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焦珪の英語
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レジストを「焦げ」の発生を防ぎつつ除去し、さらにプラズマ酸化珪素膜を半導体ウェハ内部の不純物の再分布を抑制しながら高速に形成する半導体素子の製造方法及び半導体素子を提供する。例文帳に追加
To provide a method for manufacturing a semiconductor element wherein a resist is removed while preventing generation of "burnt deposits" and furthermore, a plasma oxidation silica film is formed at high speed controlling redistribution of dopant inside a semiconductor wafer, and to provide a semiconductor element. - 特許庁
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