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まんせいきょぜつはんのうの英語
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「まんせいきょぜつはんのう」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 33327件
慢性拒絶反応抑制剤例文帳に追加
CHRONIC REJECTION INHIBITOR - 特許庁
心臓移植の 慢性拒絶反応に ついての研究です。例文帳に追加
It's research regarding chronic rejections of heart transplants. - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
また、前記誘電体形成用ガラス粉末を800〜950℃の範囲で焼成して製造した誘電体。例文帳に追加
The dielectric is produced by burning the glass powder for forming dielectric in the range of 800-950°C. - 特許庁
臓器移植後の慢性拒絶反応の検査法例文帳に追加
EXAMINATION FOR CHRONIC REJECTION AFTER ORGAN TRANSPLANTATION - 特許庁
恵善尼(えぜんに、生没年不詳)は、6世紀後半の尼僧。例文帳に追加
Ezen-ni (year of birth and death unknown) was a Buddhist nun who lived in the late 6th century.発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
半導体基板上の絶縁膜及びその製造方法例文帳に追加
INSULATION FILM ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND METHOD FOR FORMING THE SAME - 特許庁
また、1日の摂取量あたり、前記微生物の菌体破砕物を2.5〜100000mgの範囲で含有する前記記載の睡眠改善組成物。例文帳に追加
The invention further provides the above sleep improving composition containing the disintegrated cell of the microorganism in an amount of 2.5-100,000 mg per daily dose of the composition. - 特許庁
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「まんせいきょぜつはんのう」の部分一致の例文検索結果
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肝移植後の拒絶反応の予防または治療用医薬組成物例文帳に追加
MEDICINAL COMPOSITION FOR PROPHYLAXIS OR TREATMENT OF REJECTION AFTER LIVER TRANSPLANTATION - 特許庁
前記塗膜の形成は、前記半導体基板上に前記液状組成物を載せ、前記半導体基板を回転させることにより行うことが好ましい。例文帳に追加
The formation of the coating film is preferably performed by placing the liquid composition on the semiconductor substrate, and rotating the semiconductor substrate. - 特許庁
ここで、磁性体焼結粉末/ガラス粉末の質量比を80/20〜90/10の範囲とする。例文帳に追加
Here, a mass ratio of the magnetic body sintered powder/the glass powder is within a range of 80/20 to 90/10. - 特許庁
ここで、磁性体焼結粉末/ガラス粉末の質量比を80/20〜90/10の範囲とする。例文帳に追加
Here, the mass ratio of the magnetic sintered powder/glass powder is set in the range of 80/20 to 90/10. - 特許庁
半導体基板上に第1の絶縁膜を形成する。例文帳に追加
A first insulating film is formed on a semiconductor substrate. - 特許庁
電磁鋼板の絶縁皮膜形成用処理液例文帳に追加
TREATMENT LIQUID FOR USE IN FORMING INSULATION FILM OF ELECTROMAGNETIC STEEL SHEET - 特許庁
電磁鋼板の絶縁皮膜形成用処理液例文帳に追加
TREATMENT LIQUID FOR DEPOSITING INSULATING FILM OF ELECTRICAL STEEL SHEET - 特許庁
絶縁膜の形成方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置例文帳に追加
METHOD OF FORMING INSULATING FILM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SUBSTRATE TREATMENT EQUIPMENT - 特許庁
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