サブレゾの英語

ピッチ基準のサブレゾル−ション補助構造体（ＳＲＡＦ）設計例文帳に追加

PITCH-BASED DESIGN OF SUB-RESOLUTION ASSIST FEATURE (SRAF) - 特許庁

フォトマスク・レイアウトにサブレゾルーション・アシスト・フィーチャを組み込む方法例文帳に追加

METHOD OF BUILDING SUB-RESOLUTION ASSIST FEATURE TO PHOTOMASK LAYOUT - 特許庁

チェッカーボードアレイ及びこれを囲むサブレゾリューション・アシスト位相パターンを備える位相シフトマスクである。例文帳に追加

A phase-shift mask has a checkerboard array and a sub-resolution assist phase pattern surrounding the checkerboard array. - 特許庁

反射マスクは、鏡面反射のパワーの量を減少させるために吸収領域に加えられたサブレゾリューション・テクスチャを有する。例文帳に追加

A reflective mask has a sub-resolution texture applied to absorbing area to reduce the amount of power in specular reflection. - 特許庁

このサブレゾリューション・アシスト位相領域Ｒ‘は、フォトリソグラフによるフォトレジスト加工の際の、不所望なエッジ効果を軽減するために形成される。例文帳に追加

The sub-resolution assist phase regions R' are formed to mitigate undesirable edge effects in photolithographically photoresist processing. - 特許庁

このサブレゾリューション・アシスト位相領域Ｒ’は、対応する位相シフト領域Ｒの隣に配設されているとともに、当該位相シフト領域Ｒとの間で１８０度の位相差を有している。例文帳に追加

Sub-resolution assist phase regions R' reside adjacent to the corresponding phase-shift regions R and have a relative phase difference of 180 degrees thereto. - 特許庁

集積回路マイクロリソグラフィ用の孤立および密集マスキング・フィーチャを結像する場合に、近接効果を低減するために、サブレゾルーション結像補助バーの配置を決めるための改良方法を提案する。例文帳に追加

To provide an improvement method for determining the placement of sub-resolution imaging assisting bars to reduce the proximity effects when imaging isolated and dense masking features for integrated circuit microlithography. - 特許庁