1次相互反応の英語

次いで、この多層膜構造５に対して熱処理を施し、シリコン基板１中のシリコン元素、下地膜２中のシリコン元素及び炭素元素、及びニッケル含有薄膜３中のニッケル元素を相互拡散させるとともに、化学的に反応させて炭素を含むニッケルシリコン系薄膜６を作製する。例文帳に追加

Then this multi-layered structure 5 is heat-treated for mutually diffusing silicon elements in the silicon substrate 1, silicon elements and carbon elements in the base film 2, and nickel elements in the nickel containing thin film 3 and subject them to chemical reaction, thereby manufacturing the nickel silicon based thin film 6 containing carbon. - 特許庁

シリコン基板１上に金属酸化膜２を形成し、次いで、ポリシリコンよりなる電極３を形成し、その後加熱して、前記金属酸化膜２とシリコン基板１とを、および、前記金属酸化膜２とポリシリコン電極３とを、それぞれ、相互拡散反応させて珪酸金属膜５を前記シリコン基板１上に形成するようにした。例文帳に追加

A metal oxide film 2 is formed on a silicon substrate 1, a polysilicon electrode 3 is formed thereon and then it is heated to cause mutual diffusion between the metal oxide film 2 and the silicon substrate 1 and between the metal oxide film 2 and the polysilicon electrode 3 thus forming a metal silicate film 5 on the silicon substrate 1. - 特許庁