スパッター粒子の英語

スパッター粒子軌道のシミュレーション方法例文帳に追加

METHOD SIMULATING SPUTTER PARTICLE ORBIT - 特許庁

微細な構造を有する基板に対して、堆積行程において粒子レベルのシミュレーションを効率的に行うスパッター粒子軌道のシミュレーション方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of simulating sputter particle orbits for efficient simulation in the particle level of a depositing process on a substrate having a fine structure. - 特許庁

この方法によって加工されたスパッターターゲットは、透磁率約９未満、サイズが約７０〜１６０μｍの範囲の粒子サイズ及び平均サイズ約１３０μｍを有する。例文帳に追加

The resultant target has about <9 magnetic permeability, about 70-160 μm particle size, and about 130 μm average particle size. - 特許庁

粒子発生過程と飛翔散乱行程を図１（ａ）に示すフローに従い、予めスパッターチャンバー内の任意の点、又は基板上特定位置において計算しておき、その入射方向、即ち入射する各粒子の水平、垂直入射角分布、及びその角度でのエネルギー分布関数を求めておく。例文帳に追加

The particle generating process and the flying and scattering process are preliminarily calculated according to the flow chart shown in (a) at any points in a sputtering chamber or at specified positions on a substrate so as to obtain the incident angle of particles, namely the distribution of horizontal and vertical incident angle of entering particles, and to obtain the energy distribution function at the angle. - 特許庁