堆積学の英語

誘電ギャップ充填用のマルチステップ堆積・エッチング・堆積（ＤＥＰ−ＥＴＣＨ−ＤＥＰ）高密度プラズマ化学気相堆積プロセス例文帳に追加

MULTI-STEP DEP-ETCH-DEP (DEPOSITION-ETCHING-DEPOSITION) HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS FOR FILLING DIELECTRIC GAP - 特許庁

上記アモルファスＡｌ_２Ｏ_３膜は、化学気相堆積法、原子層堆積法又はスパッタ法を用いて、堆積される。例文帳に追加

The amorphous Al_2O_3 film can be deposited using a chemical vapor deposition, atomic layer deposition or sputtering process. - 特許庁

バリヤ層を堆積する前に、化学蒸着法および電気泳動堆積法でボンディングコートを絶縁層に堆積させてもよい。例文帳に追加

The bonding coat may be deposited on the insulating layer by a chemical vapor deposition process and an electrophoretic deposition process prior to the deposition of the barrier layer. - 特許庁

液体供給源の化学気相堆積によりルテニウム膜を基板に堆積する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of depositing a ruthenium film on a substrate via liquid source chemical vapor deposition. - 特許庁

有機銅の先駆物質ブレンド及び化学気相堆積による銅の堆積方法例文帳に追加

PRECURSORY SUBSTANCE BLEND OF ORGANIC COPPER AND METHOD FOR DEPOSITING COPPER BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION - 特許庁

堆積ディスク状光学レンズアレイ、堆積レンズモジュール及びその製法を提供する。例文帳に追加

To provide a stacked disk-shaped optical lens array, a stacked lens module, and a method of manufacturing the same. - 特許庁

化学気相堆積プロセスを用いて高ｋ誘電物質を堆積させる方法例文帳に追加

METHODS FOR DEPOSITING HIGH-K DIELECTRIC MATERIAL USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS - 特許庁

金属電極用のルテニウム膜の化学気相堆積例文帳に追加

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF RUTHENIUM FILM FOR METAL ELECTRODE APPLICATION - 特許庁