低気圧グロー放電の英語

半導体素子の製造工程における低誘電率層間絶縁薄膜の製造において、大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して発生させ、安定してグロー放電プラズマ処理を行う方法を用いる製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor element, using a method for stably glow discharge plasma treatment by continuously generating a uniform glow discharge plasma under a pressure close to the atmospheric pressure, when manufacturing a low permittivity interlayer insulating thin film in the manufacturing step of the element. - 特許庁

半導体素子における低誘電率層間絶縁薄膜の形成において、大気圧近傍の圧力下で対向電極間に原料ガスを導入し、該対向電極間にパルス状の電界を印加することにより原料ガスをグロー放電プラズマ化させ、薄膜を形成することを特徴とする半導体素子の製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing the semiconductor element comprises the steps of introducing a material gas between the counterposed electrodes under the pressure which is close to the atmospheric pressure, in the case of forming the low permittivity interlayer insulating thin film in the element, applying a pulse-like electric field between the opposed electrodes to generate the glow discharge plasma in the material gas, and forming the thin film. - 特許庁