プラズマ重合法の英語

液晶分子を配向する配向膜の形成方法であって、プラズマ化学気相法を用いて基板上にプラズマ重合膜８６ａを形成するプラズマ重合膜形成工程と、紫外光を照射することによって上記プラズマ重合膜８６ａに凹凸を形成し、これによって上記プラズマ重合膜を上記配向膜とする紫外光照射工程とを有する。例文帳に追加

The method for forming an alignment layer to align liquid crystal molecules includes: a plasma polymerization film forming step of forming a plasma polymerization film 86a on a substrate by using a plasma chemical vapor phase method; and a UV ray irradiation step of irradiating the plasma polymerization film 86a with UV rays to form a rugged pattern and rendering the plasma polymerization film as an alignment layer. - 特許庁

プラズマ誘導重合による親水性燃料電池バイポーラ板コーティングの作成方法例文帳に追加

FORMING METHOD OF HYDROPHILIC FUEL CELL BIPOLAR PLATE COATING BY PLASMA INDUCTION POLYMERIZATION - 特許庁

この保護層は、プラズマ重合法によりナフタレンを重合して得られる絶縁性のナフタレン重合体薄膜である。例文帳に追加

The protecting layer is an insulating naphthalene polymeric thin film which is obtained by polymerizing naphthalene by plasma polymerization. - 特許庁

プラズマ重合されたサイクロ核酸（ＰＰＣＨｅｘ）と、アミン機能性グループを有するプラズマ重合されたエチレンダイアミン（ＰＰＥＤＡ）を誘導結合型プラズマ化学気相蒸着法を用いて蒸着するタンパク質チップ基板の製造方法を構成する。例文帳に追加

In this manufacturing method of a protein chip substrate, plasma polymerized cyclohexane (PPCHex) and plasma polymerized ethylenediamine (PPEDA) having an amine functional group are deposited by using an inductively coupled plasma chemical vapor-phase deposition method. - 特許庁

半導体基板上に，低い比誘電率，高い耐熱性，耐吸湿性及び高い酸素プラズマ抵抗を有するシリコン重合体絶縁膜を形成するための方法がプラズマCVD装置に適用される。例文帳に追加

A method for forming a silicone polymer insulation film having a low dielectric constant, a high heat resistance, a high humidity resistance and a high oxygen plasma resistance on a semiconductor substrate 4 is applied to a plasma CVD apparatus. - 特許庁

容量結合型プラズマＣＶＤ装置により半導体基板上１に炭化水素系重合体膜を形成する方法が与えられる。例文帳に追加

Disclosed is a method for forming a hydrocarbon-containing polymer film on a semiconductor substrate 1 by a capacitively-coupled plasma CVD apparatus. - 特許庁

プラズマ重合に利用することができ、より低い誘電率の膜を形成し得る化合物および該化合物の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a compound utilizable for plasma polymerization and capable of providing a film having lower dielectric constant; and to provide a method for producing the compound. - 特許庁

パターン側壁に堆積したプラズマ重合膜の剥離性に優れた半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a semiconductor device whereby a plasma polymer-film deposited on the side wall of a pattern of the semiconductor device can be peeled therefrom excellently. - 特許庁