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アーク走査の英語

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英訳・英語 arc scan


JST科学技術用語日英対訳辞書での「アーク走査」の英訳

アーク走査


「アーク走査」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 6



例文

アークsinθ補正レンズを用いずに光走査装置を構成しつつ、画像品質を保つこと。例文帳に追加

To provide an optical scanner in which picture quality is maintained while composing the scanner without using an arcsine theta correction lens. - 特許庁

アークサインθレンズ13は、上記走査振幅が基準値であるとき、レーザ光Lが感光体ドラム3を主走査方向に等速で走査するように調整されている。例文帳に追加

When the scanning amplitude is a reference value, the laser light L is adjusted so as to scan the photosensitive 3 at a constant speed in a main scanning direction. - 特許庁

振動ミラー11に反射されたレーザ光Lは、所定の走査振幅で走査されてFアークサインθレンズ13を通過し、反射鏡14を介して感光体ドラム3に達する。例文帳に追加

In the optical scanner, laser light L reflected on an oscillating mirror 11 passes through an F arcsine θ lens 13 by being scanned in prescribed scanning amplitude and reaches a photosensitive drum 3 through a reflection mirror 14. - 特許庁

アーク放電の電極1の走査に追随して、焦点を溶接対象物Mの厚み中心から裏面まで、あるいは、裏面下方に位置するように調節したレーザ光2を、前記アーク放電によって形成された溶融池に向けて走査する。例文帳に追加

While following the scanning of an electrode 1 conducting arc discharging, a laser beam 2 whose focus is adjusted between the center in thickness of an object M to be welded and the rear surface thereof or is positioned under the rear surface is used to scan a molten pool formed by the arc discharging. - 特許庁

共振スキャナなど往復動作を行う光偏向器の走査速度の均一化を、fθレンズもしくはアークサインレンズ等の光学的な補正を行わず、電気的に補正することを目的とする。例文帳に追加

To electrically correct the uniformization of the scanning speed of a light deflector performing reciprocation such as a resonant scanner without performing the optical correction of an fθ lens or an arc sine lens or the like. - 特許庁

例文

陰極物質のプラズマビーム70を成膜基板31まで導いて膜を形成する真空アーク蒸着処理において、外部の制御装置100からの制御信号101に基づいて、磁場を印加してプラズマビーム70を走査し、成膜基板31の基板面内に描くビームの軌跡が回転対称となるようにした。例文帳に追加

In vacuum arc deposition treatment where a plasma beam 70 of a cathode substance is introduced into a film depositing substrate 31 to deposit a film, based on a control signal 101 from an outside control system 100, a magnetic field is applied to scan the plasma beam 70, and the loci of of the beam drawn inside the substrate face of the film depositing substrate 31 are made rotatively symmetrical. - 特許庁

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