CVD oxideとは 意味・読み方・使い方

The gate oxide film 14 is structured by combining thermal oxide films 141, 143 and a CVD oxide film 142.例文帳に追加

ゲート酸化膜１４は熱酸化膜１４１，１４３とＣＶＤ酸化膜１４２の組み合わせで構成されている。 - 特許庁

LIQUID RAW MATERIAL FEEDING DEVICE FOR CVD, CVD SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE SUPERCONDUCTOR例文帳に追加

ＣＶＤ用液体原料供給装置、ＣＶＤ装置、及び酸化物超電導体の製造方法 - 特許庁

Then a nitride film 4 is deposited on the CVD oxide film 3.例文帳に追加

そして、このＣＶＤ酸化膜３上に窒化膜４を堆積させる。 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING GAS BARRIER SILICON OXIDE THIN FILM BY CVD PROCESS例文帳に追加

ＣＶＤ法によるガスバリア性酸化珪素薄膜の成膜方法 - 特許庁

PREPARATION OF METAL OXIDE THIN FILM VIA CYCLIC CVD OR ALD例文帳に追加

循環ＣＶＤ又はＡＬＤによる金属酸化物薄膜の調製 - 特許庁

CVD FACILITY HAVING FUNCTION OF REMOVING NATURAL OXIDE FILM, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD UTILIZING CVD FACILITY例文帳に追加

自然酸化膜除去機能を備えたＣＶＤ設備、及び同ＣＶＤ設備を利用した薄膜形成方法 - 特許庁

After the thermal oxide film 141, succeedingly the CVD oxide film 142 are generated, annealing is conducted in an N2 atmosphere.例文帳に追加

熱酸化膜１４１、続いてＣＶＤ酸化膜１４２の生成後、Ｎ_2 雰囲気でアニール処理を行う。 - 特許庁

The first oxide film 8 is an oxide film formed by thermal oxidation, and the second oxide film 13 is an oxide film formed by CVD.例文帳に追加

第１の酸化膜８は熱酸化法によって形成された酸化膜であり、第２の酸化膜１３はＣＶＤ法によって形成された酸化膜である。 - 特許庁