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イオン電流密度の英語
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英訳・英語 ion current density
「イオン電流密度」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 96件
大電流密度イオン源例文帳に追加
イオン電流密度を向上させるアークチャンバを持つイオン注入装置例文帳に追加
ION INJECTION DEVICE HAVING ARC CHAMBER FOR IMPROVING ION CURRENT DENSITY - 特許庁
イオントフォレーシス用の電極構造体及び電流密度測定装置例文帳に追加
ELECTRODE STRUCTURE FOR IONTOPHORESIS AND CURRENT DENSITY MEASURING DEVICE - 特許庁
プラズマ処理において被処理物品へのイオン照射量を示すイオン電流密度を、イオン電流計測器に頼ることなく、プローブ計測器を利用して、プラズマ密度や電子温度と併せて計測できるイオン電流密度計測方法及び装置を提供する。例文帳に追加
To provide an ion current density measuring method and a device for measuring ion current density indicating the amount of ion irradiation to a treated article in plasma treatment, along with plasma density and an electron temperature using a probe measuring instrument without depending on an ion current measuring instrument. - 特許庁
イオンビームの電流密度分布測定方法及び同測定方法を用いたイオン注入方法及びイオン注入装置例文帳に追加
MEASURING METHOD OF CURRENT DENSITY DISTRIBUTION OF ION BEAM, ION INJECTION METHOD USING THE SAME AND ION INJECTION DEVICE - 特許庁
溶融金属とノズル壁を構成する酸素イオン伝導性耐火材との間に流す電流を、イオン電流密度として0.1A/cm^2以上1.0A/cm^2以下とする。例文帳に追加
The current supplied between the molten metal and the oxygen ion conductive refractory constituting the nozzle wall, is made to 0.1 A/cm2-1.0 A/cm2 ion current density. - 特許庁
本発明は、イオンビーム電流密度10mA/cm^2 以上、イオンビームの均一性±3%以内、イオンビーム電流密度の再現性(経時変化)±1%以内で、有効径の大きいイオンビームを発生するイオン源を提供する。例文帳に追加
To provide an ion source that generates an ion beam having a large effective diameter with an ion beam current density of 10 mA/cm2 or more, an ion beam uniformity of ±3% or less and a reproducibility (change with the passage of time) of ion beam current density of ±1% or less. - 特許庁
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「イオン電流密度」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 96件
イオンビームの電流密度を上げることなく、成膜スピードの向上を可能とする。例文帳に追加
To improve a deposition speed without increasing the current density of an ion beam. - 特許庁
高電流密度イオン浸透装置及びこの装置を使用する眼の治療方法例文帳に追加
HIGH CURRENT DENSITY IONTOPHORETIC DEVICE AND EYE TREATMENT BY USING THE DEVICE - 特許庁
また、マイコン30は、電流検出器40が測定した透過電子の電流密度を基にして、イオン銃20が放出するアルゴンイオンの電流密度を制御する。例文帳に追加
A microcomputer 30 controls the current density of the argon ions emitted by the ion gun 20, based on the current density of transmitted electrons measured by a current detector 40. - 特許庁
ビーム通過領域のガス圧を低減し、高い電流密度の負イオンを高効率で生成する負イオン源例文帳に追加
NEGATIVE ION SOURCE FORMING NEGATIVE ION OF HIGH CURRENT DENSITY IN HIGH EFFICIENCY BY REDUCING GAS PRESSURE OF BEAM PASSAGE REGION - 特許庁
イオン源から近距離であっても、常に均一な電流密度を有するイオンビームを得ることができるようにする。例文帳に追加
To provide an ion beam having constantly uniform current density even at a short distance from an ion source. - 特許庁
イオンビーム3によって光学素子材料5を加工するイオンビーム加工において、まず、絶縁性材料からなる開口部材を有する電流密度測定手段6に、イオンビーム3と電子ビーム8を照射してイオンビーム3の電流密度分布を測定する。例文帳に追加
In ion beam processing using ion beams 3 for processing an optical element material 5, a current density measuring means 6 having an opening member formed of an insulating material is first irradiated with the ion beams 3 and electron beams 8 to measure the current density distribution of the ion beams 3. - 特許庁
そしてこれにより電極間距離をプラズマ密度に応じて実質的に異ならせ、イオンビームの発散性を制御して均一な電流密度を有するイオンビームを得る。例文帳に追加
The ion beams having the uniform current density by thereby differentiating a distance between electrodes in response to the plasma density, the devergence of the ion beams is controlled. - 特許庁
イオン源のプラズマ生成部内におけるプラズマ密度分布が均一でない場合でも、イオンビームのY方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くする。例文帳に追加
To provide an ion implantation device in which a uniformity of a beam current density distribution in a Y direction of the ion beam can be improved even if a plasma density distribution is not uniform in a plasma generator of an ion source. - 特許庁
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