proximity effectsとは 意味・読み方・使い方

To provide a photolithography mask for optically transferring a pattern formed in the mask onto a substrate and for negating the optical proximity effects.例文帳に追加

その中に形成されたパターンを基板上に光学的に転写し、かつ光近接効果を打ち消すためのフォトリソグラフィ・マスクを提供すること。 - 特許庁

A setting of the exposure parameter in every exposure process is adjusted according to deviations in optical proximity effects of respective areas in a semiconductor substrate, whereby a deviation in the optical proximity effect of an exposure area is compensated for, resulting in a fixed and uniform optical proximity effect.例文帳に追加

半導体基板におけるそれぞれの露光エリアの光学近接効果の偏差に応じて、毎度の露光プロセスの露光パラメータ設定を調整することによって、露光エリアの光学近接効果の偏差を補償し、固定で均一な光学近接効果の結果を得られる。 - 特許庁

To make it possible to enlarge and narrow down content distribution destinations from the point of view of proximity by extracting a potential user from whom advertisement effects equivalent to those of a target user can be expected based on proximity between users.例文帳に追加

ユーザ間の近接度に基づいてターゲットユーザと同等の広告効果を期待できる潜在的なユーザを抽出でき、近接度という観点からコンテンツ配信先を拡大及び絞り込み可能にすること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that reduces impact due to light proximity effects and easily enables wiring including pitch conversion in NAND flash memories.例文帳に追加

本発明は、ＮＡＮＤ型フラッシュメモリにおいて、光近接効果による影響を減少でき、ピッチ変換を含む配線の引き回しを容易に可能とするものである。 - 特許庁

First, a procedure 1 is an exposure condition measuring step of previously measuring relationships between a storage period under storage environment and the influences of exposure sensitivity and proximity effects for chemically amplified resist.例文帳に追加

（手順1）まず、化学増幅型レジストについて、保管環境下での保管期間と露光感度および近接効果の影響の関係を予め測定する露光条件測定工程である。 - 特許庁

To provide an improvement method for determining the placement of sub-resolution imaging assisting bars to reduce the proximity effects when imaging isolated and dense masking features for integrated circuit microlithography.例文帳に追加

集積回路マイクロリソグラフィ用の孤立および密集マスキング・フィーチャを結像する場合に、近接効果を低減するために、サブレゾルーション結像補助バーの配置を決めるための改良方法を提案する。 - 特許庁

To enable electron-beam-lithography on the whole surface of a disk with precision, evenness, and optimal exposure, by correcting an decrease in exposure in the contour section of an element set area of a desired pattern caused by a difference between proximity effects.例文帳に追加

近接効果の差による所望のパターンの素子集合領域の輪郭部における露光量の低減を補正し、ディスクの全面にパターンを高精度にかつ均一に最適露光量による電子ビーム描画が行えるようにする。 - 特許庁

In this case, the nozzle 20 is disposed in proximity to the driving wheel 14 and the height of the nozzle 20 is controlled correspondingly to the vertical position control of the driving wheel 14, therefore fertilizer application depth can be controlled stably without having effects on a power transmission system, pipings for fertilizer application system, etc.例文帳に追加

この場合、施肥ノズル２０と駆動輪１４とが近接配置されていて、駆動輪１４の上下位置調節に対応して施肥ノズル２０の高さも調節されるので、施肥深さ調節が安定的に行えると共に、動力伝動系や施肥系のパイピング等に変化が生じない。 - 特許庁