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珪化水素の英語
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英訳・英語 silicane; hydrogen silicide
「珪化水素」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 190件
珪フッ化水素酸、水、及び珪フッ化水素酸塩を含有するエッチング液。例文帳に追加
This etchant contains hydrosilicofluoric acid, water and hydrosilicofluoric acid salt. - 特許庁
一つの珪素結合水素原子を有する環式有機珪素末端封鎖化合物例文帳に追加
CYCLIC ORGANOSILICON TERMINAL BLOCKED COMPOUND HAVING ONE SILICON-BONDING HYDROGEN ATOM - 特許庁
珪素水素化物ガスの供給方法例文帳に追加
METHOD FOR SUPPLYING SILICON HYDRIDE GAS - 特許庁
炭化珪素水素分離膜の製造方法例文帳に追加
METHOD OF PRODUCING SILICON CARBIDE MEMBRANE FOR SEPARATING HYDROGEN - 特許庁
珪素含有ナフサの接触水素化処理法例文帳に追加
METHOD FOR CATALYTIC HYDROGENATION TREATMENT OF SILICON- CONTAINING NAPHTHA - 特許庁
低誘電率を有する水素化オキシ炭化珪素フィルムの製造方法例文帳に追加
MANUFACTURE OF OXY SILICON CARBIDE HYDRIDE FILM HAVING LOW DIELECTRIC CONSTANT - 特許庁
珪化カルシウムを使用する成形焼結用二水素化チタンの製法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING TITANIUM DIHYDRIDE FOR MOLDING AND SINTERING USING CALCIUM SILICIDE - 特許庁
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「珪化水素」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 190件
重水素は化学的に水素に似ているので、酸化プロセスは通常に起こり、シリコン−酸化珪素界面は同時に重水素で飽和される。例文帳に追加
Since the deuterium resembles hydrogen chemically, an oxidizing process always occurs, and a silicon-silicon oxide interface is saturated with the deuterium at the same time. - 特許庁
珪質固体触媒の製造方法及び低級炭化水素の製造方法例文帳に追加
METHOD OF MANUFACTURING SILICEOUS SOLID CATALYST, AND METHOD OF MANUFACTURING LOWER HYDROCARBON - 特許庁
水素より多くの細孔径を、水素が選択的に透過可能な径に制御することができる、炭化珪素水素分離膜の製造方法を提供すること例文帳に追加
To provide a method of producing a silicon carbide membrane for separating hydrogen capable of controlling a pore diameter through which hydrogen can selectively pass. - 特許庁
珪素水素水を加熱し生成される高熱蒸気と、炭化籾殻から抽出した珪素とを混合して生成された水溶性有機珪素を得る。例文帳に追加
The water-soluble organosilicon is generated by mixing the high-temperature steam generated by heating the silicon hydrogen water with a silicon extracted from the carbonized rice husk. - 特許庁
石英反応管1内で水素を含まない雰囲気中で炭化珪素薄膜を炭化珪素単結晶基板5上に成長させることにより、炭化珪素が水素と可逆反応を起こして珪素や炭素の水素化物となって気化するのが防止される。例文帳に追加
It is prevented that silicon carbide is reversibly reacted with hydrogen to be vaporized as the hydride of silicon and carbon are inhibited by growing a silicon carbide thin film on a silicon carbide single crystal substrate 5 in an atmosphere free from hydrogen in a quartz reaction tube 1. - 特許庁
化学蒸着により水素化オキシ炭化珪素の低誘電率薄膜を製造する方法を与える。例文帳に追加
To obtain a method for manufacturing a low-dielectric-constant thin film of oxy silicon carbide hydride through chemical deposition. - 特許庁
化学蒸着により水素化オキシ炭化珪素の低誘電率薄膜を製造する方法を与える。例文帳に追加
To provide a method for producing hydrogenated silicon oxycarbide films having a low dielectric constant, by chemical vapor deposition. - 特許庁
また、酸化珪素膜を形成する前に、酸素と塩化水素や塩素を有する炭化水素とのプラズマによってシリコン領域を処理する。例文帳に追加
Before forming the silicon oxide film, the silicon regions are treated with a plasma of oxygen with hydrogen chloride or a chlorine-containing hydrocarbon. - 特許庁
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