| 例文 (8件) |
サブレゾを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
フォトマスク・レイアウトにサブレゾルーション・アシスト・フィーチャを組み込む方法例文帳に追加
METHOD OF BUILDING SUB-RESOLUTION ASSIST FEATURE TO PHOTOMASK LAYOUT - 特許庁
チェッカーボードアレイ及びこれを囲むサブレゾリューション・アシスト位相パターンを備える位相シフトマスクである。例文帳に追加
A phase-shift mask has a checkerboard array and a sub-resolution assist phase pattern surrounding the checkerboard array. - 特許庁
反射マスクは、鏡面反射のパワーの量を減少させるために吸収領域に加えられたサブレゾリューション・テクスチャを有する。例文帳に追加
A reflective mask has a sub-resolution texture applied to absorbing area to reduce the amount of power in specular reflection. - 特許庁
このサブレゾリューション・アシスト位相領域Ｒ‘は、フォトリソグラフによるフォトレジスト加工の際の、不所望なエッジ効果を軽減するために形成される。例文帳に追加
The sub-resolution assist phase regions R' are formed to mitigate undesirable edge effects in photolithographically photoresist processing. - 特許庁
このサブレゾリューション・アシスト位相領域Ｒ’は、対応する位相シフト領域Ｒの隣に配設されているとともに、当該位相シフト領域Ｒとの間で１８０度の位相差を有している。例文帳に追加
Sub-resolution assist phase regions R' reside adjacent to the corresponding phase-shift regions R and have a relative phase difference of 180 degrees thereto. - 特許庁
集積回路マイクロリソグラフィ用の孤立および密集マスキング・フィーチャを結像する場合に、近接効果を低減するために、サブレゾルーション結像補助バーの配置を決めるための改良方法を提案する。例文帳に追加
To provide an improvement method for determining the placement of sub-resolution imaging assisting bars to reduce the proximity effects when imaging isolated and dense masking features for integrated circuit microlithography. - 特許庁
リソグラフィ投影システムの最適に構成された輪帯照明光源に対応するサブレゾルーション補助構造体（ＳＲＡＦ）を効率的に構成するために、集積回路（ＩＣ）設計レイアウトを描画するマスクを設計する方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method to design a mask for integrated circuit (IC) design layout drawing in order to efficiently configure sub-resolution assist features (SRAFs) corresponding to an optimally structured annular illumination light source of a lithography projection system. - 特許庁
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