ムステインの英語

レーザー光やイオンビームを用いたフォトマスクの黒欠陥部の修正方法において生じる、ガラス基板ダメージ、ガリウムステイン、リバーベッド、透過率低下等の問題のない修正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a correction method which is free of problems, such as damages to glass substrate, gallium stain, riverbed and lowering of transmittance, generated in a method of correcting black defects, in a photomask which utilizes laser light or ion beam. - 特許庁

遮光層及び位相シフト層の黒欠陥のない、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層の厚み低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift mask having no black defect in a light shielding layer or in a phase shift layer and no decrease in the transmittance due to gallium stain, and no change in the phase difference due to a decrease in the thickness of the phase shift layer. - 特許庁

マスク検査後の欠陥修正を短時間で行うことができるようにして、所謂ガリウムステインの発生を抑制するとができるマスク欠陥の修正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for a correcting mask defect which can control the generation of so-called gallium stains by making it possible to rapidly correct the defect after mask inspection. - 特許庁

遮光層の黒欠陥は除去され、位相シフト層の黒欠陥は発生させず、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層パターンの厚みの低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a halftone type phase shift mask in which black defects of a light shield layer are removed and black defects in a phase shift layer are not generated and transmissivity is not deduced due to gallium stain and phase difference due to decrease in thickness of a phase shift layer pattern is not varied. - 特許庁