半導体用シリコンウェハーの英語

半導体産業の発展に伴い、より高精度、高品質のシリコンウェハーが求められ、それに伴いより高性能のシリコンウェハー用の研磨液が求められている。例文帳に追加

To provide a higher-performance polishing liquid for a silicon wafer so as to meet the needs in the semiconductor industry where a higher accuracy and higher quality of silicon wafer is required accompanying its development. - 特許庁

高いエッチング耐性を持ったマスク材を用い、シリコンウェハーなどの基板上に形成した被加工膜を所定の形状にパターニングすることが可能となる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device manufacturing method wherein an object film formed on a substrate such as a silicon wafer is patterned into a specified shape by using a masking material high in etch resistance. - 特許庁

半導体製造機器の温度変化による寸法変化を十分に抑制して半導体製品の寸法精度を向上させることができ、かつシリコンウェハーへのダメージ、およびパーティクルの発生を抑制し得る半導体製造機器用セラミックス部材を提供すること。例文帳に追加

To provide a ceramic member which can sufficiently inhibit the dimensional change of semiconductor production equipment due to the change of temperature to improve the dimensional accuracy of semiconductors and can control the generation of damages on silicon wafers and the generation of particles. - 特許庁

半導体基板を製造する工程で、半導体層であるａ−Ｓｉやポリシリコン等のドライエッチング時に発生する残渣物を容易に除去でき、さらにガラス、シリコンウェハー、プラスチック等の基板や薄膜回路に使用されるａ−Ｓｉ、ポリシリコンや配線材料を全く腐食することなく極めて効率良く半導体基板を洗浄する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning method of easily removing residues generated at dry-etching carried out for etching an a-Si semiconductor layer or a polysilicon semiconductor layer and very efficiently cleaning a semiconductor substrate without corroding a silicon wafer, a board of glass, plastic or the like, and a-Si, polysilicon, and wiring materials used for a thin film circuit at all in a semiconductor substrate manufacturing process. - 特許庁