Proximity effect (electron beam lithography)とは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR REDUCING PROXIMITY EFFECT OF ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY例文帳に追加

電子ビーム・リソグラフィの近接効果低減方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PROXIMITY EFFECT IN ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY例文帳に追加

電子ビーム描画装置における近接効果補正方法 - 特許庁

To provide a method for reducing a proximity effect of electron beam lithography.例文帳に追加

電子ビーム・リソグラフィの近接効果低減方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain an electron beam lithography method by which the operation that is performed for finding proximity effect correction data can be performed at a high speed.例文帳に追加

近接効果補正データを求めるための演算を高速に行うことができる電子ビーム描画方法を実現するにある。 - 特許庁

Pattern writing by the electron beam lithography system is controlled by single proximity effect control function and fogging effect control function coupled in one data processing step using the same algorithm as that being executed in a standard proximity correction unit.例文帳に追加

電子ビームリソグラフィーシステムによるパターン描画は、標準の近接補正装置で実行される同じアルゴリズムを用いて、１データ処理ステップで、結合した単一の近接効果制御関数及びかぶり効果制御関数によって制御される。 - 特許庁