6-MOS memory cellとは 意味・読み方・使い方

A semiconductor memory device 50 includes a PMOS sense circuit 1, an NMOS sense circuit 2, a precharge circuit 3, a dummy cell circuit 4, a column selection circuit 5, a separation circuit 6, a memory cell array MCA 1, a memory cell array MCA 2, and Nch MOS transistors NT 1 to 6.例文帳に追加

半導体記憶装置５０には、ＰＭＯＳセンス回路１、ＮＭＯＳセンス回路２、プリチャージ回路３、ダミーセル回路４、カラム選択回路５、切り離し回路６、メモリセルアレイＭＣＡ１、メモリセルアレイＭＣＡ２、及びＮｃｈ ＭＯＳトランジスタＮＴ１乃至６が設けられる。 - 特許庁

In addition, source/drain of a MOS transistor in the memory cell part are made into double diffusion layer structure 5, 6, and source/drain of the MOS transistor in the peripheral circuit part are made into triple diffusion layer structure 5, 6, 7.例文帳に追加

また、メモリセル部におけるＭＯＳトランジスタのソース／ドレインを二重拡散層構造５，６とし、周辺回路部におけるＭＯＳトランジスタのソース／ドレインを三重拡散層構造５，６，７にする。 - 特許庁

A memory cell is formed of a MOS transistor comprising a floating gate 6, a control gate 7 forming the word line WL, and an embedded gate 8.例文帳に追加

メモリセルは、浮遊ゲート６、ワード線ＷＬを構成する制御ゲート７および埋め込みゲート８を有するＭＯＳトランジスタで構成される。 - 特許庁

The memory cell is constituted of a variable resistor element 1, a MOS transistors 2 as a switching element which controls voltage applied to both ends of the variable resistor element 1, and a resistive element 6 with nonlinear current voltage property which is connected between the MOS transistor 2 and the variable resistor elements 1 (or connected to the drain side of the MOS transistor 2 in series).例文帳に追加

可変抵抗素子１と、可変抵抗素子１の両端に印加する電圧を制御するスイッチング素子としてのＭＯＳトランジスタ２と、可変抵抗素子１とＭＯＳトランジスタ２との間（又はＭＯＳトランジスタ２のドレイン側）に直列に接続された、非線形電流電圧特性を有する抵抗素子６とを備えるメモリセルとして構成した。 - 特許庁

The device has a resistance element 6 formed on a resistance element forming region 17 of a Si substrate 1, using a wiring layer 20 formed at the same time as forming a gate electrode 12 of a MOS type transistor 22 constituting a memory cell in a transistor forming region 18 of the substrate 1 when forming the resistance element 6.例文帳に追加

開示されている半導体装置１０は、シリコン基板１の抵抗素子形成領１７に抵抗素子６を形成するにあたり、基板１のトランジスタ形成領域１８にメモリセルを構成するＭＯＳ型トランジスタ２２のゲート電極２２の形成時に同時に形成された配線層２０を用いて抵抗素子６を形成する。 - 特許庁