硅化の英語

更に第３のＦＲＰ樹脂２２の硬化前に硅砂２４を散布し、その硬化後に、第３のＦＲＰ樹脂２２に固定された硅砂２４以外の硅砂を除去する。例文帳に追加

Furthermore, quartz sand 24 is sprayed before the curing of the third FRP resin 22, and after the curing except for the quartz sand 24 fixed on the third FRP resin 22 is removed. - 特許庁

弗素を含む硅素化合物と水素を含む硅素化合物との合計ガス流量に対する弗素を含む硅素化合物ガスの流量は、５０％から１％の範囲である。例文帳に追加

The gas flow rate of the fluorine containing silicon compound with respect to the total gas flow rate of the fluorine containing silicon compound and the hydrogen containing silicon compound is within the range of 1% to 50%. - 特許庁

また化石粉体は、サンゴ化石、硅藻化石、微生物化石等の化石鉱物を粉砕して製造される。例文帳に追加

The fossil powder is produced by grinding fossil minerals, such as a coral fossil, a diatomaceous fossil and a microbial fossil. - 特許庁

硅素塩化物Ｃについては、ＳｉＨＣｌ_3生成工程へ戻す。例文帳に追加

The silicon chloride C is returned to the SiHCl_3 production step. - 特許庁

酸素のプラズマに弗素を含む硅素化合物ガスと水素を含む硅素化合物ガスとを混合させて導入し、気相成長を利用して基板４０の表面に弗素を含む酸化硅素薄膜を作成する。例文帳に追加

The fluorine containing silicon oxide thin film is formed on a surface of a substrate 40 using a vapor phase growth process by introducing a mixture of oxygen plasma, fluorine containing silicon compound gas, and hydrogen containing silicon compound gas. - 特許庁

溶液法により、転位密度の低い炭化硅素単結晶を製造する。例文帳に追加

To produce a silicon carbide single crystal with low dislocation density by a solution process. - 特許庁

(4) 保護層が、酸化硅素、窒化硅素及び錫添加酸化インジウムからなる群から選ばれた少なくとも１種からなる層であることを特徴とする上記(1)〜(3)の方法。例文帳に追加

In the methods (1) to (3), the protective layer is composed of at least one oxide selected from among a group of silicon oxide, silicon nitride, and tin-added indium oxide (4). - 特許庁

本発明で用いる塩化硅素ガスは、具体的にはＳｉＣｌ４（四塩化硅素）およびＳｉ２Ｃｌ６（六塩化二硅素）であり、本発明で用いるクロルシランガスは、具体的には、ＳｉＨＣｌ３（トリクロルシラン）およびＳｉＨ２Ｃｌ２（ジクロルシラン）である。例文帳に追加

The silicon chloride gas is preferred to be SiC14 (silicon tetrachloride) and Si2C16 (disilicon hexachloride), while the chlorosilane gas is preferred to be SiHC13 (trichlorosilane) and SiH2C12 (dichlorosilane). - 特許庁