「second-layer」を含む例文一覧(21457)
＜前へ 1 2 .... 84 85 86 87 88 89 90 91 92 .... 429 430 次へ＞- The via resistance is controlled by adjusting only the thickness of the second barrier layer 12.
第２のバリア層１２の膜厚のみを調節することでビア抵抗を制御する。 - 特許庁 - The second reflection layer 23 contains silver (Ag) and has 10 to 30 nm film thickness.
第２反射層２３は、銀（Ａｇ）を含有し、且つ、膜厚が１０〜３０ｎｍである。 - 特許庁 - Furthermore, a flattening insulating film 35 is formed on the second frame forming layer 34.
また、前記第２フレーム形成層３４上に平坦化絶縁膜３５を形成した。 - 特許庁 - The width of a line-shaped overlap inspection mark pattern 2 in a second layer is set larger than the width of a line-shaped production pattern 1 in the second layer within a range from 0.85 μm-1.0 μm.
ライン状の２層目の重ね合わせ検査マークのパターン２の幅を、ライン状の２層目の本番パターン１の幅より、０．８５μｍ〜１．０μｍの範囲で大きくする。 - 特許庁 - In the second layer, a binding portion and a complementary binding portion are formed.
第２層において、綴じ合わせ部分と相補的綴じ合わせ部分が形成される。 - 特許庁 - Then, a second release liner 32 is laminated on the radio wave absorbing layer 5.
そして、電波吸収体層５の表面に第２の剥離ライナー３２を積層する。 - 特許庁 - Movement of at least one of the first optical layer and the second optical layer modulates the reflectivity of the device between the first position and the second position.
前記第１の位置と前記第２の位置との間の前記第１の光層及び第２の光層の少なくとも一方の動きは、前記デバイスの反射性を変調させる。 - 特許庁 - After that, a cap layer is formed over the second insulating material and the conductive lines.
上記処理後に、第２の絶縁膜と導電膜の上にキャップ層を形成する。 - 特許庁 - Afterwards, the second metal layer is allowed to have two different thicknesses by using a photolithographic process.
一次露光現像プロセスを利用して、第二金属層に異なる厚さを持たせる。 - 特許庁 - The lighting device passes electricity to the light-emitting diodes 1 to have them emit light by electrically connecting the first lead 2 to the first conductive layer 4 and the second lead 2B to the second conductive layer 5.
照明装置は、第１リード２Ａを第１導電層４に、第２リード２Ｂを第２導電層５に電気接続して発光ダイオード１に通電して発光させる。 - 特許庁 - The liquid crystal device is a horizontal electric-field type, and has a liquid crystal display panel, a first phase difference layer and a second phase difference layer between first and second polarizing plates.
この液晶装置は、横電界方式であり、第１及び第２の偏光板の間に、液晶表示パネル、第１の位相差層、第２の位相差層を有する。 - 特許庁 - A part of a conductive layer composing the first gate line included in the display apparatus overlaps with a second conductive layer composing the second gate line.
また、本発明の表示装置が含む第１のゲート線を構成する導電層の一部は、第２のゲート線を構成する第２の導電層と重なることを特徴とする。 - 特許庁 - A second wiring layer 26 is formed from a conductive material disposed in the wiring groove 23.
配線溝内に配設された導電材から、第２配線層２６が構成される。 - 特許庁 - One of the first and/or second conductive buses may further be connected to the first electrode layer and/or the second electrode layer.
第１の伝導性母線及び／又は第２の伝導性母線のうちの１つの伝導性母線は、第１の電極層及び／又は第２の電極層にさらに接続することができる。 - 特許庁 - The particulate layer 14 is constructed of a first and a second filling sections 18, 20.
微粒子層１４は、第１および第２の充填部１８、２０で構成される。 - 特許庁 - A first p-type inversion area 5a is formed in the first window layer 4a, and a second inversion area 5b is formed in the second window layer 4b.
第１の窓層４ａ内には第１のｐ型反転領域５ａが形成され、第２の窓層４ｂ内には第２のｐ型反転領域５ｂが形成されている。 - 特許庁 - A hard coat layer 10 is disposed between the first and second receiving layers 8, 14, to prevent the first and s second images 6, 12 from flowing into opposite receiving layer sides.
ハードコート層１０は第１及び第２の受容層８，１４の間に設けられ、第１及び第２の画像６，１２が他方の受容層側に対流することを防いでいる。 - 特許庁 - Also the above second base layer comprises Cr based alloy of a body centered cubic structure.
また、前記第２下地層は、体心立方構造のＣｒ系合金からなる。 - 特許庁 - After finishing the application of the second voltage, weak light is irradiated onto the display layer of a region for displaying the first tone value in the second liquid crystal layer.
第２の電圧の印加が終了した後で、第２の液晶層において第１の階調値を表示させる領域に対しては弱い光を表示層に照射する。 - 特許庁 - A second semiconductor element is bonded on the first semiconductor element 5 through a second adhesive layer (insulating adhesive layer) 9 whose thickness is 50 μm or more.
第１の半導体素子５上には、厚さが５０μｍ以上の第２の接着剤層（絶縁性接着剤層）９を介して第２の半導体素子が接着されている。 - 特許庁 - The phase shift part 9 is the first multilayer film 2 that is exposed from the third multilayer film 6, the second intermediate layer 5, the second multilayer film 4, and the first intermediate layer 3.
位相シフト部９は、第３の多層膜６、第２の中間層５、第２の多層膜４及び第１の中間層３から露出する第１の多層膜２である。 - 特許庁 - The first conductive part is connected to the first electrode, and includes a first column part 31a covering a part 12p of the second semiconductor layer while apart from the second semiconductor layer.
第１導電部は、第１電極に接続され、第２半導体層と離間しつつ第２半導体層の一部１２ｐを覆う第１柱部３１ａを含む。 - 特許庁 - Then, the well region is formed utilizing a second window of the mask layer, the second window being provided by a subsequent etch of the mask layer having the first window.
次いで、ウェル領域がマスク層の第２の窓を利用して形成され、この第２の窓は第１の窓を有するマスク層を引き続いてエッチングすることによって設けられる。 - 特許庁 - The liquid crystal optical lens has a first and second element substrates, and a liquid crystal layer.
液晶光学レンズは、第１および第２素子基板と、液晶層とを備える。 - 特許庁 - Moreover, the second laser structure 13 comprises a contact layer 134 at the top thereof and a second ridge 137 including a projected part 133B of an AlGaInP clad layer 133.
また、第二レーザ構造体１３は、頂部にコンタクト層１３４を備えるとともに、AlGaInPクラッド層１３３の凸部１３３Ｂを備えた第二リッジ部１３７を有する。 - 特許庁 - The fibers 23 can be unfailingly prevented from being exposed on the surface of the second insulation layer 22.
第２絶縁層２２の表面で繊維２３の露出は確実に回避される。 - 特許庁 - Next, an inter-conductive oxide layer is formed in the first trenches and second trench.
次に、第１のトレンチ及び第２のトレンチに導電層間酸化層を形成する。 - 特許庁 - Thereafter, a second layer insulation film 22 of application glass is formed by an SOG method.
その後ＳＯＧ法によって、塗布ガラスである第２層絶縁膜２２を形成する。 - 特許庁 - The liquid crystal display panel includes a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer.
液晶表示パネルは、第１基板と、第２基板と、液晶層と、を備えている。 - 特許庁 - Moreover, the intermediate portion is interposed between the first and second portions of the metal layer.
中間部分は金属層の第一と第二外側部分との間に配置される。 - 特許庁 - A dielectric layer 30 is formed on a steep slope face (second slope face) 14b.
急斜面部（第２斜面）１４ｂには、誘電体層３０が形成されている。 - 特許庁 - After forming the film of the barrier metal layer F2, the barrier metal layer F2 on the second bank B2 is removed together with the second bank B2 by lift off method to form the conductive film pattern F.
バリアメタル層Ｆ２の成膜後、リフトオフ法により、第２のバンクＢ２とともに第２のバンクＢ２上のバリアメタル層Ｆ２を除去し、導電膜パターンＦを形成する。 - 特許庁 - The method also comprises the step of forming a first electrode 15 on the second N-type semiconductor layer 7.
そして、第２Ｎ型半導体層７上に第１電極１５を形成する。 - 特許庁 - The first scintillator of the first layer loses only a small portion of energy in a beta ray, and a second scintillator, the thickness of a second layer of which is 0.1 to 1 mm loses almost all of the energy.
ベータ線は１層目の第１のシンチレータではごく一部のエネルギーのみ失い、そのほとんどのエネルギーを２層目の厚さ０．１〜１ｍｍの第２のシンチレータで失う。 - 特許庁 - The second magnetized fixed layer includes a lamination structure, where even-numbered magnetic layers are subjected to diamagnetic coupling sequentially, and the magnetic layer at the end abuts on the second domain.
第２磁化固定層は、偶数層の磁性体層が順番に反強磁性結合した積層構造を含み、その端部の磁性体層が上記第２領域と接触する。 - 特許庁 - The antistatic layer 4 is formed by applying second ink similar to the first ink, wherein conductive oxide nanoparticles are dispersed in a resin emulsion, onto the light control layer 2 and hardening the second ink.
帯電防止層４は、第１のインクと同系の樹脂エマルジョンに導電性酸化物ナノ粒子を分散させた第２のインクを調光層２上に塗布、硬化させてなる。 - 特許庁 - The second reflective layer 40 is formed by dielectric multilayered films, on which layer a first dielectric film 42 and a second dielectric film 44 are laminated alternately.
この第２反射層４０は、誘電体多層膜によって形成され、屈折率の異なる第１誘電体膜４２、第２誘電体膜４４が交互に積層される。 - 特許庁 - The heat radiation layer 123 is composed of a second copper-containing material containing copper.
この放熱層１２３は、銅を含む第２の銅含有材料から構成される。 - 特許庁 - A first representation bit B(1, J) is recorded onto a first layer of the storage medium, the second representation bit B(2, J) is recorded onto a second layer of the storage medium, etc.
第１の表示ビットＢ（１，Ｊ）をその記憶媒体の第１の層に記録し、第２の表示ビットＢ（２，Ｊ）をその記憶媒体の第２の層に記録するなどである。 - 特許庁 - When a contact hole to the peripheral circuit is made after a second layer interlayer insulation film 67a is formed on the entire surface, the second layer interlayer insulation film on the dummy pattern is also removed by etching.
２層目層間絶縁膜６７ａを全面に成膜後、周辺回路へコンタクトホールを形成する際に、ダミーパターン上の２層目層間絶縁膜もエッチング除去する。 - 特許庁 - The second electrode layer 17 is formed from a transparent conductive material, and the side of the second electrode layer 17 or the side opposite to the substrate 12 is the direction of light emission.
第２電極層１７は透明な導電性物質で形成され、第２電極層１７側、即ち基板１２と反対側が発光の取出し方向となっている。 - 特許庁 - The back plate electrode 26 is provided on top of a second surface of the luminous layer 24.
背面電極２６は、発光層２４の第２の面上に重ねて設けられる。 - 特許庁 - A second liquid crystal alignment layer 20 is formed by applying a solution containing a second lyotropic liquid crystalline dye 13 to the first liquid crystal alignment layer which has been subjected to the rubbing treatment.
ラビング処理の施された第１液晶配向層の上に、第２リオトロピック液晶性色素１３を含む溶液を塗布し、第２液晶配向層２０を形成する。 - 特許庁 - The three-layer metallic plate comprises a first magnetic body, an aluminum plate, and a second magnetic body.
３層の金属板は、第１の磁性体、アルミニウム板、第２の磁性体である。 - 特許庁 - The translucent layer 12 has the interface of the first and second parts.
透光性層１２は、第１の部分および第２の部分の界面を有している。 - 特許庁 - On the second resin layer 24, a first through hole 26 overlapping with the wiring 20 and a second through hole 28 for exposing a metal layer 22 partially are formed.
第２の樹脂層２４には、配線２０とオーバーラップする第１の貫通穴２６と、金属層２２の一部を露出させる第２の貫通穴２８と、が形成されている。 - 特許庁 - The second coating layer contains at least one of a zinc titanate and a cerium oxide.
第２のコーティング層は、チタン酸亜鉛又は酸化セリウムの少なくとも１つを含む。 - 特許庁 - The cathode-side electrode 22 consists of: a second electrode catalyst layer 22a abutting on the other face 18b of the solid polymer electrolyte membrane 18; and a second gas diffusion layer 22b.
カソード側電極２２は固体高分子電解質膜１８の他方の面１８ｂに当接する第２電極触媒層２２ａ及び第２ガス拡散層２２ｂを設ける。 - 特許庁 - A second conductor 106 having the memory layer can be thus formed.
このように、メモリ層を有する第２の導電体１０６を形成することができる。 - 特許庁 - Next, a second resin layer 5 is formed on a first surface 10 of the substrate 1.
次いで基板１の第１表面１０上に第２樹脂層５を形成する。 - 特許庁
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