部分構造式<chemistry num="5"> </chemistry>で表されるイミン類を還元して部分構造式<chemistry num="6"> </chemistry>で表されるアミン類を製造するにあたり、実質的に無溶媒で、かつ還元剤としてアミンボランを用いることを特徴とするアミン類の製造法。例文帳に追加

The method for producing amines with a partial structure represented by formula 2 by reducing imines with a partial structure represented by formula 1 comprises using substantially no solvent, and using an amine-borane as a reducing agent. - 特許庁

ナトリウムボロヒドリドとアミン類を有機溶媒又は含水有機溶媒中、陽イオン交換樹脂の存在下反応させることを特徴とするアミンボランの製造方法。例文帳に追加

Sodium borohydride is reacted with an amine in an organic solvent or a hydrous organic solvent in the presence of a cation exchange resin. - 特許庁

アミン類の塩酸塩を用いることなく、溶媒としては通常安価に入手できる溶媒を使用し、簡便な操作によりアミンボランを製造する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing amineborane by a simple operation by using a usually inexpensively obtainable solvent as a solvent without using an amine hydrochloride. - 特許庁

アミン類の塩酸塩を用いることなく、酸及びアミン類そのもの又はその水溶液を出発原料とし、溶剤としては通常取り扱いやすい溶剤と水との混合溶液を使用し、簡便な操作によりワンポットでアミンボランを製造する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing an amine borane by using an acid and amines themselves or an aqueous solution thereof as starting materials, and a usually easily treatable mixed solution of a solvent and water as a solvent by a simple operation by one pot. - 特許庁

例文

凹部を有する被めっき物を、ヒドラジン類、ヒドロキシルアミン類、次亜リン酸類、亜リン酸類、水素化ホウ素化合物、アミンボラン化合物、亜硫酸類、チオ硫酸類、アスコルビン酸類及び糖類からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分を含有する水溶液からなる前処理液に接触させた後、硫酸銅めっき液を用いて電気銅めっき法によって銅めっきを析出させることを特徴とする硫酸銅めっき方法。例文帳に追加

The object to be plated having the recessed part is contacted with a pretreatment liquid consisting of an aqueous solution containing at least one kind of component selected from the group consisting of hydrazines, hydroxyl amines, hypophosphorous acids, phosphorous acids, boron hydride compounds, amine borane compounds, sulfurous acids, thiosulfuric acids, ascorbic acids and saccharides, and after that, copper plating is deposited by an electrocopper plating method using a copper sulfate plating solution. - 特許庁