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ぶいえるえむの英語

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日英・英日専門用語辞書での「ぶいえるえむ」の英訳

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「ぶいえるえむ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 2760



例文

MALDI質量分析装置例文帳に追加

MALDI MASS SPECTROMETRY DEVICE - 特許庁

酸化物4は、例えばMgAl_2O_4、MnAl_2O_4、CoAl_2O_4、NiAl_2O_4からなる。例文帳に追加

The oxide 4 is made of, for example, at least one of MgAl_2O_4, MnAl_2O_4, CoAl_2O_4 and NiAl_2O_4. - 特許庁

即ち、パルスの電圧振幅V=VM−VX(<VM−VL)となる。例文帳に追加

Namely, a pulse voltage amplitude of V=VM-VX (<VM-VL) is established. - 特許庁

オーリスタチンペプチドとして、Me Val−Val−Dil−Dap−ノルエフェドリン(MMAE)およびMe Val−Val−Dil−Dap−Phe(MMAF)が挙げられ、これらは調製され、マレイミドカプロイル−val−cit−PABを含めた、種々のリンカーを介してリガンドに結合される。例文帳に追加

Auristatin peptides including Me Val-Val-Dil-Dap-Norephedrine (MMAE) and Me Val-Val-Dil-Dap-Phe (MMAF) are prepared and attached to ligands through various linkers, including maleimidocaproyl-val-cit-PAB. - 特許庁

LR−DIMM方式のVLPタイプのLR−DIMMの新規の配線方法を提案する。例文帳に追加

To provide a new wiring method of an LR-DIMM of a VLP type of an LR-DIMM system. - 特許庁

MgO又はY_2 O_3 を含有する化合物としては、mMgO・nSiO____2 、mMgO・nAl_2 O_3 、lMgO・mAl_2 O_3 ・nSiO_2 、mY_2 O____3 ・nAl_2 O_3 等を用いることができる。例文帳に追加

As the compound containing the MgO or Y2O3, mMgO.nSiO2, mMgO.nAl2O3, lMgO.mAl2O3.nSiO2, mY2O3.nAl2O3, and the like can be used. - 特許庁

例文

T=(PL・VL)・τ/(PM・VM) 0.03<T<180000例文帳に追加

T=(PL.VL).τ/(PM.VM), 0.03<T<180000. - 特許庁

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「ぶいえるえむ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 2760



例文

即ち、パルスの電圧振幅V=VM−VLとなる。例文帳に追加

Namely, a pulse voltage amplitude of V=VM-VL is established. - 特許庁

MAGa2のMobile IP代理処理部14は、MIP−MN5からNetLMM−MN1宛のパケット、又はNetLMM−MN1からMIP−MN5宛のパケットを受信した場合には、Mobile IP代理機能を行なう。例文帳に追加

A Mobile IP proxy processing unit 14 of an MAG a2 performs Mobile IP proxy processing when receiving a packet addressed to a NetLMN-MN 1 from an MIP-MN 5 or a packet addressed to the MIP-NM 5 from the NetLMM-MN 1. - 特許庁

全てのパターン部2により、Lmin_x、Lmin_xのN倍、Lmax_x、Lmin_y、Lmin_yのM倍、Lmax_yの各寸法が網羅されている。例文帳に追加

All the pattern portions 2 cover respective sizes which are Lmin_x, an N multiple of Lmin_x and Lmax_x, and Lmin_y, an M multiple of Lmin_y and Lmax_y. - 特許庁

MALDIイオン源を備えた質量分析装置およびMALDIイオン源用サンプルプレート例文帳に追加

MASS SPECTROMETER EQUIPPED WITH MALDI ION SOURCE, AND SAMPLE PLATE FOR MALDI ION SOURCE - 特許庁

Psr=0.55−C−0.2Si+0.1Mn+6.3S−0.2Mo−1.4Ti−1.6Al−7.3B ・・・・(1)Psv=0.75Si+0.37Mn+0.21Mo+1.27Ti+0.94Al+1.59B ・・・・(2)例文帳に追加

(1), and Psv=0.75Si+0.37Mn+0.21Mo+1.27Ti+0.94Al+1.59B (2). - 特許庁

放電ガスとしてキセノンを用いて、Co_2MnAl、Co_2MnSi、CoCrAl、NiMnSb、SrLaMnO、PtMnSb、Mn_2VAl、Fe_2VAl、Co_2FeSi、Co_2MnGe、Co_2FexCr(1-x)Alなどのホイスラー合金のターゲットをスパッタリングして被成膜体に成膜する。例文帳に追加

The film is deposited on an object to be deposited by sputtering the target of the Heusler's alloy of Co_2MnAl, Co_2MnSi, CeCrAl, NiMnSb, SrLaMnO, PtMjSb, Mn_2VAl, Fe_2VAl, Co_2FeSi, Co_2MnGe, and Co_2FexCr(1-x)Al, using xenon as a discharge gas. - 特許庁

算出部32は、検出圧力PMbと推定値PMcalとの差ΔPMbを算出する。例文帳に追加

A calculation part 32 calculates difference ΔPMb between the detection pressure PMb and the estimation value PMcal. - 特許庁

例文

算出部31は、検出圧力PMaと推定値PMcalとの差ΔPMaを算出する。例文帳に追加

The calculation part 31 calculates difference ΔPMa between the detection pressure PMa and the estimation value PMcal. - 特許庁

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