ultrathin layerとは 意味・読み方・使い方

This fluororesin composite is obtained by providing the surface of a fluororesin molded product with an ultrathin film of metal, metal oxide and/or metal chalcogenide or an ultrathin film of a polymer made from a polymerizable organic material and then by either adhesion of a material other than the fluororesin via an adhesive layer on the above ultrathin film or directly providing a coating layer on the ultrathin film.例文帳に追加

弗素樹脂成型品の表面に、金属、金属酸化物及び／又は金属カルコゲナイドが極薄膜として施されており、又は、重合性有機材料が重合した重合体の極薄膜として施されており、該極薄膜上に接着剤層を介して弗素樹脂以外の材料が接着されてなるか、または、接着剤層を介さず直接、塗料層が設けられてなることを特徴とする弗素樹脂複合体。 - 特許庁

A substrate A for flexible printed board using ultrathin copper foil is formed by bonding an ultrathin sheet of copper foil 1-5 μm thickness and a film 2 together via an adhesive layer 3.例文帳に追加

極薄銅箔を用いたフレキシブルプリント配線板用基板Ａであって、厚さ１〜５μｍの極薄銅箔１とフィルム２とが接着剤層３を介して貼合されているものである。 - 特許庁

The transparent gas barrier member 1 is provided with an ultrathin plate glass 11 of a thickness of 10 μm to 70 μm and a transparent resin layer 12 attached to at least one face of the ultrathin plate glass 11.例文帳に追加

本発明に係る透明ガスバリア性部材１は、厚み１０μｍ〜７０μｍの極薄板ガラス１１と、当該極薄板ガラス１１の少なくとも一方の面上に貼着された透明樹脂層１２とを備える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, by which an ultrathin and fine interface layer is formed which separates a high-k film and a silicon substrate.例文帳に追加

高誘電体膜とシリコン基板とを分離する、極薄かつ緻密な界面層を形成する半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating an ultrathin SOI MOS transistor having an upper silicon layer thinner than 20 nm.例文帳に追加

２０ｎｍより薄い上部シリコン層を有する超薄膜ＳＯＩ ＭＯＳトランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine powder of silver-plated copper, which has an ultrathin plating layer of silver formed on the surface of an ultrafine powder of copper.例文帳に追加

超微細な銅微粉の表面に極薄い銀メッキ層が形成された銀メッキ銅微粉を提供する。 - 特許庁

The release layer between the carrier foil and the ultrathin copper foil is preferably a hydration oxide layer containing Cr, Cr alloy or/and a hydration oxide layer containing Cr, Ni, Fe or their alloy layer or/and their hydration oxide layer.例文帳に追加

上記キャリア箔と極薄銅箔との間の剥離層は、Ｃｒ、Ｃｒ合金または／及びＣｒを含む水和酸化物層、Ｎｉ，Ｆｅまたはこれらの合金層または／及びこれらの水和酸化物層であることが好ましい。 - 特許庁

The semiconductor layer 11 includes an n-type semiconductor layer, an active layer thereupon, and a p-type semiconductor layer further thereupon, and the Ni ultrathin film 12 is formed in contact with the p-type semiconductor layer.例文帳に追加

半導体層１１はｎ型半導体層、その上の活性層およびその上のｐ型半導体層を含み、このｐ型半導体層に接してＮｉ超薄膜１２を形成する。 - 特許庁