ふぃるむおんどの英語

温度センサ４１は、間接的にストレッチフィルムＦｍの温度を測定する。例文帳に追加

The sensor 41 indirectly measures the temperature of the stretch film Fm. - 特許庁

フィルム温度センサ及び温度測定用基板例文帳に追加

FILM TEMPERATURE SENSOR AND SUBSTRATE FOR TEMPERATURE MEASUREMENT - 特許庁

チップオンフィルム用フィルムキャリアおよびそれを用いた半導体装置例文帳に追加

FILM CARRIER FOR CHIP-ON-FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING IT - 特許庁

温度ｔ℃におけるフィルムの縦方向（ＭＤ）の長さＬＭＤ（ｔ）に基づいて、温度Ｔ℃におけるフィルムの縦方向の熱歪み率ＲＭＤ（Ｔ）を、 ＲＭＤ（Ｔ）＝｛[ＬＭＤ（Ｔ）−ＬＭＤ（３５）]／ＬＭＤ（３５）｝×１００（％） と定義する。例文帳に追加

The lengthwise thermal distortion factor RMD (T) of a film at a temperature T°C is defined as RMD (T)={[LMD (T)-LMD (35)]/LMD (35)}×100(%), based on a length LMD (t) in a lengthwise direction (MD) of a film at temperature t°C. - 特許庁

温度ｔ℃におけるフィルムの縦方向（ＭＤ）の長さＬＭＤ（ｔ）に基づいて、温度Ｔ℃におけるフィルムの縦方向の熱歪み率ＲＭＤ（Ｔ）を、 ＲＭＤ（Ｔ）＝｛[ＬＭＤ（Ｔ）−ＬＭＤ（３５）]／ＬＭＤ（３５）｝×１００（％）と定義する。例文帳に追加

The lengthwise thermal distortion factor RMD (T) of a film at a temperature T°C is defined as RMD (T)={[LMD (T)-LMD (35)]/LMD (35)}×100(%), based on a length LMD (t) in a lengthwise direction (MD) of a film at a temperature t°C. - 特許庁

フィルム２１の温度を（Ｔ＋１０）（℃）以上（Ｔ＋８０）（℃）以下とする。例文帳に追加

The temperature of the film 21 is set to (T+10) (°C) or higher and (T+80) (°C) or lower. - 特許庁

本システムは、３Ｄグラフィックスパイプラインを含むグラフィックス＆音声プロセッサと、音声ディジタル信号プロセッサとを含む。例文帳に追加

This system includes the graphic and sound processor including a 3-D graphic pipeline, and a sound digital signal processor. - 特許庁

０．５≦（エンボスロールの表面温度−フィルムのガラス転移温度）／（フィルムの融点−フィルムのガラス転移温度）≦０．７５・・・（１）例文帳に追加

The inequality (1): 0.5≤((the surface temperature of the emboss roll)-(the glass transition temperature of the film))/((the melting point of the film)-(the glass transition temperature of the film))≤0.75. - 特許庁