窒化けい素薄膜の英語

窒化けい素基板、その製造方法およびその基板を用いた薄膜付き窒化けい素基板例文帳に追加

SILICON NITRIDE SUBSTRATE, METHOD OF PRODUCING THE SAME AND SILICON NITRIDE SUBSTRATE HAVING THIN FILM OBTAINED BY USING THE SUBSTRATE - 特許庁

また窒化物薄膜１７の形成後は、窒化物薄膜１７の表面がアンモニアガスで覆われ、窒素の蒸発が十分防止される。例文帳に追加

The surface of the nitride thin film 17 is covered by ammonia gas and evaporation of nitrogen is sufficiently prevented after the nitride thin film 17 is formed. - 特許庁

ＩＩＩ族金属窒化物薄膜の製造方法およびＩＩＩ族金属窒化物系半導体素子例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING III GROUP METAL NITRIDE THIN FILM AND III GROUP METAL NITRIDE-BASED SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

所望の窒素量を含んだ酸窒化膜を薄膜化することができる酸窒化膜形成方法及び酸窒化膜形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming an oxynitride film and an apparatus for forming the oxynitride film that can make the oxynitride film including a desired quantity of nitrogen a thin film. - 特許庁

半導体デバイスメタライゼーション要素用の障壁層は、要素くぼみ中に形成されたシリコン窒化物薄膜とシリコン窒化物薄膜上に形成された耐熱性金属薄膜を供する。例文帳に追加

The barrier layer for a semiconductor metallization element provides a silicon nitride thin film, formed in a recess of the element, and a heat resistant metal thin film, formed on the silicon nitride thin film. - 特許庁

半導体デバイスメタライゼーション要素用の障壁層は、要素くぼみ中に形成されたシリコン窒化物薄膜とシリコン窒化物薄膜上に形成された耐熱性金属薄膜を供する。例文帳に追加

The barrier layer for the semiconductor device metallization component provides a silicon nitride film formed in a component recess and a refractory metal film formed over the silicon nitride film. - 特許庁

本発明は、基板に形成した銀薄膜と前記銀薄膜上に形成した窒化珪素保護膜からなる反射部材を提供する。例文帳に追加

The reflector member includes a silver thin film formed on a substrate and a silicon nitride protection film formed on the silver thin film. - 特許庁

５００Å以下に薄膜化した薄膜材料からなる抵抗素子の上にシリコン窒化膜などの絶縁膜を形成する。例文帳に追加

An insulating film, such as a silicon nitride film, is formed on a resistance element formed of a thin-film material having a thickness of 500 Å or less. - 特許庁