 7a.
    電極層7は、保護層を介してMR素子5の上面の一部に重なるように配置された第1層7aと、この第1層7aに部分的に重なるように配置された第2層7bとを有している。 - 特許庁
  • The adhesive layer 14 has a structure sequentially laminating a first adhesion layer with a high adhesive property with the electrolyte membrane 11, a barrier layer, a strength retaining layer, and a second adhesion layer with a high adhesive property with the connection member 20.
    接着層14は、電解質膜11との接着性の高い第1密着層,バリア層,強度保持層および接続部材20との接着性の高い第2密着層を順に積層した構成とする。 - 特許庁
  • In the capacitor, a first buffer layer 31, a second buffer layer 32 and a main electrode layer 33 are formed on both principal planes of a dielectric board 30 in order from a lower layer by a dry film layer formation method such as sputtering.
    整合用コンデンサは、誘電体基板30の両主面に下層から第1緩衝層31、第2緩衝層32及び主電極層33がスパッタリング等の乾式薄膜形成法によって形成されている。 - 特許庁
  • With an etchant passage 89 reaching to the first layer left, a cover resist 87 is arranged at a resist space 81, an etchant is acted on the first layer through the etchant passage, and the first layer, second layer and third layer are removed at a time.
    第1層に達するエッチャント通路89を残して、レジストスペース81にカバーレジスト87を配置し、エッチャント通路を通して第1層にエッチャントを作用させ、第1層、第2層及び第3層を一度に除去する。 - 特許庁
  • An SiGe mixed crystal layer 14 is formed on a first Si layer 13 of an SOI substrate 10, and a second Si layer 16 which has a thickness of 55 to 550 nm thicker than the thickness of the first Si layer is formed on the SiGe mixed crystal layer.
    SOI基板10の第1Si層13上にSiGe混晶層14を形成し、SiGe混晶層上に第1Si層の厚さより厚い55〜550nmの厚さの第2Si層16を形成する。 - 特許庁
  • The non-magnetic seed layer has a first seed layer made of amorphous materials, and a second seed layer made of a material having an fcc structure and formed between the first seed layer and the non-magnetic intermediate layer.
    非磁性シード層は、非晶質材料で形成された第1のシード層と、第1のシード層と非磁性中間層との間に設けられておりfcc構造を有する材料で形成された第2のシード層を有する。 - 特許庁
  • The organic photoelectric conversion element 20 has a pixel electrode layer 21, an organic photoelectric conversion layer 23, a first electron blocking layer 24, a second electron blocking layer 25, and a transparent electrode layer 26 laminated in order.
    本発明は、画素電極層21、有機光電変換層23、第1の電子ブロック層24、第2の電子ブロック層25及び透明電極層26が順次積層された有機光電変換素子20である。 - 特許庁
  • The mounting layer 11, the first thermal stress softening layer 12, the second thermal stress softening layer 13, the third thermal stress softening layer 14, and the heat radiating layer 16 are integrally formed by a discharge plasma sintering.
    そして、これらの搭載層11と第1熱応力緩和層12と第2熱応力緩和層13と第3熱応力緩和層14と放熱層16は放電プラズマ焼結により一体的に形成されている。 - 特許庁
  • The bimetal cap layer may be an alloy of the two metals or may consist of a base layer of the first metal deposited on the reflective layer and a surface layer of the second metal on the base layer.
    バイメタルキャップ層は、2つの金属の合金であっても、または、反射層上に堆積された第1の金属からなるベース層とベース層上の第2の金属からなる表面層とから構成されてもよい。 - 特許庁
  • At least one of the anode side catalyst layer and the cathode side catalyst layer has a first layer arranged close to the electrolyte membrane and a second layer arranged farther away from the electrolyte membrane than the first layer.
    アノード側触媒層及びカソード側触媒層のうちの少なくとも一方は、電解質膜に近い側に配置された第1層と、第1層よりも電解質膜に遠い側に配置された第2層とを有する。 - 特許庁
  • A multilayer tube comprises; from inside to outside, an interior layer of a polyolefine, a first intermediate layer based on an adhesive, a second intermediate layer of ethylene-vinylidene alcohol, a third intermediate layer of a polyamide and an exterior protection layer.
    内側から外側に向かって、ポリオレフィンの内層と、接着剤を基にした第1中間層と、エチエンビニリデンアルコールの第2中間層と、ポリアミドの第3中間層と、外側の保護層とを含んで成る多層チューブ。 - 特許庁
  • A semiconductor device 1 comprises a local wiring layer 14 (first wiring layer) provided on a semiconductor substrate 10 and a global wiring layer 18 (second wiring layer) provided on the local wiring layer 14.
    半導体装置1は、半導体基板10上に設けられたローカル配線層14(第1の配線層)、およびローカル配線層14上に設けられたグローバル配線層18(第2の配線層)を備えている。 - 特許庁
  • In a red laser region; a lower side clad layer 22, an active layer 23, a first upper side clad layer 24, an etching stop layer 25, and a second upper side clad layer 26 that is to be a ridge section, are sequentially laminated on the substrate 10.
    赤色レーザ領域においては、基板10上に下側クラッド層22、活性層23、第1上側クラッド層24、エッチングストップ層25、及びリッジ部となる第2上側クラッド層26が順次積層されている。 - 特許庁
  • The belt layer is composed of a first belt layer 16A where a plurality of belt layer units 26 having a constant cord spacing are arranged and a second belt layer 16B of the outside in the tire radial direction of the first belt layer 26.
    ベルト層は、コード間隔が一定とされた複数のベルト層ユニット26が配列されてなる第1ベルト層16Aと、第1ベルト層26のタイヤ径方向外側の第2ベルト層16Bと、で構成される。 - 特許庁
  • In the method of forming the semiconductor layer in which a second semiconductor layer 103 having a second ion bonding degree larger than a first ion bonding degree is formed on the surface of a first semiconductor layer 102 having the first ion bonding degree, the second semiconductor layer 103 is formed on the surface of the first semiconductor layer 102 present on the side where the second semiconductor layer 103 is formed while irradiated with electrons under a vacuum.
    第1のイオン結合度を有する第1の半導体層102の表面に、第1のイオン結合度よりも大きな第2のイオン結合度を有する第2の半導体層103を形成する半導体層形成方法において、第2の半導体層103を形成する側に在る第1の半導体層102の表面に、真空中で電子を照射しながら、第2の半導体層103を形成する。 - 特許庁
  • A second isolation layer 115 is provided in a region on the second substrate 100 to which the functional region is transferred.
    第2の基板100上の機能性領域が移設される領域には、第2の分離層115が設けられる。 - 特許庁
  • Substantially equal voltages are applied to the first and second electrodes of the second conductive layer of the resistive touch screen 70.
    実質的に等しい電圧は、抵抗式タッチスクリーン70の第二の導電層の第一と第二の電極に印加される。 - 特許庁
  • When the semiconductor device is mounted to the wiring board, the second wiring layer is deformed in order to close the second through holes.
    半導体装置を配線基板に搭載する際に、第2の配線層を変形させて、第2の貫通孔をふさぐ。 - 特許庁
  • An image forming light beam 40 reflected on the light bulb 31 passes the air layer 35 and is emitted from a second surface 41 of the second prism 33.
    ライトバルブ31を反射した画像形成光40は空気層35を通過し第2プリズム33の第2面41から出射する。 - 特許庁
  • By checking every point within in the search range, a second binary layer search generates a second level motion vector.
    サーチ範囲内のあらゆる点をチェックすることにより第二の二値層サーチは第二のレベルのモーションベクタを生成する。 - 特許庁
  • The fluorescent layer includes a first fluorescent material which radiates second light and a second fluorescent material which radiates third light.
    蛍光層は2次光を放射する第1蛍光材料及び3次光を放射する第2蛍光材料を含む。 - 特許庁
  • A first region 14 is formed inside the second semiconductor layer 13 and includes first and second conductivity-type well regions 15, 16.
    第1の領域14は、第2の半導体層13内に形成され、第1及び第2導電型のウェル領域15,16を有する。 - 特許庁
  • The reflection part 11 is the second multilayer film 4 that is exposed from the third multilayer film 6 and the second intermediate layer 5.
    反射部11は、第3の多層膜6及び第2の中間層5から露出する第2の多層膜4である。 - 特許庁
  • A second opening part 7 is provided in the insulating layer 5 existing on the second main surface 2b of the semiconductor substrate 2.
    半導体基板2の第2の主面2bに存在する絶縁層5には第2の開口部7が設けられている。 - 特許庁
  • A second wiring layer 9 is provided to be connected to the second main surface 2b through the opening part 7.
    第2の配線層9は第2の開口部7を介して第2の主面2bと接続するように設けられている。 - 特許庁
  • A second opened part exposing the upper surface of the epitaxially grown layer is formed in the first and second spacer layers.
    次に、第1スペーサ層及び第2スペーサ層にエピタキシャル成長層の上面を露出する第2開孔部を形成する。 - 特許庁
  • Second layer wiring 6 connected, at its one end, with the relay circuit 9 extends in the second scribed line 12b.
    中継回路9にその一方端が接続された第2層配線6が、第2スクライブライン12b内に延びている。 - 特許庁
  • For example, the second substrate is provided with a plurality of address electrodes, extending in a second direction, and each phosphor layer.
    例えば、第2基板には、第2方向に延在する複数のアドレス電極と、蛍光体層とが設けられている。 - 特許庁
  • First and second trenches 3, 4 are formed on the surface of the second semiconductor layer so as to sandwich the gate electrode therebetween.
    ゲート電極を間に挟むように第2半導体層の表面内に第1及び第2トレンチ3、4が形成される。 - 特許庁
  • The liquid crystal display comprises a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate.
    液晶ディスプレイは、第一基板、第二基板、及び、第一基板と第二基板間に配置された液晶層と、からなる。 - 特許庁
  • Each of first and second transparent insulation layers (30) is interposed between the first lamination layer and the second lamination body.
    第1及び第2積層体の各間には夫々、第1及び第2透明絶縁層(30)が挿入されている。 - 特許庁
  • At the same time, the second spacer, made of the second insulating layer, is formed on the side of each bit line at the lower portion of the first spacer.
    これと同時に、第1スペーサ下部の各ビットラインの側面に第2絶縁層からなる第2スペーサを形成する。 - 特許庁
  • Thus, when the warehouse body 19 explodes, scattering of the second soil layer 32 is suppressed by the second sheet body 24.
    従って、倉庫本体19の爆発時においては、第2シート体24によって第2土層32の飛散が抑制される。 - 特許庁
  • The secondary battery includes a circuit board including a first pad portion and a second pad portion; at least one first electrode layer including a first electrode portion and a first tab portion connected to the first pad portion; at least one second electrode layer including a second electrode portion and a second tab portion connected to the second pad portion; and a separator located between the first electrode layer and the second electrode layer.
    本発明の二次電池は、第1パッド部と第2パッド部を含む回路基板と、第1電極部と前記第1パッド部に連結された第1タッブ部を含む少なくとも一つ以上の第1電極層と、第2電極部と前記第2パッド部に連結された第2タッブ部を含む少なくとも一つ以上の第2電極層と、前記第1電極層及び第2電極層の間に位置したセパレーターと、を含む。 - 特許庁
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